본 연구는 복소유전률 측정장치의 실현을 목표로 한 것이다. 본 장치는 인터페이스 유니트, 외부 RAM, 프로그래머블 카운터, D/A 콘버터, 측정회로, S&H 회로, A/D콘버터 및 기타 제어회로로 구성하였다. 컴퓨터에 의해 여러 종류의 파형이 디지털화하여 생성되며 4096워드의 외부 스태틱 RAM에 전송된다. 이와같이 RAM에 저장된 데이타는 D/A콘버터에 의하여 아날로그 전압파형으로 변환된다. 이 전압파형의 주파수는 클럭펄스에 의한 RAM의 읽기 속도에 좌우된다. 이와같이 생성된 전압파형이 유전체에 인가되며 이 인가전압과 함께 유전체의 응답전압이 샘플링되어 A/D콘버터에 의해 디지털 데이터로 변환된다. 컴퓨터는 응답전압 및 인가전압을 취하게 되며 마지막으로 복소유전률을 계산한다. 본 측정장치의 측정주파수 범위는 0.04Hz-10kHz이다.
The conformational details of β-lactose are investigated through molecular dynamics simulations in conjunction with the adiabatic potential energy map. The adiabatic energy map generated in vacuo contains five local minima. The lowest energy structure on the map does not correspond to the structure determined experimentally by NMR and the X-ray crystallography. When aqueous solvent effect is incorporated into the energy map calculation by increasing the dielectric constant, one of the local minima in the vacuum energy map becomes the global minimum in the resultant energy map. The lowest energy structure of the energy map generated in aquo is consistent with the one experimentally determined. Molecular dynamics simulations starting from those fivelocal minima on the vacuum energy map reveal that conformational transitions can take place among various conformations. Molecular dynamics simulations of the lactose and ricin B chain complex system in a stochastic boundary indicate that the most stable conformation in solution phase is bound to the binding site and that there are conformational changes in the exocyclic region of the lactose molecule upon binding.
Kim, H.H.;Sohn, K.S.;Casas, L.M.;Pfeffer, R.L.;Lareau, R.T.
E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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제11권10호
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pp.53-59
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1998
Paraelectric lead landthanum titanate(PLT) thin films have been prepared by a reactive dc magnetron sputtering system using a multicomponent metal target. The surface area control of each element on the target markedly facilitates the fabrication of thin films of complex ceramic compounds. A postdeposition heat-treatment was applied to all as-deposited PLT thin films at annealing temperatures up to 75$0^{\circ}C$ for crystalization. The composition of the PLT(28) thin filmannealed at $650^{\circ}C$ was: Pb, 0.73; La, 0.28; Ti, 0.88; O, 2.9. The dielectric constant and dissipation factor of the thin film(200 nm) at low filed measurements (500 Vcm-1) are 1216 and 0.018, respectively. The charge storage density using a typical Sawyer-Tower circuit with a 500 Hz sine wave was 12.5 $\mu$Ccm-2 at the electric field of 200 kVcm-1.
Pure submicron $SrTiO_3$ powders had been synthesized with chemical wet process that $5N-NH_4OH$ solution was sprayed into the mixed solution of $SrTiO_3$, $TiCl_4$ and $H_2O_2$ with $N_2$ carrier gas. The characteristic properties of powders obtained from this experiment were as follows. The optimum synthesis condition in reaction bath was above PH 8.5 and under $25^{\circ}C$ The particle size of precipitated SrTiO(OH) powders dried at 6$0^{\circ}C$ was under 0.01${\mu}{\textrm}{m}$ and uniform. Amorphous precipitated complex powders emitted adsorbed water at 15$0^{\circ}C$ less that and crystalline $SrTiO_3$powders was produced from calcining the complex at 30$0^{\circ}C$. Sintered body of SrTiO3 fired at 133$0^{\circ}C$ showed that relative dielectric constant was 228 at 1MHZ and bulk density was 4.73g/$cm^3$.
본 논문에서는 퍼콜레이션 이론적 관점에 기초한 복소 유전율의 수치모델을 제시하고, 전기 전도성이 뛰어난 카본 블랙을 혼합한 유리섬유/에폭시 복합재료 적층판의 복소 유전율을 이용하여 이 깃을 검증하였다. 제시된 모델은 카본 블랙의 함유율이 퍼콜레이션 임계함유율 보다 높고, 주파수가 충분히 높아서 복합재료의 교류 전기전도도가 주파수에 비례하는 구간에서의 복소 유전율을 모사한다. 복합재료의 복소 유전율은 벡터회로망분석기와 7 mm 동축관을 이용하여 $0.5\;GHz\;{\sim}18\;GHz$ 대역에서 측정되었다. 제시된 모델은 퍼콜레이션 이론에서 유용하게 사용되는 축척(눈금잡이) 법칙의 함수형태와 실험을 통하여 구한 상수들로 구성되어 있으며, 복소 유전율을 주파수와 가본 블랙의 함유율의 함수로 나타내었다. 제시된 모델은 복소 유전율을 측정결과와의 비교를 통하여 검증되었다.
Increasingly complex tasks are performed by computers or cellular phone, requiring more and more memory capacity as well as faster and faster processing speeds. This leads to a constant need to develop more highly integrated circuit systems. Therefore, there have been numerous studies by many engineers investigating circuit patterning. In particular, PCB including module/package substrates such as FCB (Flip Chip Board) has been developed toward being low profile, low power and multi-functionalized due to the demands on miniaturization, increasing functional density of the boards and higher performances of the electric devices. Imprint lithography have received significant attention due to an alternative technology for photolithography on such devices. The imprint technique. is one of promising candidates, especially due to the fact that the expected resolution limits are far beyond the requirements of the PCB industry in the near future. For applying imprint lithography to FCB, it is very important to control thermal properties and mechanical properties of dielectric materials. These properties are very dependent on epoxy resin, curing agent, accelerator, filler and curing degree(%) of dielectric materials. In this work, the epoxy composites filled with silica fillers and cured with various accelerators having various curing degree(%) were prepared. The characterization of the thermal and mechanical properties wasperformed by thermal mechanical analysis (TMA), thermogravimetric analysis (TGA), differential scanning calorimetry (DSC), rheometer, an universal test machine (UTM).
에틸렌디아민, 프로필렌디아민 및 디에틸렌트리아민의 구리(II), 카드뮴(II) 및 아연(II)착이온의 桓元에 대하여 압력에 따른 폴라로그래피적 파라미터의 依存性을 조사하였다. 水銀滴下電極, 고인수은전극 및 나선형 백금선을 각각 作業電極, 基準電極 및 補助電極으로 사용하였다. 압력이 1기압에서 1,500기압으로 증가함에 따라 금속착이온의 還元半波電位는 陰電位 쪽으로 이동하였으며, 擴散電流는 상당히 커졌다. 이러한 현상은 전해질용액의 물리적 성질 곧 密度, 粘性度, 誘電常數, 電氣傳導度 등이 압력이 증가함에 따라 커지기 때문이다. 압력을 증가시키면 log plot의 기울기 값이 커지므로 환원반응의 可逆性은 나빠지고 있다. 25$^{\circ}$C ~ 35$^{\circ}$C의 온도범위에서 측정한 확산전류의 溫度係數가 압력을 증가시켜도 2%정도이므로 高壓下에서 폴라로그래피적 환원반응은 擴散支配的이다. 또 실험압력 범위내에서 금속착이온의 확산전류와 농도 사이에는 線形關係가 성립하였다.
6M HCl 용매 하에서 6-메틸퀴놀린과 chromium(VI) trioxide의 반응을 통하여 6-MQCC(크롬(VI)-6-메틸퀴놀린) 착물을 합성하였다. 적외선분광광도법(IR), 유도결합 플라즈마(ICP) 등으로 구조를 확인하였다. 여러 가지 용매 하에서 6-MQCC을 이용하여 벤질 알코올의 산화반응을 측정한 결과, 용매의 유전상수 값이 증가함에 따라 반응수율이 증가했다. 그 순서는 DMF > 아세톤 > 클로로포름 > 시클로헥센이었다. 산($H_2SO_4$) 촉매를 이용한 DMF 용매 하에서, 6-MQCC은 벤질 알코올(H)과 그의 유도체들($p-OCH_3$, $m-CH_3$, $m-OCH_3$, m-Cl, $m-NO_2$)을 효과적으로 산화시켰다. 전자받개 그룹들은 반응속도가 감소한 반면에 전자주개 치환체들은 반응속도를 증가시켰고, Hammett 반응상수(${\rho}$) 값은 -0.69 (308 K)이었다. 본 실험에서 알코올의 산화반응 과정은 속도결정단계에서 수소화 전이가 일어났다.
본 논문에서는 유리섬유 강화 복합재 적층판으로 이루어진 단일층 Dallenbach layer의 전파흡수체의 최적화 기법을 제시하고 그 성능을 분석하였다. 복합재 적층판의 전기적 특성을 제어하기 위해서 탄소나노튜브(CNT)를 혼합한 프리프레그를 사용하였다. 최적화 설계 기법은 유전자 알고리즘을 사용하였으며, 이를 이용하여 다양한 주파수에서 흡수체를 설계하고, 복합재의 두께 및 CNT 함유율을 최적화하였다. CNT 함유율의 최적화를 위해서는 복합재의 복소 유전율의 수치적 모델이 사용되었다. 전파흡수체의 최적설계에서 주파수에 따라서 CNT 함유율은 비례하여 증가하고, 흡수체의 두께는 반비례하여 감소한다. 흡수체의 -10 dB 흡수대역폭은 흡수체가 설계된 중심주파수에 비례하여 증가한다. 설계된 흡수체의 검증을 위해서 10 GHz에서 중심주파수를 갖는 흡수제를 제조하고 그 성능을 평가하였다. 복합재 적층판의 복소 유전율과 전파흡수체의 반사손실은 벡터회로망분석기와 7 mm 동축관을 이용하여 측정하였다. 복합재의 두께와 복소 유전율에 있어서의 측정된 값과 예측치의 차이에 의해서 중심주파수의 이동, 중심주파수에서의 반사손실의 감쇄, 흡수대역폭의 감소가 발생하였다.
$CHCl_3,\;CHCl_3 : CH_2Cl_2$(1 : 1), 및 $CH_2Cl_2$ 용매 중에서 aniline과 iodine간의 반응을 전도도법을 이용하여 속도론적으로 조사하였다. 유사 1차반응 속도상수($k_{obs}$) 및 2차 반응속도상수 ($k_{obs}$/[aniline])가 aniline 농도 의존성을 보였다. 실험적으로 구한 2차반응 속도 상수는 aniline 농도 증가와 더불어 증가하였다. 이러한 결과를 반응중간체로서 전하이동 착물생성에 기인하는 것으로 보고, 반응 메카니즘의 설정과 속도식의 유도로부터 착물 생성에 따른 평형상수와 변환에 따른 활성화 파라미터를 계산하였다. 평형상수는 용매의 유전상수의 증가와 더불어 감소하였으며, 1.7-3.7$M^{-1}$의 값을 보였다. 또한 변환의 빠르기는 용매의 극성에 크게 의존하였으며, ${\Delta}H^{\neq}$ 값은 약 14.2kJ/mol, ${\Delta}S^{\neq}$값은 약 -243j/mol K의 큰 음의 값을 나타내었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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