Kim, Jong-Hwan;Kang, Hyung-Ku;Han, Jin-Woo;Kang, Soo-Hee;Kim, Young-Hwan;Hwang, Jeoung-Yeon;Seo, Dae-Shik
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제7권1호
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pp.21-25
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2006
In this study, liquid crystal (LC) aligning properties for homeotropic alignment on the $SiO_x$ thin film by electron beam evaporation method with electron beam system in accordance with the evaporation angles were investigated. Also, the control of pretilt angles homeotropic aligned LC on $SiO_x$ thin film as the function of the evaporation angles were studied. The uniform vertical LC alignment on the $SiO_x$ thin film surfaces with electron beam evaporation was achieved with all of the thin film angle conditions. It is considerated that the LC alignment on the $SiO_x$ thin film by electron beam evaporation is attributed to elastic interaction between LC molecules and micro-grooves at the $SiO_x$ thin film surface created by evaporation. The values of the pretilt angles according to the evaporation angle were from about $0.7^{\circ}$ to about $3.4^{\circ}$. The highest pretilt angles of about $3.4^{\circ}$ in aligned NLC on the $SiO_x$ thin film surfaces by electron beam evaporation were measured under the condition of $45^{\circ}$. Also, good LC alignment states on the treated $SiO_x$ thin film layer by electron beam evaporation were observed at annealing temperature of $250^{\circ}C$. Consequently, the high pretilt angle and the good thermal stability of LC alignment on the $SiO_x$ thin film by electron beam evaporation can be achieved.
Structural, optical and electrical properties of CdS films deposited by chemical bath deposition (CBD), which are a very attractive method for low-cost and large-area solar cells, are presented. Cadmium sulfide (CdS) is II-VI semiconductor with a wide band gap of approximately 2.42 eV. CdS films have a great application potential such as solar cell, optical detector and optoelectronics device. In this paper, effects of Rapid Thermal Process (RTP) on the properties of CdS films were investigated. The CdS films were prepared on a glass by chemical bath deposition (CBD) and subsequently annealed at standard temperature $(400^{\circ}C)$ and treatment time (10 min) in various atmospheres (air, vacuum and $N_2$). The CdS films treated RTP in $N_2$ for to min were showed larger grain size and higher carrier density than the other samples.
한국전기전자재료학회 2002년도 춘계학술대회 논문집 유기절연재료 전자세라믹 방전플라즈마 일렉트렛트 및 응용기술
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pp.53-57
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2002
Reduction of insulation thickness would be beneficial not only for increasing the cable length but would also improve its thermal performance. An interfacial diffusion method was devised to reduce insulation thickness by improving the interfacial properties of XLPE cable insulation. In this paper, to evaluate superficially the interface properties between XLPE insulation and semiconducting layer, the dielectric and insulation properties of tan${\delta}$ and volume resistance were measured with temperature dependence. Above the results, dielectirc and insulation properties with semiconductor/XLPE were more anormal than its bulk caused by the interfacial properties.
In recent years, the tantalum nitride(TaN) thin-film has been developed for the electronic resistor and capacitor. In this papers, this study presents the surface profile and sheet-resistance property relationship of reactive-sputtered TaN thin film resistor processed by buffer of Ti and Cr on alumina substrate. The TCR properties of the TaN films were discussed in terms of reactive gas ratio, ratio of nitrogen, crystallization and thin films surface morphology due to annealing temperature. It is clear that the TaN thin-films resistor electrical properties are low TCR related with it's buffer layer condition. Ti buffer layer thin film resistor having a good thermal stability and lower TCR properties then Cr buffer expected for the application to the dielectric material of passive component.
한국전기전자재료학회 2004년도 춘계학술대회 논문집 반도체 재료 센서 박막재료 전자세라믹스
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pp.60-63
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2004
Recently, carbon nanotubes(CNTs) have been demonstrated to possess remarkable mechanical and electronic properties, in particular, for field emission applications. Its high aspect ratio and extremely small diameter, hollowness, together with high mechanical strength and high chemical stability, are advantages for use in field emitter. In this paper, we demonstrate electrical discharge properties from carbon nanotube cathode electrodes to use as an emitter electrode of vacuum gauges. Vertically aligned $2{\times}2mm^2$ CNT arrays on the silicon substrate were synthesized by the thermal CVD method on Fe catalytic metal, and a glass patterning by the sand blast method and the silicon/glass anodic bonding processes were applied to make samples with 2 electrodes. The field emission was examined under the vacuum range of $10^{-3}$ Torr.
1200V 이상 급의 전기자동차의 파워 모듈에 적용되는 세라믹 기판은 구동 전력으로 고전력이 인가되는 특성상 고열전도도, 고 전기절연성, 저열팽창계수, 급격한 온도 변화에 대한 저항성의 특성이 요구된다. 방열기판에 적용되는 세라믹 중 질화알루미늄과 질화규소는 그 요구를 충족하는 소재로서 고려되고 있다. 이에 따라 본 논문에서는 질화알루미늄과 질화규소의 방열기판 소재로서의 특성을 상용해석프로그램을 통해 비교하였다. 그 결과 질화규소는 질화알루미늄에 대해 각각 동일한 조건의 열을 부여하는 공정을 시물레이션으로 구현했을 때 스트레스와 휨이 덜 발생하여 더 우세한 내충격성, 내stress성을 보였다. 열전도도 측면에서는 질화알루미늄이 방열 소재로서 더 우수한 특성을 지니지만 신뢰성 측면에서는 질화규소가 더 우세함을 시물레이션을 통해 관찰하였다.
PbS, CuS and (Pb,Cu)S thin films were chemically deposited on glass from alkaline baths containing lead acetate, copper chloride, thiourea and triethanolamine. The deposition, optical, resistivity and thermal electric properties of these films were studied. PbS thin films showed a hexagonal structure and CuS thin films showed amorphous. The crystalline of (Pb,Cu)S thin films was obtained by heat treatment at 200$\^{C}$ and the deposition ratio of Pb to Cu showed 7:3. The energy gap of PbS, CuS and (Pb,Cu)S thin films were 1.7, 2.1 and 2.4 eV, respectively. Sheet resistance of PbS thin films was less affected on thermal annealing, but hose of (Pb,Cu)S and CuS thin films were more reduced about 3 orders of magnitude. All of those thin films indicated p type semiconductor in temperature ranging 30$\^{C}$ to 150$\^{C}$.
Properties of oxynitride films reoxidized by $N_2{O}$ gas after thermal oxidation and $N_2{O}$ oxide films directly oxidized by using $N_2{O}$ gas on the bare silicon wafer have been studied. From the AES analysis, nitrogen pile-up at the interface of Si/oxynitride and Si/$N_2{O}$ oxide has observed. $N_2{O}$ oxide and oxynitride films have the self-limited characteristics. Therefore, it will be possible to obtain ultra-thin films. Nitrogen pile-up at the interfaces of Si/oxynitride and Si/$N_2{O}$ oxide strengthens film structure and improves dielectric reliability. Although fixed charge densities and interface trap densities of N20 oxide and oxynitride films have somewhat higher than those of thermal $SiO_2{O}$, $N_2{O}$ oxide and oxynitride films showed improved I-V characteristics and constant current stress.
현재 가로등의 93.3[%]를 차지하고 있는 나트륨램프는 색상이 적황색이며, 시력에 장애와 피로감을 주어 인체에 해로우므로 고효율 램프로 교체되고 있으며 백열전구는 전력을 많이 소모하고 잦은 고장으로 빈번한 대체와 유지보수를 필요로 하므로 LED를 선택하면, 유지보수 비용과 안전성, 에너지 효율성면에서 큰 강점을 갖는다. 본 연구에서는 에너지 효율이 높은 LED 가로등 제작을 위한 모듈을 제작하여, 열적, 광학적 분석을 하였다. 동작 150분 후, LED Module의 PCB기판 6 Point에서 Thermal Grease와 Thermal Pad의 처리에 의한 열적 변화를 측정하였으며, Thermal Grease 처리는 Thermal Pad 보다 평균 3 $[^{\circ}C]$ 정도 낮은 35 $[^{\circ}C]$결과를 얻었으며, 제작된 LED Module의 광학적평가의 결과는 10 [m] 높이에서 $20\times20\;[m^2]$ 면적에 조사된 조도의 최대,최소값은 10.9~0.6 [lx]이고, 주로 10~5 [lx] 값이 조도의 면적을 차지하였으며, 곡선은 옆으로 넓게 펼쳐진 곡선을 나타내었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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