아크용융방법으로 준비한 Ti-5Bi 합금을 산화시켜 제조한 산화티타늄의 에너지변환효율(${\eta}_e$)을 광학농도, 광에너지에 따라서 측정하였다. 그리고 광학농도 및 전해액의 pH변화에 따른 플랫-밴드전압변화를 측정하였다. 광학농도와 광에너지가 증가하면 에너지변환효율은 증가하였으며 광학농도 $0.2W/cm^2$, 조사되는 빛의 에너지가 4.0eV에서 최대 에너지변환효율은 각각 3.2%, 13%로 나타났다. 에너지변환효율은 인가전압 의존성을 보여주었으며 0.5V의 전압을 인가하였을 경우 최대값을 보여주었다. 한편 전체 광전류의 발생은 산화티타늄 공핍층 내의 전자-정공쌍의 생성반응에 의해 율속되었다. 광학농도가 증가하면 플랫-밴드전압은 -0.065V/decade의 기울기를 나타내었으며 전해액의 pH가 감소하면 플랫-밴드전압은 양의 방향으로 이동하였으며 그 기울기값은 0.059V/pH로 Nernst 식의 기울기값과 일치하였다.
Electroless Ni-Cu-P alloy plating of Al base hard disk was performed to investigate some properties according to the change of composition. It was found that the composition of Ni and Cu in deposits changed linearly with increasing the mole ratio of NiSO4.6H2O/CuSO4.5H2O. The increase in hardness by heat - treatment was confirmed to be associated with small size grained crystallization of the amorphous deposits. Acid resistance of all deposits layer. which had been heated up to 30$0^{\circ}C$, was found to be exellent when immersed in 1N-H2SO4 solution, and it showed more superior acid resistance with decreasing Cu content and with increasing P. The resistivity of the deposits heat treated became smaller at temperature more than 50$0^{\circ}C$, and it became largerly with increasing P content. Cu 44.1wt% alloy(C bath) showed the most superior non-magnetically stable characteristics after heat treatment. It was superiorly with higher temperature and with decreasing P content.
Small sized manganese dioxide particles are immobilized onto the surface of sand by the wet impregnation process. The surface morphology of the solid, i.e., immobilized manganese dioxide natural sand (IMNS) is performed by taking scanning electron microscope images and characterized by the X-ray diffraction data. The specific surface area of the solid is obtained, which shows a significant increase in the specific surface area obtained by the immobilization of manganese dioxide. The $pH_{PZC}$ (point of zero charge) is found to be 6.28. Further, the IMNS is assessed in the removal of As(III) and As(V) pollutants from aqueous solutions under the batch and column operations. Batch reactor experiments are conducted for various physicochemical parametric studies, viz. the effect of sorptive pH (pH 2.0-10.0), concentration (1.0-25.0 mg/L), and background electrolyte concentrations (0.0001-0.1 mol/L $NaNO_3$). Further, column experiments are conducted to obtain the efficiency of IMNS under dynamic conditions. The breakthrough data obtained by the column experiments are employed in non-linear fitting to the Thomas equation, so as to estimate the loading capacity of the column for As(III) and As(V).
This research was conducted in the laboratory to investigate an alternative of Copper(Cu) removal from an heavymetal wastewater using the electrochemical precipitation(ECP) process. The ECP unit consisted of an electrolytic cell made of Titanium plate and Steel plate representing anode and cathode. The DC power source applied to the ECP unit had electrical potential(E) of 50$\pm$ 1V, respectively. The synthetic wastewater used in the experiments contained Cu in the 10 mg/l concentration and the electrode separation were 2, 3, 4 cm and the initial pH were 3, 6, 9, 12, and electrolytic concentration were 0.005, 0.0125, 0.025, 0.0375 mole, and the real heavymetal wastewater used in the experiments. From the experiment for removal efficiency according to pH variation, the low pH area doesn't give the coagulation effect by Ti(OH)$_4$ because process interfere with the coagulation and oxidation reaction, therefore the optimum pH was 4-7. The removal rate was 97.75% after the lapse of 30 minutes when copper concentration and electrolytic concentration were respectively 10 mg/l and 0.025 mole. The removal rate was 96.41% after the lapse of 30minutes when the real heavymetal wastewater used. The optimum consumption of power showed 27KWh/m$^3$ when copper concentration, electrolyte concentration and cell potential were respectively 10 mg/l, 0.025 mole and 50$\pm$ 1 Volt.
염산 수용액을 전해액으로 하여 물의 전기분해가 일어나는 조건에서 양극에 충전된 납-흡착 활성탄으로부터 납의 제거 실험결과, 흐름 조건으로서 양극부와 음극부의 유량이 동일한 경우 전체 유량 10 mL/min이 적당하며 전류 증가는 양극에서의 pH를 감소시키고 양극에서의 pH 감소가 납의 제거율 증가를 가져옴을 알 수 있었다. 물의 전기분해를 이용하는 본 방법은 산세척법에 비하여 약품 사용량을 줄이면서 납-흡착 활성탄으로부터 납을 효과적으로 제거할 수 있는 방법임을 알 수 있었다.
Ni(II)-Monoethanolamine(MEA)錯鹽의 水銀電極表面에 있어서의 還元反應의 反應機構를 폴라로그라프법을 써서 解明하였다. 이 錯鹽의 電極環元의 可逆程度를 直流 및 交流 폴라로그람으로 檢討하였더니 pH가 9.0보다 낮은 範圍에서는 錯鹽의 反應電流로 推測되는 非可逆性波를 나타니고 pH $9.5{\sim}11.0$ 사이에서는 Cd(II)波에 相當하는 比較的 可逆的인 well defined wave를 얻었다. MEA의 濃度와 pH를 變함으로서 얻은 波를 檢討한 結果 還元波는 이를 ligands와 빠른 平衡에 있는 Ni錯鹽에 基因하고 이 錯鹽의 化學式은 $Ni(MEA)_3OH$이고 總安定度常數는 約 $10^{20}$임을 밝혀내었다.
전기분해와 공침법을 이용한 해수 중의 납 제거 가능성에 대하여 실험하였다. 전기분해조는 음이온교환수지를 채운 격막으로 분리되었다. 전기분해가 진행됨에 따라 음극식의 pH는 상승하여 콜로이드 형태의 $Mg(OH)_2$와 $CaCO_3$이 생성되었다. 넓은 표면적을 가지는 콜로이드 입자는 납 이온을 흡착하여 침천되었다. 전류밀도를 변화시키면서 바닷물의 전기분해하였으며 바닷물에 남아있는 Mg, Ca, Pb의 양을 적정법과 ASV 방법을 이용하여 측정하였다. 전류밀도와 pH가 증가함에 따라 바닷물 중의 납은 대부분 효과적으로 제거되었다.
A present semiconductor cleaning technology is based upon RCA cleaning technology which consumes vast amounts of chemicals and ultra pure water(UPW) and is the high temperature Process. Therefore, this technology gives rise to the many environmental issues, and some alternatives such as functional water cleaning are being studied. The electrolyzed water was generated by an electrolysis system which consists of anode, cathode, and middle chambers. Oxidative water and reductive water were obtained in anode and cathode chambers, respectively. In case of NH$_4$Cl electrolyte, the oxidation-reduction potential and pH for anode water(AW) and cathode water(CW) were measured to be +1050mV and 4.8, and -750mV and 10.0, respectively. AW and CW were deteriorated after electrolyzed, but maintained their characteristics for more than 40 minutes sufficiently enough for cleaning. Their deterioration was correlated with CO$_2$ concentration changes dissolved from air. It was known that AW was effective for Cu removal, while CW was more effective for Fe removal. The particle distributions after various particle removal processes maintained the same pattern. In this work, RCA consumed about 9$\ell$chemicals, while EW did only 400$m\ell$ HCI electrolyte or 600$m\ell$ NH$_4$Cl electrolyte. It was hence concluded that EW cleaning technology would be very effective for eliminating environment, safety, and health(ESH) issues in the next generation semiconductor manufacturing.
동전기 정화기술을 이용한 오염토양 정화시에 단점으로 지적되는 $10^{+}$에 의한 전기삼투 흐름의 유속 저하와 $OH^{-}$에 의한 중금속의 침전 현상을 감소시키기 위하여 새로운 방법이 제시되었다. 이는 양극과 음극의 전해질을 직접 순환시킴으로서 양극과 음극의 전해질 pH를 조절하여 동전기 정화기술을 적용한 토양 정화시에 오염토양 복원을 위한 조업기간의 연장, 전기경사 증가율의 감소, 그리고 대상 중금속인 납 제거율을 향상시킬 수가 있었다. 이는 전해질의 pH 조절을 통하여 토양 pH를 조절함으로써 가능하였다. 또한 전해질 순환공정을 적용할 경우 유출수가 발생하지 않아 일반적으로 동전기 정화기술의 적용시의 단점으로 지적되는 유출수의 2차 처리에 대한 문제점을 해결하였으며, 유출수의 발생이 제거됨에 따라 조업시에 사용되는 전해질의 사용량 또한 획기적으로 감소시킬 수가 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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