• 제목/요약/키워드: Edge Mask

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Facial Recognition Algorithm Based on Edge Detection and Discrete Wavelet Transform

  • Chang, Min-Hyuk;Oh, Mi-Suk;Lim, Chun-Hwan;Ahmad, Muhammad-Bilal;Park, Jong-An
    • Transactions on Control, Automation and Systems Engineering
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    • 제3권4호
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    • pp.283-288
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    • 2001
  • In this paper, we proposed a method for extracting facial characteristics of human being in an image. Given a pair of gray level sample images taken with and without human being, the face of human being is segmented from the image. Noise in the input images is removed with the help of Gaussian filters. Edge maps are found of the two input images. The binary edge differential image is obtained from the difference of the two input edge maps. A mask for face detection is made from the process of erosion followed by dilation on the resulting binary edge differential image. This mask is used to extract the human being from the two input image sequences. Features of face are extracted from the segmented image. An effective recognition system using the discrete wave let transform (DWT) is used for recognition. For extracting the facial features, such as eyebrows, eyes, nose and mouth, edge detector is applied on the segmented face image. The area of eye and the center of face are found from horizontal and vertical components of the edge map of the segmented image. other facial features are obtained from edge information of the image. The characteristic vectors are extrated from DWT of the segmented face image. These characteristic vectors are normalized between +1 and -1, and are used as input vectors for the neural network. Simulation results show recognition rate of 100% on the learned system, and about 92% on the test images.

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AWGN 환경에서 에지 검출을 위한 변형된 마스크에 관한 연구 (A Study on Modified Mask for Edge Detection in AWGN Environment)

  • 이창영;김남호
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제17권9호
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    • pp.2199-2205
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    • 2013
  • 현대사회에서 영상처리는 스마트폰, 디지털 카메라, 디지털 TV 등의 여러 디지털 기기에 응용되고 있다. 영상처리 분야 중에서 에지 검출은 영상처리과정에 중요한 부분이다. 영상 에지는 배경과 물체 사이에서 화소값이 급격히 변화하는 지점이며, 크기, 위치, 방향 등의 중요한 정보를 포함한다. 기존의 에지 검출 방법은 크기가 작은 가중치 마스크를 이용하여 에지를 검출하기 때문에, AWGN(additive white Gaussian noise)에 훼손된 영상의 에지 검출 결과가 다소 미흡하다. 따라서 본 연구에서는 AWGN 환경에서 효과적으로 에지를 검출하기 위해, 마스크 영역의 범위를 넓혀 각 영역에 따른 새로운 화소를 추정한 후, 추정된 마스크를 벡터로 변환하여 정렬한 후 계산된 기울기로 에지를 검출하는 알고리즘을 제안하였다.

An Edge Detection Method by Using Fuzzy 2-Mean Classification and Template Matching

  • Kang, C.C.;Lee, P.J.;Wang, W.J.
    • 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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    • 제어로봇시스템학회 2004년도 ICCAS
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    • pp.1315-1318
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    • 2004
  • Based on fuzzy 2-mean classification and template matching method, we propose a new algorithm to detect the edges of an image. In the algorithm, fuzzy 2-mean classification can classify all pixels in the mask into two clusters whatever the mask in the dark or light region; and template matching not only determines the edge's direction, but also thins the detected edge by a set of inference rules and, by the way, reduces the impulse noises.

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그레이 레벨 변환 함수를 이용한 에지 검출 알고리즘에 관한 연구 (A Study on Edge Detection Algorithm using Grey Level Converting Function)

  • 이창영;황용연;김남호
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국정보통신학회 2015년도 추계학술대회
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    • pp.921-923
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    • 2015
  • 영상에서 에지는 물체의 크기, 방향, 위치 등의 정보를 포함한다. 이러한 에지를 검출하기 위한 기존의 에지 검출 방법은 Sobel, Prewitt, Roberts, Laplacian 등을 이용한 방법이다. 이러한 기존의 방법은 에지 검출하기 위하여 고정된 가중치 마스크를 이용하며 에지 검출 특성이 다소 미흡하다. 따라서 이와 같은 기존의 방법의 문제점을 보완하기 위하여, 본 논문에서는 국부 마스크의 화소 분포에 따라 그레이 레벨 변환 함수를 적용하여 에지를 검출하는 알고리즘을 제안하였다.

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복합잡음 환경에서 에지 검출에 관한 알고리즘에 관한 연구 (A Study on Algorithm of Edge Detection in Mixed Noise Environments)

  • 이창영;김남호
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국정보통신학회 2014년도 춘계학술대회
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    • pp.100-103
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    • 2014
  • 현재 에지 검출은 여러 분야에서 사용되고 있으며, 대부분의 영상처리의 전처리 과정 및 영상처리에 있어서 필수불가결한 기술이다. 이에 따라 관련 연구가 끊임없이 진행되어 오고 있다. 이러한 에지는 영상의 물체에 대한 크기, 방향, 위치 등의 중요한 영상 요소를 가지고 있다. 이를 검출하기 위한 여러 방법들이 제안되어 왔으며, 그 중 대표적인 방법은 Sobel, Prewitt, Roberts, Laplacian, LoG(Laplacian of Gaussian) 등이 있다. 그러나 이러한 기존의 방법들은 복합잡음이 첨가된 영상에서 에지 검출 특성이 미흡하다. 따라서 본 연구에서는 국부 마스크의 크기와 위치에 따라 요소에 대한 중앙값 및 평균값을 이용한 에지 검출 방법을 제안하였다.

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초기 혼합치열기에서의 Face mask의 임상적 적용 (FACE MASK THERAPY IN EARLY MIXED DENTION)

  • 이창주;김종수;권순원
    • 대한소아치과학회지
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    • 제28권4호
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    • pp.643-648
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    • 2001
  • III급 부정교합은 전치가 수평적으로 반대로 물리는 양상 때문에 치과의사뿐만 아니라 일반인에 의해서도 쉽게 발견되므로 비교적 조기에 치과를 찾는 빈도가 높다. 이러한 III급 부정교합 치료 시에 치과의사들이 사용할 수 있는 방법은 여러 가지가 있을 수 있으며 그 중 정형적 Face mask는 III급 부정교합에 기여하는 모든 요소 즉, 상악골 후퇴, 하악전돌, 낮은 전방하안면고경에 전반적으로 영향을 미치기 때문에 가장 폭넓게 적용가능하고 가장 짧은 기간에 극적인 결과를 나타내기 때문에 대부분의 발육중인 III급 증례에 적용될 수 있다. 이에 본원에 내원한 III급 부정교합 환아에서 Face mask를 적응함으로써 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 전치부 반대 교합이 상악골의 전방이동 하악골의 후하방 회전에 의해 해소되었다. 2. 경조직, 연조직에서 안모의 개선이 나타났다.

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변형된 가중치 마스크를 이용한 에지검출 알고리즘에 관한 연구 (A Study on Edge Detection Algorithm using Modified Mask of Weighting)

  • 이창영;김남호
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제18권3호
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    • pp.735-741
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    • 2014
  • 에지는 영상에서 화소 간의 명암 차이가 큰 경우에 나타나며, 대상의 크기, 위치, 방향 등의 정보를 포함한다. 에지검출 방법에는 Sobel, Roberts, Laplacian, LoG(Laplacian of Gaussian) 등이 있으며, 이러한 방법들은 AWGN(additive white Gaussian noise)이 첨가된 영상에서 그 특성이 미흡하다. 따라서 이러한 특성을 개선하기 위하여 본 논문에서는 거리에 따른 가중치와 주변 화소의 평균에 의한 추정 마스크를 적용하는 알고리즘을 제안하였다. 그리고 제안한 방법의 성능을 확인하기 위하여 평가 척도는 처리 영상 및 PFOM(Pratt's figure of merit)을 사용하여 기존의 방법들과 비교하였다.

변형된 방향성 마스크를 이용한 에지검출 방법에 관한 연구 (A Study on Edge Detection Method using Modified Directional Masks)

  • 이창영;김남호
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제18권11호
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    • pp.2779-2785
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    • 2014
  • 에지검출은 영상의 특징 정보를 화소값들의 밝기 변화로 취득하는 기술이며, 여러 영상처리 분야에서 전처리 과정으로 활용되고 있다. 기존의 에지검출 방법에는 소벨(Sobel), 프리윗(Prewitt), 로버츠(Roberts) 방법 등이 있으며, 이러한 방법들은 영상의 전체 영역에서 동일한 가중치를 적용하여 처리하므로 에지검출 결과가 다소 미흡하다. 따라서 본 논문은 변형된 방향성 마스크를 적용하여 화소들의 방향 및 크기를 고려한 에지검출 알고리즘을 제안하였다.

Development of Laser Process and System for Stencil Manufacturing

  • Lee, Jae-Hoon;Jeong Suh;Shin, Dong-Sig;Kim, Jeon-O;Lee, Young-Moon
    • International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
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    • 제4권1호
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    • pp.23-29
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    • 2003
  • Stencil is used normally as a mask for solder pasting on pad of a printed circuit board (PCB). The objective of this study is to develop a stencil cutting system and determine the optimal conditions to make good-quality stencil by using a Nd:YAG laser. The effects of process parameters such as laser power, type of mask, gas pressure, cutting speed and pulse duration on the cut edge quality were investigated. In order to analyze the cut surface characteristics (roughness, kerfwidth, dross) optical microscopy, SEM microscopy and roughness measurements were used. As a result, the optimal conditions of cutting process parameters were determined, and the practical feasibility of the proposed system was also examined by using a commercial Gerber file for PCB stencil manufacturing.

Nd:YAG레이저를 이용한 스텐실 절단공정II -레이저의 공정변수가 스텐실 절단특성에 미치는 영향- (Stencil cutting process by Nd:YAG laser II -Influence of process parameters on cutting characteristics of stencil-)

  • 이제훈;서정;김정오;신동식;이영문
    • 한국레이저가공학회지
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    • 제4권2호
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    • pp.47-57
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    • 2001
  • This study deals with the laser cutting of stencil for the PCB. The most important aim of this study is to determine optimal conditions which make good-qualify stencil in Nd:YAG laser cutting. We made an experiment according to various variables (power. type of mask. gas pressure, cutting speed, and pulse width) and analyzed the cutting characteristics (surface roughness, kerf width. dross) . Each variable has optimal value for good-qualify cut edge under fixed condition. And neural network after learning experimental data with a million time iteration could predict surface roughness of cut edge under arbitrary condition approximately.

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