• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.02a
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• pp.232-232
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• 2010

정보화 산업의 발달은 DRAM, flash memory 등을 포함한 기존의 반도체 메모리 소자를 대체할 수 있는 차세대 메모리 소자에 대한 개발을 요구하고 있다. 특히 magnetic random access memory (MRAM)는 SRAM과 대등한 고속화 그리고 DRAM 보다 높은 기록 밀도가 가능하고 낮은 동작 전압과 소비전력 때문에 대표적인 차세대 비휘발성 메모리로 주목받고 있다. 또한 MRAM소자의 고집적화를 위해서 우수한 프로파일을 갖고 재증착이 없는 나노미터 크기의 magnetic tunnel junction (MTJ) stack의 건식 식각에 대한 연구가 선행되어야 한다. 본 연구에서는 고밀도 반응성 이온 식각법(Inductively coupled plasma reactive ion etching; ICPRIE)을 이용하여 재증착이 없이 우수한 식각 profile을 갖는 CoFeB과 IrMn 박막을 형성하고자 하였다. Photoresist(PR) 및 Ti 박막의 두 가지 마스크를 이용하여 HBr/Ar, HBr/$O_2$/Ar 식각 가스들의 농도를 변화시키면서 CoFeB과 IrMn 박막의 식각 특성들이 조사되었다. 자성 박막과 동일한 조건에 대하여 hard mask로서 Ti가 식각되었다. 좋은 조건을 얻기 위해 HBr/Ar 식각 가스를 이용 식각할 때 pressure, bias voltage, rf power를 변화시켰고 식각조건에서 Ti 하드마스크에 대한 자성 박막들의 selectivity를 조사하고 식각 profile을 관찰하였다. 식각 속도를 구하기 위해 alpha step(Tencor P-1)이 사용되었고 또한 field emission scanning electron microscopy(FESEM)를 이용하여 식각 profile을 관찰함으로써 최적의 식각 가스와 식각 조건을 찾고자 하였다.

• 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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• 2009.06a
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• pp.33-36
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• 2009

고효율 양자점 태양전지를 위하여 $Si_{1-x}C_x$ 박막 내에 Si 양자점을 형성한 박막을 제작하고 그 특성을 분석하였다. $Si_{1-x}C_x$ 박막은 Si과 C target을 co-sputtering하여 증착하였다. C target의 RF power를 변화시켜 $Si_{1-x}C_x$ 박막의 조성비를 조절하였으며, 조성비는 auger electron spectroscopy로 정량적으로 측정하였다. 이 박막들을 질소 분위기에서 후 열처리하여 high resolution transmittance electron microscopy로 확인한 결과 박막 내에 2~10nm 크기의 양자점이 형성된 것을 관측할 수 있었다. 이 양자점은 transmittance electron diffraction과 grazing incident X-ray diffraction을 통해 Si 양자점과 SiC 양자점이 형성되었음을 알 수 있었다. Raman 측정 결과에서는 후 열처리한 $Si_{1-x}C_x$ 박막의 조성비가 증가할 수록 crystal Si peak의 shift가 증가함을 알 수 있었고, 이를 통해 양자점의 크기도 함께 계산할 수 있었다. Fourier transform infrared spectroscopy을 통해 후 열처리한 Si1-xCx 박막의 양자점의 형성 원인을 추정하였다.

• Journal of the Korean Ceramic Society
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• v.35 no.7
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• pp.647-647
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• 1998

(La,Sr)CoO3/Pb(Zr,Ti)O3/(La,Sr)CoO3 (LSCO) heterostructures have been grown on LaAlO3 substrates by pulsed laser deposition (PLD) to investigate asymmetric polarization of Pb(Zr,Ti)O3 (PZT) thin flims with different electrode configuration. P-V hysteresis loop of LSCO/PZT/LSCO was symmetric. However, LaCoO3 (LCO_/PZT/LSCO showed a largely asymmetric P-V hystersis loop and large relaxation of the remanent polarization at the negatively poled state, which means that the negatively poled state was unstable. On the other hand, LSCO/PZT/LCO exhibited large relaxation of the positively poled state. The asymmetric behavior of the polarized states implies the presence of an interal electric firld inside the PZT layer. It is suggested that internal electric field is caused by built-in voltages at LCO/PZT and LSCO/PZT interfaces. The built-in voltages at LCO/PZT and CSCO/PZT interfaces were 0.6 V and -0.12 V, respectively.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.15 no.1
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• pp.17-20
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• 2005

The influence of $O_2$ partial pressure on saturation mgnetization, coercivity, anisotropy field and effective permeability (over 1GHz) of as-deposited Co-Fe-Al-O thin films, which were fabricated by RF magnetron reactive sputtering method, were investigated. The $Co_{69.9}Fe_{20.5}A_{14.4O_{5.2}$ thin film fabricated at $O_2$ partial pressure of 4% exhibits the best magnetic softness with saturation magnetization 4${$pi}$Ms of 18.1 kG, coercivity of 0.82 Oe, anisotropy field ($H_k$) of Oe, and effective permeability (${\mu}_{eff}$) about 1,024 above 1 GHz. the electrical resistivity of Co-Fe-Al-O thin films were increased with increasing $O_2$ partial pressure, the electrical resistivity of $Co_{69.9}Fe_{20.5}A_{14.4O_{5.2}$ thin film with the best soft magnetic properties was 560.7 ${\mu}{\Omega}$am. Therefore, It is assumed that the good soft magnetic properties of $Co_{69.9}Fe_{20.5}A_{14.4O_{5.2}$ thin film results from high electrical resistivity and large anisotropy field.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.9 no.4
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• pp.203-209
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• 1999

Effects of Mo and Si addition in Cr underlayer on magnetic properties of CoCrTa/CrMo and CoCrTa/Si thin films media were investigated. Thin films were prepared with DC magnetron sputtering system. The thickness of CoCrTa magnetic layer and Cr underlayer were fixed at 300 $\AA$ and 700 $\AA$, respectively. The substrate heating temperature was kept constant at 26$0^{\circ}C$ for both magnetic layer and underlayer preparation. The coercivity increase of CoCrTa film was realized due to Mo addition in Cr underlayer. Si addition made a small decrease in coercivity. Coercivity increase seems to be attributed by the improvement of preferred orientation of Cr(200) plane. It is found that lattice fit between Cr(200) and CoCrTa(1120) of CrMo underlayer is better than that of CrSi underlayer. This small misfit may also contribute coercivity increase.

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.9 no.2
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• pp.49-54
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• 2002

Cobalt silcides thin films were prepared on Poly-Si/$SiO_2$/Si substrates by Co metal depostion using E-beam evaporation method and rapid thermal annealing for the application of inkjet printing heater. The crystal phases and composition distributions of the films were investigated as functions of the rapid thermal annealing (RTA) temperatures (600~$900^{\circ}C$) and times (20~40 sec). The high temparature thermal stability was also investigated by the analysis of sheet resistance and crystalline properties. The stable $CoSi_2$ phases were obtained by the RTA annealing at $800^{\circ}C$ for 20 seconds showing $0.8 \Omega /\Box$ of sheet resitance. However, the sheet resistances were sharply increased at below $700^{\circ}C$ due to changes of crystalline phases. The temperature resistance coefficient of heating elements was found to be about $0.0014/^{\circ}C$, and the obtained cobalt silicided films can be applied to the printer heating elements.

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2004.06a
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• pp.206-207
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• 2004

수직자기이방성을 갖는 [Co/Pt]$\times$5 다층박막을 상온에서 이온빔 증착(ion beam deposition)법으로 제작하여 자기적 및 열적 특성을 연구하였다. 수직자기이방성 특성은 비정상 홀(Hall)-전압법으로 측정하였으며, 표면광 Kerr 효과로 확인하였다. $[Co(10{\AA}/Pt(12.5{\AA})]{\times}5$) 다층박막에서 수직자성 보자력은 400 Oe이었고 수평자성은 매우 큰 곤란축(hard-axis) 특성을 유지하였다. 진공 열처리 시 1 kOe의 균일한 자기장이 박막면 수평(시료 A)과 수직(시료 B)이 되도록 각각 인가함에 따라 열적안정성을 관찰하였다. 시료 A의 수직자성의 보자력이이 $300^{\circ}C$에서 1 KOe로 유지되어 시료 B의 열적안정성 보다 훨씬 우수하였다.

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2002.12a
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• pp.206-207
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• 2002

전기도금방식으로 구현된 자기박막 재료로서 CoPtP 박막은 이제까지 보고된 재료 중 가장 높은 보자력 (H$_{c}$ > 5 kOe)과 뛰어난 각형비 (S＊≒0.7)를 가지고 있는 3원계 합금 박막재료이며[1], 차세대 고밀도 자기저장매체로서 [2] 각광받고 있다. 하지만 이제까지 보고된 연구결과는 CoPtP 박막을 전기도금방식으로 제작했을 때, 두께가 약 1$\mu\textrm{m}$ 이상일 경우, 결정립이 큰 칼럼구조(columnar structure)가 성장하여 보자력이 현저히 떨어지는 현상[3]을 보여왔으며, 이러한 이유 때문에 MEMS 등에 응용되는데 많은 제약을 받아왔다. (중략)

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.26 no.2
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• pp.50-54
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• 2016

We analyzed the angular dependence of ferromagnetic resonance linewidth in exchange coupled CoFe/MnIr bilayers. The maximum and minimum linewidth was observed in the easy and hard direction of unidirectional anisotropy by exchange coupling, respectively, and it was well agreed with the angular dependence of exchange bias field. The maximum linewidth was due to the twist of CoFe magnetization near CoFe/MnIr interface from direction of pinned MnIr spin to direction of applied magnetic field. While, minimum linewidth more higher than that of CoFe was related to rotatable anisotropy field, and explained by easy axis distribution of MnIr grains.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.3 no.4
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• pp.314-319
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• 1993

The Effects of additional element X (X = Si, Mo, Cu, Gd) on magnetic properties and microstructure of Co-1Zat%Cr-Zat%Ta/Cr-X magnetic thin film were investigated. The thickness changes of Cr-X underlayer and CoCrTa magnetic layer were in the range of $1000~2000\AA$ and $200~800\AA$. respectively. Substrate temperatures were controlled from $100^{\circ}C$ to $200^{\circ}C$. Increase of coercivity by about 100~200 Oe was observed in CoCrTa/Cr-X thin films compared to those without additional X element. Cu was the most effective additional element for increasing coercivity. CoCrTa/Cr-Cu thin film shows relatively high coercivity in $1500\AA$ underlayer thickness and $600\AA$ magnetic layer thickness.