A Study on the Self-Aligned Cobalt Silicidation and the Formation of a Shallow Junction by Concurrent Junction Process (동시 접합 공정에 의한 자기정렬 코발트 실리사이트 및 얇은 접합 형성에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A
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- v.29A no.2
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- pp.68-76
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- 1992