• 제목/요약/키워드: Cr 박막

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A Study on the Reistivity and Temperature Coefficient of Resistivity of Stacked $TaN_x$/Cr Cermet Thin Film ($TaN_x$/Cr Cermet 적층 박막의 비저항 및 저항온도계수에 관한 연구)

  • 허명수;천희곤;인건환;권식철;조동율
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • 제3권2호
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    • pp.190-197
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    • 1994
  • 본 연구에서는 DC magnetron 스퍼터링법을 이용하여 고정밀, 고저항 저항체 박막으로 TaNx film을 제조하였을 때 형성될 수 있는 화합물 중 TaN0.1, TaN0.8과 TaN 박막의 Rs와 TCR특성을 평가하 고 film층의 우선방향성을 XRD를 이용하여 판명한 뒤 저항체의 Rs와 TCR에 미치는 영향을 조사하였 다. TaN0.1 박막이 35$\Omega$/$\square$의 면저항값과 안정된 TCR값을 나타내는 것을 알수 있었다. 두께50~200nm 의 TaN0.1과 Alumina 기판 사이에 정(+)의 TCR을 갖는 약 50nm의 Cr층을 증착하였을 때 Rs는 180$\Omega$/ $\square$ 과 TCR는 20ppm/$^{\circ}C$인 적층박막을 제조할 수 있었다. TaN0.1, TaN0.8 과 TaN 시편에서 화합물 형성 에 따른 Ta의 결합에너지를 ESCA를 이용하여 조사하였다. 이상의 연구결과로부터 TaN0.1 film이 TaNfilm 보다 고정밀, 고저항 박막 저항체 제조에 있어 우수한 전기저항 특성을 가지며 Cr 중간층 형성 으로 TCR이 $\pm$ppm/$^{\circ}C$정도로 안정된 고정밀 다층 저항체 박막을 형성할 수 있었다.

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Ferromagnetic Resonance for $Co_{79}Cr_{21}$ Thin Film ($Co_{79}Cr_{21}$ 박막의 강자성 공명 연구)

  • 백종성;김약연;임우영
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • 제3권2호
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    • pp.125-129
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    • 1993
  • The magnetic properties of RF magnetron sputtered $Co_{79}Cr_{21}(at.%)$ thin film have been examined by using of ferromagnetic resonance. The properties of $Co_{79}Cr_{21}$ thin film show the effective first order anisotropy constant of $2.91{\times}10^{5}\;erg/cm^{3}$, the effective anisotropy field of 2526 Oe, and the spectroscopic splitting factor of 2.17. The torque experimental results, analyzed by employing modified Artman method, coincide with the ferromagnetic res-onance experimental results.

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RF 스퍼터 처리된 폴리이미드와 Cr 박막간 계면 접착력과 계면 반응성

  • 김동구
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • 제1권1호
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    • pp.33-40
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    • 1994
  • 금속박막 증착 전 Ar 이온을 이용한 폴리이미드 표면의 RF 스퍼터링 처리가 Cr/폴 리이미드 계면의 접착력과 반응성에 미치는 영향에 대하여 90。 peel test, TEM, FTIR 및 XPS를 사용하여 연구하였다. Cr/폴리이미드 계면의 접착력은 촐리이미드 표면은 RF 스퍼 터링 처리에 의해 1g/mm에서 100g/mm로 현저히 증가하였다. 표면 비저항 측정과 FTIR 및 XPS 분석결과 RF 스퍼터링 처리에 의한 Cr/폴리이미드 계면의 접착력 증가는 RF 스퍼 터링에 의한 폴리이미드 표면의 chemical modification 에 의해 증착되는 Cr과 계면 반응성 이 향상되는데 기인하는 것임을 밝혔다.

High Temperature Oxidation of TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN Thin Films (TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN 박막의 고온산화)

  • Kim, Min-Jeong;Park, Sun-Yong;Lee, Dong-Bok
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 한국표면공학회 2014년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.192-192
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    • 2014
  • TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN 박막을 제조한 후, 이 들의 고온산화 특성을 SEM, EPMA, TGA, TEM, AES 등을 이용하여 조사하고, 산화기구를 제안하였다. 산화속도, 생성되는 산화물의 종류와 분포는 박막의 조성, 산화온도, 산화시간에 따라 변하였다.

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Magnetostriction and Stress of NiFeCr/(Cu/Co90Fe10)×N/NiFeCr Multilayer Films (NiFeCr/(Cu/Co90Fe10)×N/NiFeCr 다층박막의 자기변형과 응력에 관한 연구)

  • Jo, Soon-Chul
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • 제20권1호
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    • pp.8-12
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    • 2010
  • The magnetostriction and stress of multilayer $NiFeCr/(Cu/Co_{90}Fe_{10}){\times}N/NiFeCr$ films were investigated. As the number of Cu $15{\AA}$/CoFe $15{\AA}$ bilayers was increased, the saturation magnetostriction decreased from $-5.6\times10^{-6}$ at 2 bilayers to $-8.5\times10^{-6}$ at 20 bilayers. A change of CoFe thickness from 10 to $20{\AA}$ caused a decrease in the magnitude of tensile stress from 980MPa to 590MPa as the number of Cu $15{\AA}$/CoFe $15{\AA}$ bilayers increased from 2 to 20. The maximum magnetostrictive anisotropy field that could be developed due to nonzero magnetostriction and stress is calculated to be 135.7 Oe when the number of Cu $15{\AA}$/CoFe $15{\AA}$ bilayers is 10.

Evaluation for Thin Films Characteristics of Nitride Titanium-Chromium using Arc Ion Plating (아크이온플레이팅에 의한 질화 티탄-크롬의 박막특성 평가)

  • Fujita, Kazuhisa;Yang, Young-Joon
    • Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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    • 제10권4호
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    • pp.96-101
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    • 2011
  • The thin films of TiN have been used extensively as wear-resistant materials, for instance, such as tools of high-speed cutting, metal mold forming etc. In these days, because the thin films capable of being used more severe conditions are needed, the technologies of arc ion plating are tried to improve its characteristics. The purpose of this study is to investigate the characteristics of thin films of (Ti,Cr)N compared with those of TiN. The method of arc ion plating, which is known as showing good tight-adherence and productivity, was used. After manufacturing thin films of ($Ti_{1-x}Cr_{x}$)N (x=0~1) with change of Cr in (Ti,Cr) target, atomic concentration, structure, size of crystallite, residual stress and surface roughness of thin films on substrate were investigated. As the results, it was confirmed that Cr atomic concentrations of thin films were proportionally changed with Cr atomic concentrations of target, and thin films of ($Ti_{1-x}Cr_{x}$)N (x=0~1) showed NaCl type and CrN existed as solid solution to TiN.

$TiO_2/Cr_2O_3/Cr$ Multilayer Thin Films With Using Environment Material For Hydrophilic (친수성을 가지는 친환경 창호소재용 $TiO_2/Cr_2O_3/Cr$ 다층박막)

  • Park, Sun-Ho;Lee, Kee-Sun;Moon, Chang-Jun
    • Proceedings of the Korean Society for Emotion and Sensibility Conference
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    • 한국감성과학회 2009년도 추계학술대회
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    • pp.258-260
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    • 2009
  • 광촉매능을 갖는 $TiO_2$는 국내외적으로 많은 연구가 진행되고 있으며, 빛의 조사로 발생하는 다양한 물리 화학적 촉매특성이 환경정화뿐만 아니라 및 에너지 흡수차단 기능도 갖고 있어 최근 주목을 받고 있다. 본 연구에서는 친수성을 가지는 친환경 창호소재용 및 초친수성을 가지는 자동차의 사이드미러 개발을 위해 유리표면에 이종밴드갭을 갖는 복합구조 $TiO_2/Cr_2O_3/Cr$ 박막을 스퍼터링법으로 증착하여 중간층인 $Cr_2O_3$의 역할을 고찰하였다. Cr, 결정질 $Cr_2O_3$ 기판의 경우 Anatase상과 Rutile상이 공존하는 미세조직이 관찰 되었으며 비정질 $Cr_2O_3$ 기판의 경우는 균일한 결정질 anatase-$TiO_2$상이 나타났다.

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