원자층 증착법을 이용한 알루미늄 옥사이드 특성 연구
(Characteristics of Aluminum Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from TMA and $H_2O$ Precursors)
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- 한국세라믹학회:학술대회논문집
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- 한국세라믹학회 2003년도 추계총회 및 연구발표회 초록집
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- pp.199.2-199
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- 2003