The Study on the Interface State Density of $N_{2}Plasma$ Treated Oxide by the Conductance Technique
(Conductance 법에 의한 $N_{2}Plasma$ 처리한 산화막의 계면상태 밀도에 관한 연구)
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- Proceedings of the KIEE Conference
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- 1988.11a
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- pp.189-192
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- 1988