The crystalline silicon solar cell where the solar cell market grows rapidly is occupying of about 85% or more. high-efficiency and low cost endeavors many crystalline silicon solar cells. the fabrication processes of high-efficiency crystalline silicon solar cells necessitate complicated fabrication processes and Ti/Pd/Ag contact, however, this contact formation processed by expensive materials. Ni/Cu contact formation is good alternative. in this paper, according to temperature Ni silicide makes, produced Ni/Cu contact solar cell and measured conversion efficiency.
Park, Seok Gi;Kang, Min Gu;Lee, Jeong In;Song, Hee-eun;Chang, Hyo Sik
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.419-419
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2016
High efficiency silicon solar cell requires the textured front surface to reduce reflectance and to improve the light trapping. In case of mono-crystalline silicon solar cell, wet etching with alkaline solution is widespread. However, the alkali texturing methods are ineffective in case of multi-crystalline silicon wafer due to grain boundary of random crystallographic orientation. The acid texturing method is generally used in multi-crystalline silicon wafer to reduce the surface reflectance. However the acid textured solar cell gives low short-circuit current due to high reflectivity while it improves the open-circuit voltage. To reduce the reflectivity of multi-crystalline silicon wafer, double texturing method with combination of acid and reactive ion etching is an attractive technical solution. In this paper, we have studied to optimize RIE experimental condition with change of RF power (100W, 150W, 200W, 250W, 300W). During experiment, the gas ratio of SF6 and O2 was fixed as 30:10.
Tri-crystalline silicon (Tri-Si) wafers have three different orientations and three grain boundaries. In this paper, tri-Si wafers have been used for the fabrication of buried contact solar cells. The optical and micro-structural properties of these cells after texturing in KOH solution have been investigated and compared with those of cast multi-crystalline silicon (multi-Si) wafers. We employed a cost effective fabrication process and achieved buried contact solar cell (BCSC) energy conversion efficiencies up to 15% whereas the cast multi-Si wafer has efficiency around 14%.
In this paper, we analyzed the electrical characteristics with crack pattern in crystalline solar cell. crystalline solar cells with a thin substrate, even small shocks can be easily damaged. Before the module goes through many processes, because the solar cells are at risk of a crack. That occurred early in the PV module micro-crack is not easily detection by eye test or output test. Because the EL (Electroluminescence) device has been detected using. PV module is made by laminated of a variety of materials. By different properties of each material will affect the crack. For this reason, the crack will grow and affect the output. And We analyzed the three crack patterns in crystalline solar cell. A growth of cracks on crystalline solar cell was interpreted by analysing generated cracks on the PV modules. Based on this interpretation, an electrical output value was calculated by mathematical modeling on electrical output characteristic with each crack patterns.
In this paper, we studied the optimization of the screen pringting method for crystalline silicon solar cell fabrication. The 156 * 156 mm2 p-type silicon wafers with $200{\mu}m$ thickness and $0.5-3{\Omega}cm$ resistivity were used after texturing, doping, and passivation. Screen printing method is a common way to make the c-Si solar cell with low-cost and high-efficiency. We studied the optimized condition for screen printing with crystalline silicon solar cell as changing the printing direction (finger line or bus bar), finger width, and mesh angle. As a result, the screen printing with finger line direction showed higher finger height and better conversion efficiency, compared with one with bus bar direction. The experiments with various finger widths and mesh angles were also carried out. The characteristics of solar cells was obtained by measuring light current-voltage, optical microscope and electroluminescence.
The screen printing technique is one of process to form electrode for crystalline silicon solar cell and has been studied a lot, because it has many advantages such as low price, high efficiency and mass production due to simple and fast process. The reason why electrode formation is important is for influence of series resistance and amount of incident light in crystalline silicon solar cell. In this study, electrode was formed by screen printing method with various conditions like squeegee angle, printing speed, snap off, printing pressure. After optimizing various conditions, double printing method was applied to obtain low series resistance and high aspect ratio. As a result, we obtained electrode resistance 45.31 ohm, aspect ratio 4.38, shading loss 7.549% mono-crystalline silicon solar cell with optimal double screen printing condition.
In this study, the texturing and the emitter formation processes were carried out with the wafer adhesion method to increase the productivity and reduce the production cost of the multi-crystalline silicon solar cell. After fabricating $156{\times}156mm$ solar cell according to the wafer adhesion method, the operation characteristics were analyzed and compared with those of the solar cell fabricated by the standard process method. In the case of a solar cell formed by the wafer adhesion method, it showed Jsc of $32.87mA/cm^2$, Voc of 0.612V, FF of 78.04% and efficiency of 15.71% respectively. The efficiency of the solar cell formed by the wafer adhesion method was 0.1% higher than that of the solar cell formed by the standard method. In addition, the productivity of the texturing and the emitter formation processes is expected to be approximately doubled. Therefore, it is expected that the manufacturing cost of the multi-crystalline solar cell can be reduced due to the improved productivity compared with the standard process.
Crystalline silicon solar cell is a semiconductor device that converts light into electrical energy. Screen printing is commonly used to form the front/back electrodes in silicon solar cell. Screen printing method is convenient but usually shows high resistance and low aspect ratio, which cause the efficiency decrease in crystalline silicon solar cell. Recently the plating method is applied in c-Si solar cell to reduce the resistance and improve the aspect ratio. In this paper, we investigated the effect of additional electroless Ag plating into screen-printed c-Si solar cell and compared their electrical properties. All wafers used in this experiment were textured, doped, and anti-reflection coated. The electrode formation was performed with screen-printing, followed by the firing step. Aften then we carried out electroless Ag plating by changing the plating time in the range of 20 sec~5 min and light intensity. The light I-V curve and optical microscope were measured with the completed solar cell. As a result, the conversion efficiency of solar cells was increased mainly due to the decreased series resistance.
It is important to reduce a reflection of light as a solar cell is device that directly converts the energy of solar radiation to electrical energy in oder to improve efficiency of solar cells. The antireflection coating has proven effective in providing substantial increase in solar cell efficiency. This paper investigates the formation of thin film PSi(porous silicon) layer on the surface of crystalline silicon substrates without other ARC(antirefiection coating) layers. On the other hand the formation of $SO_{2}/SiN_x$ ARC layers on the surface of crystalline silicon substrates. After that, the structure of PSi and $SO_2/SiN_x$ ARC was investigated by SEM and reflectance. The formation of PSi layer and $SO_{2}/SiN_x$ ARC layers on the textured silicon wafer result about 5% in the wavelength region from 0.4 to $1.0{\mu}m$. It is achieved on the textured crystalline silicon solar cell that each efficiency is 14.43%, 16.01%.
본 연구는 고온고습 시험을 통하여 Cell 레벨에서의 표면관찰 및 효율저하를 분석하였다. 고온고습 시험조건은 KS C IEC-61215에서 제시한 PV 모듈하의 조건을 이용하여 온도 $85^{\circ}C$, 습도 85%, 1000hr 동안 수행하였다. EL(Electroluminescence)촬영을 통하여 Cell 표면의 이상 유 무를 분석한 결과, 시간이 경과함에 따라, 부분적으로 표면이 손상되어 변색되는 것을 확인하였다. 고온고습 시험 전 단결정 Cell 및 다결정 Cell의 효율은 각각 17.7%, 15.5%였으며, 1000hr 수행 후 15.6%, 14.0%로 각각 11.9%와 9.3%의 감소율을 보였다. 또한, 경년 시 나타나는 전기적 특성을 분석하기 위하여 FF(Fill Factor)값을 분석한 결과, 고온고습 시험 후 단결정 Cell은 78.7%에서 75.0%로 4.7%, 다결정 Cell은 78.1%에서 76.7%로 1.8%의 감소율을 보였다. 태양전지 실리콘의 원자배열 및 순도에 따라 효율 변화에 영향을 받아 단결정 Cell이 다결정 Cell보다 효율저하가 크게 나타났다고 판단된다. 또한, FF감소율보다 효율 감소율이 크게 저하된 것을 확인할 수 있었으며, 이는 Cell의 외부환경적 요인에 의한 표면 손상이 p-n접합층 접촉저항과 경년 시 나타나는 FF 감소율보다 크게 영향을 준 것으로 판단된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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