텅스텐 실리사이드 상의 얇은 $SiO_2/Si_3N_4$ 막의 특성 평가
(Characterization of Thin $SiO_2/Si_3N_4$ Film on $WSi_2$ )
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- 한국진공학회지
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- 제1권1호
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- pp.183-189
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- 1992