• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제21권2호
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• pp.111-117
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• 2008

We have studied surface roughness, contamination of impurity, bonding with some gas element, reflectance and zeta potential on masks to be generated or changed during photolithography/dry or wet etching process. Mask surface roughness was not changed after photolithography/dry etching process. But surface roughness was changed on some area under MoSi film of Cr/MoSi/Qz. There was not detected any impurity on mask surface after plasma dry etching process. Reflectance of mask was increased after variable plasma etching treatment, especially when mask was treated with plasma including $O_2$ gas. Blank mask was positively charged when the mask was treated with Cr plasma etching gas($Cl_2:250$ sccm/He:20 $sccm/O_2:29$ seem, source power:100 W/bias power:20 W, 300 sec). But this positive charge was changed to negative charge when the mask was treated with $CF_4$ gas for MoSi plasma etching, resulting better wet cleaning. There was appeared with negative charge on MoSi/Qz mask treated with Cr plasma etching process condition, and this mask was measured with more negative after SC-1 wet cleaning process, resulting better wet cleaning. This mask was charged with positive after treatment with $O_2$ plasma again, resulting bad wet cleaning condition.

• 한국지리정보학회지
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• 제17권3호
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• pp.195-206
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• 2014

본 연구에서는 휴대용 X-선 형광 분석기(X-Ray Fluorescence, XRF)와 지리정보시스템(Geographic Information Systems, GIS)을 이용하여 부산 폐광산 지역의 구리와 납에 관한 토양오염지도를 작성하였다. 연구지역의 수치표고모델(Digital Elevation Model, DEM)을 이용한 수문 분석을 통해 오염원으로부터 오염 물질이 확산될 수 있는 빗물의 흐름방향을 분석하였으며, 이를 고려하여 토양오염도 측정 지점을 24곳 선정하였다. 휴대용 X-선 형광 분석기를 이용하여 24곳 토양에서 구리와 납의 농도를 측정한 결과, 구리는 최대 8,255ppm, 납은 최대 2,146ppm가 검출되었다. 휴대용 X-선 형광 분석기로 측정한 구리와 납의 농도 자료를 ArcGIS 소프트웨어에 입력하였으며, 정규크리깅(ordinary kriging) 기법을 이용하여 공간보간(spatial interpolation)을 수행한 후 구리와 납에 관한 5m 해상도의 토양오염지도를 작성하였다. 그 결과 부산 폐광산 지역에서는 갱구들 주변에 적치되어 있는 폐석 및 광미를 중심으로 고농도의 구리와 납이 토양 내에 존재하는 것을 작성된 토양오염지도로부터 확인할 수 있었다. 본 연구를 통해 휴대용 X-선 형광 분석기와 GIS를 이용한 구리와 납의 토양오염지도 작성방법이 현장에서 효과적으로 사용될 수 있음을 알 수 있었다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2006년도 추계학술대회 논문집
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• pp.143-144
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• 2006

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2006년도 추계학술대회 논문집
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• pp.477-478
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• 2006

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2014년도 추계학술대회 논문집
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• pp.169-170
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• 2014

반도체, 디스플레이 산업 등의 진공공정이 사용되면서 공정 중에 내부기체 종류와 양을 정확한 측정하기 위해서 QMS (Quadrupole Mass Spectrometer)가 사용되고 있다. 이온전류 변화로 공정분석을 진행하므로 필라멘트로 인한 오염과 이온소스의 오염은 치명적으로 작용한다.

• Journal of Radiation Protection and Research
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• 제32권1호
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• pp.1-8
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• 2007

도시지역의 방사능 오염으로 거주민의 피폭영향을 평가할 수 있는 모델 METRO-K를 개발하였다. 모델의 특성으로 1) 실험 또는 경험자료를 사용하기 때문에 수학식이 간단하여 이해가 쉬울 뿐 아니라 계산에 필요한 변수의 수가 적으며 2) 도시환경을 구성하는 5가지 기본표면 만을 사용하여 복잡하고 다양한 주변 환경을 쉽게 구성할 수 있으며 3) 각기 다른 오염 표면으로 인한 선량을 평가함으로써 표면마다 적합한 제염대책을 수립하는데 용이하다. 피폭자의 특정 위치에서 각기 다른 오염표면으로부터 받게 되는 선량은 감마에너지와 오염 표면별 공기커마 값을 데이터 라이브러리로 만들어 평가에 이용하였다. 유럽 도시지 역의 4가지 대표적 거주형태 에 대한 공기커마 값을 사용하여 우리나라 도시지역의 7가지 대표적 주거형태에 적합하도록 공기커마 값을 조합하여 적용하였다. 장기간 방사성물질의 누설을 고려하여 하루 단위의 핵종별 공기중 농도, 강우량, 핵종의 화학적 형태 구성분율이 입력되면 침적 후 시간에 따른 각기 다른 표면에서의 공기중 흡수선량률과 피폭자의 거주 위치에 따른 인체 선량률이 평가된다. 아파트 밀집지역에 대한 가상 오염 시나리오의 적용결과 피폭자의 거주위치 뿐 아니라 피폭자가 거주하는 주변 환경에 따라 인체 선량률은 확연한 차이를 나타냈다.

• 한국해양환경ㆍ에너지학회지
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• 제15권4호
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• pp.302-313
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• 2012

마산만과 진해만 해저에서 각각 31개와 65개 표층퇴적물을 채취하여 중금속(Al, Fe, Mn, Cr, Cu, Ni, Zn, Pb, As, Cd)을 분석하였다. 중금속 함량은 우리나라 주변의 만 및 하구 퇴적물에 비해 마산만에서 Fe, Cr, Cu, Zn, Pb, Cd, As 등이 높았고 진해만에서 Mn이 높았다. Cu, Zn, Pb, Cd, As는 항구 및 산업시설이 위치한 마산만 해안에서 매우 뚜렷한 증가를 보였으며 공간분포를 통한 오염물질의 근원지 추정이 가능하였다. 오염에 의한 중금속 농축은 지각의 함량을 배경농도로 한 농축비에 근거할 때 진해만은 국지적으로, 반면에 마산만은 넓은 지역에 걸쳐 활발히 진행된 것으로 확인되었으며 특히 Cu, Zn, Pb 및 Cd의 농축비가 대비되었다. As, Cd, Cr, Cu, Pb, Ni, Zn 함량을 중금속 환경기준에 적용한 결과 진해만 시료의 일부와 마산만 시료의 거의 대부분이 주의기준(NOAA ERL, EC TEL, ANZECC ISQG-low, Hong Kong ISQV-low)을 초과하였으며, Cu 및 Zn 함량은 일부 마산만 시료에서 관리기준(NOAA ERM, EC PEL, ANZECC ISQG-high, Hong Kong ISQV-high)을 초과하였다. $I_{geo}$ 값에 근거한 마산만의 중금속 오염은 Fe, Mn, Cr, Ni는 우려할 만한 수준이 아닌 반면 Cu, Zn, Pb는 강한 오염단계에 직면해 있거나 진입해 있으며, Cd는 시료의 87.1%가 강한 오염단계 이상의 심화된 오염상태로 파악되었다.

• Tribology and Lubricants
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• 제16권6호
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• pp.415-424
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• 2000

The use of magnetoresistive (MR) head requires much tighter control of particle contamination in a drive since loose particles on the disk surface will generate thermal asperities (TA). In this study, a spinoff test was performed to investigate the adhesion and removal capability of a particle to disk surface. Numerical simulation was also performed to investigate dominant factor of particle detachment and to support experimental results. It was shown that particles are detached from the disk surface by the moment derived from the centrifugal force and the drag force and that the centrifugal force and capillary force are the dominant force, which determines spin-off of a particle on the disk surface. Removal of particles smaller than several micrometers, which are the main source of TA generation, is extremely difficult since the adhesion forces exceed the centrifugal force. Lubricant types and manufacturing process also influence the particle removal. Lower bonding ratio and lower viscosity of the lubricant will help to increase the removal rate of the particles from the disk surface.

• Applied Microscopy
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• 제50권
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• pp.28.1-28.6
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• 2020

Contamination on two-dimensional (2D) crystal surfaces poses serious limitations on fundamental studies and applications of 2D crystals. Surface residues induce uncontrolled doping and charge carrier scattering in 2D crystals, and trapped residues in mechanically assembled 2D vertical heterostructures often hinder coupling between stacked layers. Developing a process that can reduce the surface residues on 2D crystals is important. In this study, we explored the use of atomic force microscopy (AFM) to remove surface residues from 2D crystals. Using various transmission electron microscopy (TEM) investigations, we confirmed that surface residues on graphene samples can be effectively removed via contact-mode AFM scanning. The mechanical cleaning process dramatically increases the residue-free areas, where high-resolution imaging of graphene layers can be obtained. We believe that our mechanical cleaning process can be utilized to prepare high-quality 2D crystal samples with minimum surface residues.

• 한국약용작물학회지
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• 제2권3호
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• pp.211-218
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• 1994

조직배양에 의한 패모(Fritillaria thuubergii Miq)의 대량번식 체계를 확립하기 위한 기초실험으로써 인편배양시 오염을 감소에 미치는 모구의 표면살균방법, 항생제처리 효과, 모구의 조온처리 기간이 자구형성에 미치는 영향을 구명하고자 실험한 결과는 다음과 같다. 1. 포장재배한 패모를 수확한 후 인편 배양하였을 경우 외측인편이 내측인편보다 오염율이 현저히 높아 배양재료로는 부적합하였고, 내측인편은 70% 에탄을에 30분간 침지후 $4{\sim}5%\;sodium\;hypochlorite$ 용액에 $10{\sim}15$분간 표면살균함으로써 오염율을 줄일 수 있었다. 2. 배지내 항생제, 살균제 및 $lncyte^{tm}$첨가가 세균성 오염을 줄이는 데는 효과가 있었으나 곰팡이에 의한 오염은 방지할 수 없었다. 그러나 오염정도를 지연시키는 효과는 있었다. 3. 건조 저장시에는 $10^{\circ}C$에서 $2{\sim}4$주, 습윤저장시에는 $4{\sim}6$에서 자구 형성이 양호하였으며, kinetin첨가는 대조구에 비해 자구형성수를 크게 증가시키지는 않았다. 건조저장시 4주 이후에는 구가 마르면서 고사하는 현상을 나타내어 건조 저장이 패모의 저온처리 방법으로 적당하지 못하다고 생각되었다. 한편, 습윤 저장 6주후 kinetin $3{\sim}5mg/L$첨가구에서는 배양절편체당 10개 이상의 자구가 형성되었다.