A Study on Carrier Injection and Trapping by the High Field for MOS(Metal-$Al_2O_3$-p Si$ ) Structure
(Metal-$Al_2O_3$-p Si$ 의 MOS 구조에 있어서 고전계에의한 Carrier주입과 트랩에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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- v.24 no.1
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- pp.102-109
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- 1987