• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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• pp.210.2-210.2
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• 2013

현재 국내의 상용화된 디지털 방식 X-선 영상장치에서 간접변환방식은 대부분 CsI를 사용하고 있으며, X-선 흡수에 의해 전기적 신호를 발생시키는 직접변환방식은 Amorphous Selenium(a-Se)을 사용한다. a-Se은 진공 중에 녹는점이 낮아 증착시 substrate의 온도에 따라 민감한 변화를 보인다. 본 연구에서는 간접변환방식에 비해 높은 영상의 질을 획득할 수 있는 직접변환방식의 a-Se기반 X-선 검출기 제작 시 substrate에 인가된 온도에 따른 특성을 연구하여 최적화 된 substrate의 온도를 알고자 한다. 본 실험에서는 glass에 투명한 전극물질인 Indium Tin Oxide (ITO)가 electrode로 형성된 substrate를 사용하였으며 그 상단에 a-Se을 Physical Vapor Deposition (PVD)방식을 거쳐 X-선 검출기 샘플을 제작하였다. PVD 공정 시 네 개의 보트에 a-Se 시료를 각각 100g씩 총 400g을 넣고, $5{\times}10-5Torr$까지 진공도를 낮추었다. 보트의 온도는 $270^{\circ}C$에서 40분 $290^{\circ}C$에서 90분으로 온도를 인가하여 a-Se을 기화시켜 증착하였다. 증착 시 substrate 온도를 각각 $20^{\circ}C$, $40^{\circ}C$, $60^{\circ}C$, $70^{\circ}C$ 네 종류로 나누어 실험을 진행하였다. 끝으로 증착된 a-Se 상단에 Au를 PVD방식으로 electrode를 형성시켜 a-Se기반의 X-선 검출기 샘플 제작을 완료하였다. 제작된 a-Se기반의 X-선 검출기 샘플의 두께는 80에서 $85{\mu}m$로 온도에 따른 차이가 없었다. 이후에 전기적 특성을 평가하기위해 electrometer와 oscilloscope를 이용하여 Dark current와 Sensitivity를 측정하여 Signal to Noise Ratio(SNR)로 도출하였으며 Scanning Electron Microscope(SEM) 표면 uniformity를 관찰하였다. 또한 제작된 a-Se기반 X-선 검출기 샘플의 hole collection 성능을 확인하고자 mobility를 측정하였다. 측정결과 a-Se의 work function을 고려한 $10V/{\mu}m$기준에서 70kV, 100mA, 0.03sec의 조건의 X-선을 조사 하였을 때 Sensitivity는 세 종류의 검출기 샘플이 15nC/mR-cm2에서 18nC/mR-cm2으로 비슷한 양상을 나타내었지만, substrate온도가 $70^{\circ}C$때의 샘플은 10nC/mR-cm2이하로 저감됨을 알 수 있었다. 그리고 substrate온도 $60^{\circ}C$에서 제작된 검출기 샘플의 전기적 특성이 SNR로 환산 시, 15.812로 가장 우수한 전기적 특성을 나타내어 최적화 된 온도임을 알 수 있었다. SEM촬영 시 온도상승에 따라 표면 uniformity가 우수하였으며, Mobility lifetime에서는 $60^{\circ}C$에서 제작된 검출기 샘플이 deep trap 수치가 높아 hole이 $0.04584cm2/V{\cdot}sec$로 $0.00174cm2/V{\cdot}sec$의 electron보다 26.34배가량 빠른 것을 확인하였다. 본 연구를 통해 a-Se증착 시, substrate에 인가된 온도는 균일한 박막의 형성 및 표면구조에 영향을 미치며 온도가 증가할수록 안정적인 전기적 특성을 나타내지만 $70^{\circ}C$이상일 시, a-Se층의 결정화가 생겨 deep trap을 발생시켜 전기적 특성이 저하됨을 확인 할 수 있었다. 따라서 증착 시의 substrate의 온도 최적화는 a-Se기반 X-선 검출기의 안전성 및 성능향상을 위해 불가피한 요소가 된다고 사료된다.

• 대한인간공학회:학술대회논문집
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• 대한인간공학회 1992년도 추계학술대회논문집
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• pp.63-67
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• 1992

인간이 역사를 이루며 살아오면서 피복은 인간의 생활 수단으로서 빠뜨릴 수 없는 존재가 되었다. 사외 생활을 하면서 인간은 자신을 보호하고 남에게 자신의 이미지를 전달하고 자신의 욕구를 표출하면서 만족시키는데 있어 의복은 가장 중요한 역활을 하고 있고 인간 역시 그러한 것들을 의복에 의존하고 있는 것이다. 그러나 정상인을 위한 의복만 취급되어지는 시장에서 신체장애자들은 정상인보다도 더 세심하게 기능들이 고려된 의복이 필요함에도 불구하고 의복의 기능들을 생각하면서 의복을 선택할 수가 없다. 이러한 사앙들이 대두되면서 현대에 들어 신체 장애자 의복에 있어서 불편함을 없애고 보다 적합한 의복을 만들기 위한 연구가 진행되었다. 신체 장애자의 의복 연구는 Ward가 이 부분에 관심을 표명한 이후 임상 의사들에 의해 연구가 이루어지기 시작했다. 우리나라에서도 1976년 심성식의 한국 신체 장애자의 의복에 관한 연구를 기점으로 이 분야의 관심도가 높아지고 있으나 아직까지는 전반적으로 부족한 실정이다. 특히 위생적인 분야에서는 자료가 매우 부족하다. 이에 본 연구에서는 휠체어를 사용하는 하지 마비자의 체표 면을 떠서 기성복 패턴과 비교를 통해 보다 편안한 바지 패턴을 제시하고, 여름철에 많이 사용하는 직물로 바지를 제작하고 착용시킨후 인체 생리 반응을 분석하여 여름철에 쾌적한 바지를 알아 보았다. 이 연구를 통해 일반인과는 생활 자세가 다른 휠체어를 사용하는 하지 마비자와 일반인이 입는 기성복 바지를 착용 했을 때 생기는 불합리한 요소들을 고려하여 미적이고 기능적 및 위생적인 측면에서 신체 장애자에게 보다 적합한 바지를 제작하기 위한 기초 자료를 제공하고자 한다.값은 $f^{m}$ (p-1)-1 이다. (n=2m)이 많고 흡연 등의 만성 자극 요인이 있으며 술후 음성 호전에 걸리는 기간이 길어 보다 복합적인 측면에서 치료에 임하여야 할 것으로 사료된다. with such configuration.trap with 2.88[eV] deep of injected space charge from the chathode in the crystaline regions. The origin of ${\alpha}$$_2$ peak was regarded as the detrapping process of ions trapped with 0.9[eV] deep originated from impurity-ion remained in the specimen during production process of the material, in the crystalline regions. The origin of ${\beta}$ peak was concluded to be due to the depolarization process of "C=0"dipole with the activation energy of 0.75[eV] in the amorphous regions. The origin of ${\gamma}$ peak was responsible to the process combined with the depolarization of "CH$_3$", chain segment, with the activation

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제39권5호
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• pp.1-7
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• 2002

Deep sub-micron bulk CMOS circuits require gate electrode materials such as metal silicide and titanium silicide for gate oxides. Many authors have conducted research to improve the quality of the sub-micron gate oxide. However, few have reported on the electrical quality and reliability of an ultra-thin gate. In this paper, we will recommend a novel shallow trench isolation structure and a two-step TiS $i_2$ formation process to improve the corner metal oxide semiconductor field-effect transistor (MOSFET) for sub-0.1${\mu}{\textrm}{m}$ VLSI devices. Differently from using normal LOCOS technology, deep sub-micron CMOS devices using the novel shallow trench isolation (STI) technology have unique "inverse narrow-channel effects" when the channel width of the device is scaled down. The titanium silicide process has problems because fluorine contamination caused by the gate sidewall etching inhibits the silicide reaction and accelerates agglomeration. To resolve these Problems, we developed a novel two-step deposited silicide process. The key point of this process is the deposition and subsequent removal of titanium before the titanium silicide process. It was found by using focused ion beam transmission electron microscopy that the STI structure improved the narrow channel effect and reduced the junction leakage current and threshold voltage at the edge of the channel. In terms of transistor characteristics, we also obtained a low gate voltage variation and a low trap density, saturation current, some more to be large transconductance at the channel for sub-0.1${\mu}{\textrm}{m}$ VLSI devices.

• 한국통신학회논문지
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• 제17권1호
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• pp.58-67
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• 1992

MgGa2Se4 및 MgGa2Se4 : Co2+단결정을 bridgman 방법으로 성장하여 광흡수와 광발광을 가시광 영역과 근적외선 영역에서 조사하였다. 광흡수 스펙트럼은 MgGa2Se4단결정의 Td Symmetry를 갖는 host lattice에 점유하여 바닥상태와 여기상태의 Co2+ ion 에너지 ㅣlevel간 전자전이에 의해서 760nm, 1640nm, 그리고 2500nm에서 3개의 흡수피크를 관측하였다. 광발광 스펙트럼에서 이 단결정은 가시광 발광ㄸ들을 관찰하였다.가시영역의 발광 band들은 에너지 준위도에서 제안된 바와 같이 자전자대의 우의 꼭대기 acceptor 준위에서 전도대 아래의 밑에 분포된 trap으로부터 끊임없이 전자전에 의한다고 볼수 있다. 한편, 이들은 적외선 발광 band가 deep level에서 acceptor level부터 전자전이에 기인한다고 고려할 수 있다. 광전이의 mechanism은 MgGa2Se4 결정의 에너지 diagram의 항으로 잘 설명되고 있다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제13권9호
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• pp.729-734
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• 2000

Recently, Very Large Scale Integrated (VLSI) circuit & deep-submicron bulk Complementary Metal Oxide Semiconductor(CMOS) devices require gate electrode materials such as metal-silicide, Titanium-silicide for gate oxides. Many previous authors have researched the improvement sub-micron gate oxide quality. However, few have reported on the electrical quality and reliability on the ultra thin gate oxide. In this paper, at first, I recommand a novel shallow trench isolation structure to suppress the corner metal-oxide semiconductor field-effect transistor(MOSFET) inherent to shallow trench isolation for sub 0.1${\mu}{\textrm}{m}$ gate oxide. Different from using normal LOCOS technology deep-submicron CMOS devices using novel Shallow Trench Isolation(STI) technology have a unique"inverse narrow-channel effects"-when the channel width of the devices is scaled down, their threshold voltage is shrunk instead of increased as for the contribution of the channel edge current to the total channel current as the channel width is reduced. Secondly, Titanium silicide process clarified that fluorine contamination caused by the gate sidewall etching inhibits the silicidation reaction and accelerates agglomeration. To overcome these problems, a novel Two-step Deposited silicide(TDS) process has been developed. The key point of this process is the deposition and subsequent removal of titanium before silicidation. Based on the research, It is found that novel STI structure by the SEM, in addition to thermally stable silicide process was achieved. We also obtained the decrease threshold voltage value of the channel edge. resulting in the better improvement of the narrow channel effect. low sheet resistance and stress, and high threshold voltage. Besides, sheet resistance and stress value, rms(root mean square) by AFM were observed. On the electrical characteristics, low leakage current and trap density at the Si/SiO$_2$were confirmed by the high threshold voltage sub 0.1${\mu}{\textrm}{m}$ gate oxide.

• Ocean and Polar Research
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• 제25권3호
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• pp.331-345
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• 2003

The fishing ground surrounding Wangdol-cho is not only overexploited by the littering of dilapidated fishing net and equipment, but also by fishermen's overfishing, surpassing optimum fisheries resources. In addition, increasing fishing efforts (number of fishing vessel and fishing net, etc) contribute to the deterioration of fishing ground, and it is urgently required that schemes to tackle the problems should be taken. To effectively address the problems as such, this paper aims to propose sustainable utilization and management scheme of fishing ground through classification of fishing ground surrounding Wangdol-cho as one area which is less than 50m deep, measuring $13.66km^2$ and the other, permission fishing area of Gill Net fishery, measuring $347.23km^2$. The analysis shows that, for the water area less than 50m deep, implementation from a short-term perspective includes autonomous management fishery by gill net and trap fishery. For the permission fishing area of Gill Net fishery, implementation includes limit on fishing period, real name system of fishing equipment and limit on fishing equipment. Implementation from a medium and long-term perspective includes limit on scuba diving, designation of underwater sightseeing zone, sea farming, facilities of surveillance, adoption of approval system for the permission fishing area of Gill Net fishery and introduction of report system for fishing.

• 대한기관식도과학회:학술대회논문집
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• 대한기관식도과학회 1991년도 제25차 학술대회 연제순서 및 초록
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• pp.15-15
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• 1991

한국어 자음에 대한 생리적인 분류는 조음점 및 조음발법에 따라 다시 세분화할 수 있는데 그중에서 조음발법에 따라 파열음, 마찰음, 파찰음 및 비음들 여러가지로 분류할 수 있다. 그중 특히 파열음은 그 개방하는 방법에 따라 연음(lenis), 경음(glottalized) 및 기식음(aspirated)등으로 구분하는데 이러한 각음을 육안으로 확인하면 모음이 발성되기 위한 성대진동이 있기전의 자음을 위한 성대의 운동의 현상을 보면 기식음에서는 성대열림이 가장 크고 연음에서도 열림이 크지만 기식음보다는 적고 경음에서는 성대의 열림이 가장 작았다. 이러한 현상은 후두내시경에 의해 쉽게 확인할 수 있었는데 이것을 과학적으로 규명하기 위해서는 여러연구에 의해 가능하나 흔히 후두근전도 검사에 의한 성대내전근과 외전근의 역할의 차이를 비교함으로서 가능해지리라 예상되어 본 연구를 시행하였다. 사용된 문형 또는 단어는 한가지를 제외하고는 모두 의미있는 단어를 사용하였으며 EMG recording을 위해 사용된 근육은 후두내전근인 Vocalis muscle과 후두외전근인 Posterior cricoarytenoid muscle이 사용되었고 전기신호는 computer data processing system에 의해 분석되어졌다. 결과는 내시경에 의한 성대열림의 거리측정 결과를 분석함과 동시에 후두내근에 대한 근전도검사에 의한 분석을 토대로 하였으며 이를 간단히 설명하면 이제까지 많은 사람들은 한국어 자음에 대한 각각의 특징적인 현상들을 주로 성대내전근의 역할에 의해 규명하였으나 본 결과로는 성대내전근의 역할도 중요하지만 성대외전근의 역할 또한 상호 연관성을 가지면서 매우 중요한 역할을 한다는 점이다.for the Isotropic plates can be used. Use of some coefficients can produce "exact" value for laminates with such configuration.trap with 2.88[eV] deep of injected space charge from the chathode in the crystaline regions. The origin of ${\alpha}$$_2$ peak was regarded as the detrapping process of ions trapped with 0.9[eV] deep originated from impurity-ion remained in the specimen during production process of the material, in the crystalline regions. The origin of ${\beta}$ peak was concluded to be due to the depolarization process of "C=0"dipole with the activation energy of 0.75[eV] in the amorphous regions. The origin of ${\gamma}$ peak was responsible to the process combined with the depolarization of "CH$_3$", chain segment, with the activation energy of carriers from the shallo

• 한국재료학회지
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• 제9권5호
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• pp.460-466
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• 1999

The deep level electron traps in AP-MOCVD GaAs/undoped Al\ulcornerGa\ulcornerAs/n-type GaAs heterostructures have been investigated by means of Deep Level Transient Spectroscopy DLTS). In terms of the experimental procedure, GaAs/undoped Al\ulcornerGa\ulcornerAs/n-type GaAs heterostructures were deposited on 2" undoped semi-insulating GaAs wafers by the AP-MOCVD method at $650^{\circ}C$ with TMGa, AsH3, TMAl, and SiH4 gases. The n-type GaAs conduction layers were doped with Si to the target concentration of about 2$\times$10\ulcornercm\ulcorner. The Al content was targeted to x=0.5 and the thicknesses of Al\ulcornerGa\ulcornerAs layers were targeted from 0 to 40 nm. In order to investigate the electrical characteristics, an array of Schottky diodes was built on the heterostructures by the lift-off process and Al thermal evaporation. Among the key results of this experiment, the deep level electron traps at 0.742~0.777 eV and 0.359~0.680 eV were observed in the heterostructures; however, only a 0.787 eV level was detected in n-type GaAs samples without the Al\ulcornerGa\ulcornerAs overlayer. It may be concluded that the 0.787 eV level is an EL2 level and that the 0.742~0.777 eV levels are related to EL2 and residual oxygen impurities which are usually found in MOCVD GaAs and Al\ulcornerGa\ulcornerAs materials grown at $630~660^{\circ}C$. The 0.359~0.680 eV levels may be due to the defects related with the al-O complex and residual Si impurities which are also usually known to exist in the MOCVD materials. Particularly, as the Si doping concentration in the n-type GaAs layer increased, the electron trap concentrations in the heterostructure materials and the magnitude of the C-V hysteresis in the Schottky diodes also increased, indicating that all are intimately related.ated.

• 한국해양공학회지
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• 제30권5호
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• pp.389-399
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• 2016

This paper presents the explorations of hydrothermal vents located in the Marina Arc and Back Arc Basin using the deep-sea ROV Hemire. These explorations were conducted by KRISO and KIOST to demonstrate the capability of Hemire in various applications for deep-sea scientific research. The missions included the following: (1) to search the reported vents, (2) conduct visual inspections, (3) deploy/recover a sediment trap and bait traps, (4) sample sediment/water/rock, (5) measure the magnetic field at the vent site, and (6) acquire a detailed map using multi-beam sonar near the bottom. We installed three HD cameras for precise visual inspection, a high-temperature thermometer, a three-component magnetometer, and a multi-beam sonar to acquire details of the bottom contour or identify vents in the survey area. The explorations were performed in an expedition from March 23 to April 5, 2016, and the missions were successfully completed. This paper discusses the operational process, navigation, and control of Hemire, as well as the exploration results.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제33권9호
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• pp.2910-2916
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• 2012

Cadmium sulphide (CdS) nanorods were prepared by a single precursor thermal decomposition (SPTD) method. The formation of CdS nanorods and their structure, morphology and elemental composition were studied by means of FT-IR, XRD, FE-SEM, HR-TEM and EDAX analysis. Photoluminescence (PL) and lifetime measurements were recorded to study the luminescence properties of the material. The PL spectrum of the CdS nanorods showed one broad peak and four shoulders and the cause for this emission was discussed. The PL emissions from the band edge and deep trap state of the CdS nanorods were studied by lifetime measurements. Further, the synthesized CdS nanorods showed an increase in efficiency of photocatalytic degradation of methylene blue (MB) and rhodamine B (RhB). The increase in the photocatalytic activity was attributed to the mixed phase of the CdS nanorods.