최근 무선 멀티미디어 통신 수요의 팽창에 따른 주파수 부족 문제를 해결할 수 있는 방안으로 기술 및 서비스 중립성을 가지는 개방형 주파수 할당 방식의 도입이 예상되면서 여기에 적합한 새로운 간섭 관리의 모렐 및 기준 설정이 요구된다. 본 논문에서는 우리나라의 이러한 새로운 간섭 관리를 위한 모델로 여러 가지 후보 방식들을 고려한 결과, Block Edge Mask (BEM) 방식을 가장 적합한 모델로 선정한다. 그리고 BEM의 기준치 설정에 따른 간섭 영향을 알아보기 위해 디지털 방송 전환 여유 대역에 LTE 시스템의 사용을 가정하여, 이종 시스템인 디지털 지상파 텔레비전 방송 (DTV) 서비스와 LTE 이동통신 서비스의 경계 대역에서의 BEM의 대역 외 방출(Out-of-band emission) 기준을 유도하고 보호 대역의 설정에 따른 영향을 알아본다.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제14권1호
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pp.28-31
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2013
A volcano shaped gated Si-FEA (silicon field emitter array) was simply fabricated using sputtering as a gate electrode deposition and lift-off for the removal of the oxide mask, respectively. Due to the limited step coverage of well-controlled sputtering and the high aspect ratio in Si dry etch caused by high RF power, it was possible to obtain Si FEAs with a stable volcano shaped gate structure and to realize the restriction of gate leakage current in field emission characteristics. For 100 tip arrays and 625 tip arrays, gate leakage currents were restricted to less than 1% of the anode current in spite of the volcano-shaped gate structure. It was also possible to keep the emitters stable without any failure between the Si cathode and gate electrode in field emission for a long time.
본 연구에서는 우리나라 DTV 방송의 대역외발사강도 기술기준 및 기존 측정방식의 문제점들을 분석하였으며, 지상파 DTV 방송의 대역외발사강도를 효과적으로 측정할 수 있는 방안들을 제안하였다. 고가의 전용 측정장비로만 측정가능한 기존방식에 비해 제안한 방식은 범용장비로도 대역외발사강도를 손쉽게 측정할 수 있으며, 실제 측정시스템 구현을 통하여 제안한 방식의 유효성을 입증하였다. 본 논문에서 제안된 방식은 경제적이고도 간편하므로 방송장비 이외의 무선 송신장치 특성측정에도 널리 사용될 수 있다.
본 논문에서는 몬테카를로(Monte-Carlo) 방법을 이용해서 900MHz 수동형 RFID 시스템간의 간섭확률(Probability of Interference)을 획득하는 방법을 제시한다. 간섭원으로 동작하는 RFID 리더 방사 마스크 (emission mask)가 주워졌을 때 방사 마스크로부터 수신기 필터로 수신되는 in-band 간섭전력을 적은 계산 량으로 계산하는 방법을 제시하며 또한 수신 필터의 특성이 주워졌을 때 블로킹에 의한 out-of-band 간섭전력을 계산하는 방법도 제시한다. 제시된 방법에 근거해서 900MHz 대역에서 FHSS 시스템을 사용하는 RFID시스템의 경우와 채널을 센싱 후 송신을 시작하는 LBT 기능이 있는 FHSS 시스템 두 경우에 대해서 간섭확률을 계산한다. ERO에서 개발한 SEAMCAT 소프트웨어로 시뮬레이션하고 SEAMCAT 알고리즘을 MATLAB 툴로 구현 후 MATLAB으로 시뮬레이션 하여 결과가 거의 유사함을 보인다.
We have developed an electron lithography method, Electron Emission Lithography (EEL), which is capable of printing integrated circuits with an exposure time of only a few seconds. The basic design of the mask, manufactured by standard MIM technology, will be discussed. Patterns printed into e-beam resist by a 1:1 projection system show the applicability of the mask for lithography purposes. The minimum feature size projected so far is 10 um in a system capable of 100 m resolution. Further improvements in resolution to 50 nm are possible.
Carbon nanotubes (CNTs) are attractive for field emitter because of their outstanding electrical, mechanical, and chemical properties. Several applications using CNTs as field emitters have been demonstrated such as field emission display (FED), backlight unit (BLU), and X-ray source. In this study, we fabricated a CNT cathode using transparent ultra-thin CNT film. First, CNT aqueous solution was prepared by ultrasonically dispersing purified single-walled carbon nanotubes (SWCNTs) in deionized water with sodium dodecyl sulfate (SDS). To obtain the CNT film, the CNT solution in a milliliter or even several tens of micro-litters was deposited onto a porous alumina membrane through vacuum filtration process. Thereafter, the alumina membrane was solvated by the 3 M NaOH solution and the floating CNT film was easily transferred to an indium-tin-oxide (ITO) glass substrate of $0.5\times0.5cm^2$ with a film mask. The transmittance of as-prepared ultra-thin CNT films measured by UV-Vis spectrophotometer was 68~97%, depending on the amount of CNTs dispersed in an aqueous solution. Roller activation, which is a essential process to improve the field emission characteristics of CNT films, increased the UV-Vis transmittance up to 93~98%. This study presents SEM morphology of CNT emitters and their field emission properties according to the concentration of CNTs in an aqueous solutions. Since the ultra-thin CNT emitters prepared from the solutions show a high peak current density of field emission comparable to that of the paste-base CNT emitters and do not contain outgassing sources such as organic binders, they are considered to be very promising for small-size-but-high-end applications including X-ray sources and microwave power amplifiers.
As semiconductor device technology continuously shrinks, low-open area etch process prevails in front-end etch process, such as contact etch as well as one cylindrical storage (OCS) etch. To eliminate over loaded wafer processing test, it is commonly performed to emply diced small coupons at stage of initiative process development. In nominal etch condition, etch responses of whole wafer test and coupon test may be regarded to provide similar results; however, optical emission spectroscopy (OES) which is frequently utilize to monitor etch chemistry inside the chamber cannot be regarded as the same, especially etch mask is not the same material with wafer chuck. In this experiment, we compared OES data acquired from two cases of etch experiments; one with coupon etch tests mounted on photoresist coated wafer and the other with coupons only on the chuck. We observed different behaviors of OES data from the two sets of experiment, and the analytical results showed that careful investigation should be taken place in OES study, especially in coupon size etch.
Jo Han-Shin;Yoon Hyun-Goo;Lim Jae-Woo;Chung Woo-Ghee;Yook Jong-Gwan;Park Han-Kyu
Journal of Communications and Networks
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제8권2호
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pp.187-193
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2006
In this paper, we study the coexistence of orthogonal frequency division multiplexing (OFDM)-based systems beyond 3G (B3G) and point-to-point (P-P) fixed service (FS) microwave systems. The advanced general analytical model derived via a power spectral density (PSD) analysis proposed in this paper has two advantages in comparison with the conventional minimum coupling loss (MCL) method. First, the interfering signal power that appears in the band of a victim system can be easily assessed without a spectrum emission mask. Second, when transmit power is not allocated to some subcarriers overlapping the band of the victim system in order to mitigate B3G OFDM-based systems interference with other systems, the general analytical model can successfully assess the interference from the B3G systems into FS systems, whereas the MCL method incorporating the spectrum emission mask cannot be applied in the presence of the same interference condition. The proposed model can be derived in a closed form and is simply implemented with the help of simulation, and thus the solution can be obtained in significantly reduced time. Through application of the proposed model, coexistence results are analyzed in a co-channel and adjacent channel with respect to guard band and minimum separation distance.
본 논문에서는 2.6 GHz 대역에서 WCDMA (Wideband Code Division Multiple Access) 시스템과 M-WiMAX (Mobile-Worldwide Interoperability for Microwave Access) 시스템 모두 SISO (Single Input Single Output) 만을 적용한 상태에서, 상호 시스템 간에 미치는 간섭의 영향을 분석한다. 간섭이 발생하는 경우는 각 시스템 별로 네 가지로써, 총 여덟 가지의 경우가 존재한다. 그 중에서도 간섭원의 하향링크가 피간섭원의 상향링크에 미치는 간섭의 크기가 가장 심각한 경우임을 밝히며, 간섭의 영향을 최소화하기 위해 여덟 가지 경우 모두에 5MHz 의 보호대역을 적용한다. 특히 M-WiMAX 시스템이 피간섭원인 경우가 WCDMA 시스템이 피간섭원인 경우에 비해 더 많은 간섭이 발생하며, 이는 두 시스템간의 최대 송신 전력의 차이가 주된 원인으로 작용한다. 본 논문에서는 실질적인 상황과는 다르게 Spectrum Mask 내에 간섭원에 해당되는 시스템의 송신전력이 가득 채워져 있는 경우로 가정하였기 때문에, 보다 엄격한 Emission Mask를 사용하고 실질적인 시스템 간 간섭분석의 Worst-case 결과로 볼 수 있다.
부호화 구경 카메라는 바늘구멍 카메라의 고분해능 특성을 유지하면서 신호대잡음비를 향상시키기 위해 개발되었다. 이 연구의 목적은 몬테칼로 모사방법을 이용하여 부호화 구경 카메라의 최적화 및 성능 분석을 통해 갑상선 영상의 가능성을 평가하는 것이다. GATE 코드를 이용하여 부호화 구경의 두께에 따른 부호화 구경 카메라의 Tc-99 m 선원에 대한 공간분해능, 신호대잡음비, 균일도를 평가하였다. 그리고 부호화 구경 카메라와 바늘구멍 카메라의 영상 획득 성능을 비교하였다. 연구 결과 부호화 구경 마스크 두께에 따른 분해능 차이는 거의 없었으나, 신호대잡음비는 구경 두께가 두꺼워질수록 향상되어 최고값을 보인 뒤 다시 감소하는 추세를 보였다. 이는 두께에 따른 마스크의 투과율과 관계가 있었다. 균일도는 구경 두께가 두꺼워질수록 성능이 향상하였다. 부호화 구경 카메라의 공간분해능은 바늘구멍 카메라와 거의 비슷하였으나, 신호대잡음비는 약 30배 정도 향상되는 것을 확인하였고, 이는 부호화 구경 카메라로 고분해능, 고 신호대잡음비의 갑상선 영상 획득이 가능함을 보여준다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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