구리 CMP 슬러리를 위한 산화제 $H_2O_2$ 의 안정성
(Stability of Oxidizer $H_2O_2$ for Copper CMP Slurry)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.1
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- pp.382-385
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- 2003