금속 산화물/그래핀 형태의 복합 나노소재는 높은 전기용량을 갖는 2차 전지의 전극용 소재 또는 고감도 가스 센서의 감지물질 등으로 활용되는 매우 유용한 기능성 소재이다. 본 논문에서는 열 화학기상증착(CVD, Chemical Vapor Deposition)으로 Cu Foil 위에 대면적으로 합성된 CVD 그래핀 및 고정렬 열분해 흑연(HOPG, Highly Oriented Pyrolytic Graphite)으로부터 기계적으로 박리된 그래핀 기판 위에 이산화바나듐($VO_2$) 나노구조물을 기상수송방법으로 직접 성장시키는 연구를 수행하였다. 연구결과 CVD 그래핀 기판의 경우, 그래핀 결정 경계에서 상대적으로 많이 존재하는 기능기들이 $VO_2$ 나노구조물에서 핵형성의 씨앗으로 작용하는 것이 확인되었다. 반면에 HOPG에서 기계적으로 박리된 그래핀 나노시트 표면에는 기능기가 균일하게 분포하기 때문에, 2차원과 3차원 형태로 $VO_2$ 나노구조물이 성장되었다. 이러한 연구결과는 고기능성 $VO_2$/그래핀 나노복합소재를 이용하여 높은 전기용량을 갖는 2차 전지 전극소재 및 고감도 가스 센서의 감지물질 합성에 유용하게 활용될 것으로 전망된다.
The characteristics of the fluid flow and mass transfer in a vertical atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) are numerically studied. In order to get the optimal process parameters for the uniformity of deposition on a substrate, Navier-Stokes and energy equations have been solved for the pressure, mass-flow rate and temperature distribution in a CVD reactor. Results show that the thermal boundary condition at the reactor wall has an important effect in the formation of buoyancy-driven secondary cell when radiation effect is considered. Results also show that reduction of the buoyancy effect on the heated reactor improves the uniformity of deposition.
A new advanced combined PVD/CVD technique of DLC film deposition has been developed. Deposition of a DLC film was carried out using a pulsed carbon arc discharge in vapor hydrocarbon atmosphere. The arc plasma enhancing CVD process promotes dramatic increase in the deposition rate and decrease of compressive stress as well as improvement of film thickness uniformity compared to that obtained with a single PVD pulsed arc process. The optical spectroscopy investigation reveals great increase in radiating components of $C_2$ Swan system molecular bands due to acetylene molecules decomposition. AFM, Raman spectroscopy, XPS and nano-indentation were used to characterize DLC films. The method ensures obtaining a new superhard DLC nano-material for deposition of protective coatings onto various industrial products including those used in medicine.
Hot filament CVD 방법에서 가스압을 증가시키는 방법을 사용하여 nanocrystalline 다이아몬드 막을 합성하였다. 메탄-수소 혼합가스를 사용하고 메탄함량, 유량, 기판온도합성시간은 각각 4%, 100sccm, 110$0^{\circ}C$, 10시간으로 일정하게 유 였다. 합성 변수로서 가스압을 40 Torr에서 300 Torr 구간에서 변화시켰다. High-resolution SEM으로 막 표면의 형상을 관찰하고, TEM, XRD, micro-Raman spectroscopy를 사용하여 합성된 막의 구조 및 특성을 분석하였다. 합성된 다이아몬드 막은 압력이 높아짐에 따라 mocrocrystalline 다이아몬드 막에서 점진적으로 nanocrystalline 다이아몬드 막으로 변화해갔으며, 가스압에 다라 비다이아몬드 상의 량이 증가하였다. 증착속도는 microcrystalline 다이아몬드 막이 형성되는 구간에서는 압력에 따라 1.1~1.3 $\mu\textrm{m}$/h까지 증가하다가 nanocrystalline 다이아모느 막이 형성되는 구간에서는 압력에 따라 감소하였다. 감소하였다.
Cardiovascular disease (CVD) accounts for approximately 30% of all deaths worldwide and its prevalence is constantly increasing despite advancements in medical treatments. Cardiac remodeling and dysfunction are independent risk factors for CVD. Recent studies have demonstrated that cardiac structure and function are genetically influenced, suggesting that understanding the genetic basis for cardiac structure and function could provide new insights into developing novel therapeutic targets for CVD. Regular exercise has long been considered a robust nontherapeutic method of treating or preventing CVD. However, recent studies also indicate that there is inter-individual variation in response to exercise. Nevertheless, the genetic basis for cardiac structure and function as well as their responses to exercise training have yet to be fully elucidated. Therefore, this review summarizes accumulated evidence supporting the genetic contribution to these traits, including findings from population-based studies and unbiased large genomic-scale studies in humans.
Ceramic is widely known material due to its outstanding mechanical property. Besides, Zirconia(ZrO2) has a low thermal conductivity so it is advantage in a heat insulation. Because of these superior properties, ZrO2 is attracted to many fields using ultra high temperature for example vehicle engines, aerospace industry, turbine, nuclear system and so on. However brittle fracture is a disadvantage of the ZrO2. In order to overcome this problem, we can make the ceramic materials to the forms of ceramic nanoparticles, ceramic nanowhiskers and these forms can be used to an agent of composite materials. In this work, we selected Au catalyzed Vapor-Liquid-Solid mechanism to synthesize ZrO2 nanowhiskers. The ZrO2 whiskers are grown through Hot-wall Chemical Vapor Deposition(Hot wall CVD) using ZrCl4 as a powder source and Au film as a catalyst. This Hot wall CVD method is known to comparatively cost effective. The synthesis condition is a temperature of $1100^{\circ}C$, a pressure of 760torr(1atm) and carrier gas(Ar) flow of 500sccm. To observe the morphology of ZrO2 scanning electron microscopy is used and to identify the crystal structure x-ray diffraction is used.
KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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제4C권3호
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pp.111-116
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2004
The Ni/SiC Schottky diode was fabricated with the $\alpha$-SiC thin film grown by the ICP-CVD method on a (111) Si wafer. $\alpha$-SiC film has been grown on a carbonized Si layer in which the Si surface was chemically converted to a very thin SiC layer achieved using an ICP-CVD method at $700^{\circ}C$. To reduce defects between the Si and $\alpha$-SiC, the surface of the Si wafer was slightly carbonized. The film characteristics of $\alpha$-SiC were investigated by employing TEM (Transmission Electron Microscopy) and FT-IR (Fourier Transform Infrared Spectroscopy). Sputterd Ni thin film was used as the anode metal. The boundary status of the Ni/SiC contact was investigated by AES (Auger Electron Spectroscopy) as a function of the annealing temperature. It is shown that the ohmic contact could be acquired beyond a 100$0^{\circ}C$ annealing temperature. The forward voltage drop at 100A/cm was I.0V. The breakdown voltage of the Ni/$\alpha$-SiC Schottky diode was 545 V, which is five times larger than the ideal breakdown voltage of the silicon device. As well, the dependence of barrier height on temperature was observed. The barrier height from C- V characteristics was higher than those from I-V.
Carbon nanotubes(CNTs) were synthesized by thermal chemical vapor deposition(CVD) method. To fabricate CNT gas sensor, catalyst metal layer was deposited on microstructure. The CNT gas detecting layer was grown by thermal CVD method on the catalyst metal layer. In order to investigate the gas sensing characteristics of the fabricated CNT gas sensor, it was exposed in NO$_2$ gas and sensitivity, response, and recovery time were measured. As the result, this sensor has better reproductibility and faster recovery time than another CNT gas sensors.
[ $SnO_2$ ] thin films have been deposited on the pyrex glasses and silicon wafers by CVD method. Tin oxide films had a good transmittance above 80% in the visible region and the lowest sheet resistance at $520^{\circ}C$. When the ratio of $SbCl_3$ was 2wt%. The optimum conditions were obtained at the oxidation time of 3 minutes in the case that Voc and Jsc were 0.40V and $33.5mA/cm^2$ respectively and the corresponding conversion efficiency was 6.07%.
Amorphous BON and Si-DLC thin films were synthesized by the RF plasma enhanced CVD method, and their oxidation behavior was studied up to $500^{\circ}C$ in air. The oxidation of both films was accompanied by evaporation of volatile species. The oxidation of BON film was preceded by nitrogen escape from the film, and oxygen penetration into the film. The oxidation of Si-DLC film was preceded by carbon escape probably as CO or $CO_2$from the film, and oxygen penetration into the film. The inwardly transported oxygen simply stayed in the oxidized BON and Si-DLC thin films.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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