산가수분해법과 칼럼크로마토그라피법을 이용하여 레반 올리고당과 저분자량 레반을 생산하였다. 레반에 대한 산가수분해반응은 시간의존적으로 비례적으로 진행되었으며, 다른 미생물 유래의 레반을 사용시에도 동일한 결과를 나타내었다. 레반 올리고당의 제조를 위한 최적화된 조건은 5% 레반을 0.38 M 황산, 95$^{\circ}C$, 4분간 처리하였을 때였으며, 최종생산물로 중합도 3-6의 레반 올리고당을 얻었다. 생성된 레반을 올리고당을 탄소 원으로 이용하여 두 젖산 생성균주(Lactobacillus plantaurm KCTC 3104와 Pedioccccus pentosaceus KCTC3507)의 생장배지에 첨가하고 레반 자체를 첨가한 배지와 비교시, 뚜렷한 생육촉진효과와 pH 감소효과가 나타났다.
EPA 및 DHA가 각간 25, 10% 함유된 어유에 상업용 레시틴을 첨가하여 어유의 산화안정성에 미치는 레시틴의 산화 방지효과를 AOM 시험, Oven 시험, 중합물 시험, 색도 시험 등을 통해서 비교하였다. 레시틴을 첨가한 산화안정성은 제품의 종류에 따라 산화안정성에 차이는 있었으나 첨가량이 증가할수록 산화안정성이 증가됨을 알 수 있었다. 가장 우수한 항산화성을 갖고 있었던 레시틴(III)을 1, 5, 10%을 첨가함에 따라 AOM 조건에서 유도시간이 각각 310, 620, 840%로 증가하였다. 또한 레시틴(III)을 10% 첨가한 시료구에서는 AOM 조건에서 10시간까지 중합물이 생성되지 않았으나 색도는 저장시간이 경과할수록 증가하였고 고온에서 더욱 가속화되었다.
치아 수복용 충전제로서 인체 뼈의 주성분인 수산화인회석(hydroxyapatite)이 혼성화된 바륨실리케이트 (barium silicate, BaSi)를 사용하여 제조한 고분자 복합체의 치과적 물성을 분석하였다. 복합체 제조에 사용된 아크릴계 기재는 가시광선을 사용하여 경화시켰다. 실험 결과, 혼성화된 충전제 내에서의 BaSi 함량이 증가할수록 복합체의 기계적 강도는 일정하게 증가하였으며 치의학에서 규정한 값들을 상회하여 치아 수복재료로 충분한 값임을 확인할 수 있었다. 그러나 충전제 내에서의 BaSi 함량 증가에 따른 복합체의 내마모도는 약간 감소하였다. 한편, 복합체의 중합깊이는 충전제의 구성비에 관계없이 $6\sim9mm$ 정도로서 일반적 치과용 수복재료로 충분한 값들임을 확인하였으며 중합전환율과 중합수축률은 충전제 구성비에의 직접적 의존 경향성은 거의 없음을 확인할 수 있었다.
리빙 프리 라디칼 중합법은 ATRP, NMP, RAFT 등의 방법이 있으며, 지난 수 십년간 매우 빠르게 발전해 왔다. 그 중에서 RAFT 중합법은 다른 방법들에 비해 최근에 학문적으로 크게 주목 받고 있다. RAFT 중합법은 다른 리빙 프리 라디칼 중합법에 합성할 수 있는 단량체의 종류나 합성의 제한이 비교적 작아서, 다양한 기능성 고분자를 쉽게 중합할 수 있으며, 합성한 고분자의 분자량 분포 또한 좁게 만들 수 있는 장점이 있다. 따라서 RAFT 중합법을 통해 다양한 형태의 블록 공중합체, 댄드리머 등을 합성하는데 이용되고 있다. 이 논문에서는 위와 같은 RAFT 중합법을 이용해, 친수성 블록을 갖는 새로운 블록 공중합체를 합성한다. Poly(ethylene-b-styrene)와 poly(ethylene-b-metharylate-bstyrene) 같은 블록 공중합체 박막을 이용해 용매 증발법에 의한 높은 수준의 정렬도를 갖는 연구가 진행, 보고되었다. 그리고 위의 2가지 연구에서 습도가 정렬도에 큰 영향을 미치는 것으로 보고되고 있다. 하지만 위의 연구에서 친수성 블록에 의한 영향을 명확하게 규명하지 못했다. 따라서 이 논문에서는 다른 친수성 블록을 갖는 poly(N,Ndimethylacrylamide-b-styrene)를 RAFT 중합법에 의해 합성하고, 이를 이용해 박막 내에서 용매 증발법 중의 습도에 의한 영향을 일반화하고자 한다.
구형 페놀수지 입자 및 상대적으로 가교밀도가 낮은 구형 페놀-크레졸 공중합체 수지를 페놀, ortho-크레졸, 및 포름알데히드로부터 염기성 촉매인 트리에틸아민(triethylamine)의 존재 하에 98 ℃에서 현탁중합을 통하여 합성하였다. 페놀은 두 개의 ortho 및 한 개의 para 위치에서 포름알데히드와 반응하여 가교구조를 형성하지만 ortho-크레졸은 선점된 하나의 ortho 위치의 methyl 기로 인하여 공중합 시 가교 밀도를 저하시킨다. 그 영향으로 700 ℃ 질소 환경에서의 탄화 시 구형 페놀수지 비드에 비해 구형 페놀-크레졸 공중합체 수지의 경우 겉보기 밀도의 감소와 함께 수축율의 증가 현상이 일어나는 것을 확인할 수 있었다. 크레졸 올리고머의 분자량이 증가함에 따라 탄화 된 공중 합체 비드의 기공 반경이 감소하여 밀도 및 수축 결과와 일치 하였으며, 크레졸을 이용하여 구형 페놀수지 입자의 가교도를 조절함으로써 탄화과정에서의 밀도 감소율이 약 3~6%포인트 증가되고, 수축율은 약 6~20%포인트 증가함을 확인하였다.
For the fabrication of a multilevel resist (MLR) based on a very thin amorphous carbon (a-C) layer an $Si_{3}N_{4}$ hard-mask layer, the selective etching of the $Si_{3}N_{4}$ layer using physical-vapor-deposited (PVD) a-C mask was investigated in a dual-frequency superimposed capacitively coupled plasma etcher by varying the following process parameters in $CH_{2}F_{2}/H_{2}/Ar$ plasmas : HF/LF powr ratio ($P_{HF}/P_{LF}$), and $CH_{2}F_{2}$ and $H_2$ flow rates. It was found that infinitely high etch selectivities of the $Si_{3}N_{4}$ layers to the PVD a-C on both the blanket and patterned wafers could be obtained for certain gas flow conditions. The $H_2$ and $CH_{2}F_{2}$ flow ratio was found to play a critical role in determining the process window for infinite $Si_{3}N_{4}$/PVDa-C etch selectivity, due to the change in the degree of polymerization. Etching of ArF PR/BARC/$SiO_x$/PVDa-C/$Si_{3}N_{4}$ MLR structure supported the possibility of using a very thin PVD a-C layer as an etch-mask layer for the $Si_{3}N_{4}$ layer.
메조 전분의 청가와 요오드 친화도는 각각 0.304와 4.22%로 일반 메 전분과 비슷하였으나 기장 전분은 각각 0.098과 1.07%로 찰 전분에 가까운 성질을 보였다. 차조와 찰기장 전분의 청가는 각각 0.056과 0.037, 요오드 친화도는 각각 0.49와 0.21%이었다. 전분의 평균중합도는 메조 전분이 1830이었으며, 나머지 세 전분은 3880-4660으로 비슷하였다. 생전분의 알파 아밀라아제 소화율은 찰기장 전분이 제일 커 35.6% 이었으며, 기장 전분이 제일 적어 18.2% 이었다. 전분 입자의 평균 크기는 기장이 $8.25\;{\mu}m$로 제일 작았으며, 나머지 세 전분은 $10.33-11.53\;{\mu}m$이었다. 입자 분포에서도 기장 전분만 $1.9\;{\mu}m$ 이하와 $20.0\;{\mu}m$ 이상의 크기를 갖는 입자가 없어 좁은 분포도를 보였다. 기장 전분의 호화개시온도가 다른 전분보다 $3.5-4.9^{\circ}C$ 높았으며, 최고 점도와 노화정도를 나타내는 Setback 점도는 메조 전분이 제일 컸다. 메조 전분을 제외하고는 12% 농도에서 겔을 형성하지 못하였으며, 25% 농도에서의 겔 강도는 차조, 기장, 찰기장 순이었다.
탄소섬유 강화 PA6 복합재료의 탄소섬유-메트릭스간 계면결합력과 반응중합도 향상을 위해서 기존 탄소섬유의 에폭시 사이징제를 디사이징처리하여 에폭시를 제거한 후 우레탄계, 나일론계, 페녹시계 사이징제로 재처리해주었으며, 리사이징처리된탄소섬유의표면을관찰하였다. 리사이징처리된탄소섬유의계면결합력은 IFSS(Interfacial shear strength)를 통해서 확인하였으며, 계면 결합 강도 측정 후 파단면은 주사전자현미경을 통해서 관찰하였다. 나일론계와 페녹시계 사이징제로 처리된 탄소섬유가 우레탄계 사이징에 비해 계면 결합력이 상승한 것을 확인하였다. 우레탄계 리사이징 처리된 탄소섬유는 기존 에폭시 사이징 탄소섬유보다 계면 결합력이 감소한 것으로 확인되었다. 이 결과는 기존 탄소섬유의 저활성과 평활성을 제거하여 탄소섬유와 나일론6 사이의 계면 결합력이 향상된 것으로 판단된다.
Polyvinyl alcohol(PVA)을 탄소원으로 이용할 수 있는 세균 J2W 균주와 J2Y균주를 토양으로 부터 분리하였다. 분리된 이들 균주는 각각 별도의 순수배양으로는 PVA를 이용할 수 없었으나 이들 균주를 혼합배양 하였을 경우는 PVA를 분해 이용할 수 있었으며, 또한 PVA의 중합도(중합도 500, 1500, 2000)에 관계없이 이용할 수 있었다. 이들 두 균주는 다른 PVA 이용 공생균주 Pseudomonas PW와 Pseudomonas G5Y와 재구성하여 혼합배양 하였을 때 J2Y균주와 Pseudomonas PW, J2W 균주와 Pseudomonas G5Y 균주와의 혼합배양에서는 PVA를 이용할 수 있었다. 이들 두 균주는 동정 결과 J2W균주는 Pseudomons pseudomallei 근연균으로, J2Y는 Xanthomonas campestris 근연균으로 동정되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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