• 기계저널
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• 제32권5호
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• pp.456-464
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• 1992

CMM과 CAD/CAM접속(interface)은 1)CMM의 가동률 향상과 자동측정 프로그램 작성의 효율화, 2) 피축정물 측정 기준값의 효율적 작성, 3) CMM의 측정결과의 피드 백에 의한 데이터 해석과 설계시방, 도면의 수정, 4) 설계되지 않은 미지형상의 피측정물을 측정해 CAD/CAM시스템에 의한 모델링과 NC 가공 프로그램의 작성을 주목적으로하여 진행되고 있다. 향후 생산라인 내의 검사 스테이션으로 사용될 수 있도록 CMM 자체의 제약 극복과, 공장자동화를 위한 요소 기술, 기계와의 접속 (interface) 기술개발에 의해 설계, 가공공정에 비해 상대적으로 낙후되어 있는 검사공정의 자동화와 타부문과의 통합화가 촉진될 것으로 전망된다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 1995년도 추계학술대회 논문집
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• pp.379-383
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• 1995

In this paper, vision inspection module for dimensional measurement has been developed. For high accuracy of CMM, camera calibration and edge detection with subpixel accuracy have been implemented. In measurement process, the position of vision probe can be recognized in PC by serial communication with CMM controller. The developed vision inspection module can be widely applied to the practical measurement process.

• 한국정보관리학회:학술대회논문집
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• 한국정보관리학회 2003년도 제10회 학술대회 논문집
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• pp.153-161
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• 2003

본 연구에서는 실세계 DB에 현실적으로 적용할 수 있는 DB품질평가항목을 개발하고자 한다. ISO 9126에 근거하여 DB품질평가 항목을 도출하고 소프트웨어의 프로세스를 심사하고 이에 기반하여 프로세스를 개선할 수 있도록 하는 CMM모형을 적용하고자 한다. DB 품질평가 항목의 개발은 기존 관련문헌 검토 및 유사분야에서 개발된 평가 모델을 분석하고, ISO 9126에 근거하여 DB품질평가 항목을 새롭게 도출하여 CMM모델을 적용한 데이터베이스 품질 프로세스 성숙도 모델을 제시하고자 한다.

• 한국공작기계학회:학술대회논문집
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• 한국공작기계학회 1998년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.35-39
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• 1998

Determination of effective EDM parameters is significant to increase productivity. However, With the complexity of EDM phenomena, a universal selection method of EDM parameters has not been established yet. Moreover, No attempt has been tried before to suggest a logical method in determining essential machining parameters for effective electrical discharge machining. Peak current, one of the most significant factors in EDM, is proportional to EDM area. This paper presents a method that can be Z-map modeling from CMM data, and calculate EDM area using Z-map.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2009년도 추계학술대회 논문집
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• pp.71-72
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• 2009

• 한국생산제조학회지
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• 제9권5호
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• pp.58-64
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• 2000

This paper proposes a method for determining optimal EDM parameters based on discharge area from the physical model of a tool electrode. Main parameters, which affect the EDM performance, are peak value of currents, pulse-on time, and pulse-off time. Such parameters are closely dependent on the discharge area in EDM process. In this paper the discharge area is estimated from the CMM scanning data to the tool electrode. The method is very useful when any geometric information to the tool electrode is not provided from tool modeler or producer. The method consists of following four steps. First a triangulation mesh is constructed from the CMM data. Secondly, the z-map is modeled from the triangulated mesh. Thirdly, the discharge area is estimated from intersection between the z-map model and a z-height plane. Finally, the machining parameters are easily calculated by some known EDM equations to the discharge area. An example is introduced to show that the machining parameters are calculated from the CMM data to a tool electrode.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2002년도 추계학술대회 논문집
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• pp.379-382
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• 2002

Among the CMM calibration techniques, the calibration with standard specimen is most accurate way to acquire the required precision. When there is no standard specimen, the calibration of CMM with itself is possible. This calibration method is called "self-calibration". In this paper, we developed self-calibration algorithm for CMM XY plane. It is possible to calculate the in-plane error and out-of-plane error of CMM with 3 different measurement of same artifact. Experimental result shows that the non-orthogonality error is dominant in in-plane error and the self-calibration result and laser interferometer measured result have almost same value.ame value.

• 한국지능정보시스템학회:학술대회논문집
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• 한국지능정보시스템학회 2003년도 춘계학술대회
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• pp.297-305
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• 2003

최근, 소프트웨어 업체들의 소프트웨어 프로세스 개선(SPI) 관련 인증 여부는 기업 경쟁력의 핵심적인 요인으로 그 중요성이 날로 강조되고 있다. 일반적으로, CMM 인증 획득을 위한 심사 과정에는 많은 시간과 경비가 .소요되므로, 보다 높은 수준의 인증을 효과적으로 획득하기 위해서는 사전에 인증 심사에 대비한 전략적 노력이 중요하다. 본 논문에서는 CMM인증 획득 준비를 효과적으로 수행하기 위한 목적으로, EAM(Enabler-Based Assessment Methodology)을 제시하고, 기업에 적용한 사례를 소개한다.

• 한국전자파학회논문지
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• 제21권9호
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• pp.1030-1036
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• 2010

본 논문은 다이폴 타입 안테나의 광대역화를 위한 원통형 자성 매질 구조를 가지는 급전 프로브의 시뮬레이션 설계를 제안한다. 저주파수 대역의 확보를 위해 고투자율의 자성체를 설계 계산에서 고려하였다. 광대역 특성은 투자율에 의존하지 않고, 자성체와 급전 프로브 사이의 거리($r_m$)와 자성체의 두께($t_m$)의 조정에 의해 구할 수 있다는 것이 확인되었다. 뿐만 아니라, 원통형 자성 매질의 구조를 가지지 않는 설계 안테나의 크기와 비교하여 약 18 % 정도 소형화시킬 수 있었다.

• 인터넷정보학회논문지
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• 제5권1호
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• pp.33-39
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• 2004

정보시스템 개발 프로젝트의 효율적이고 효과적인 관리를 위한 국내 실정에 맞는 CMM 기준 프로젝트관리와 정보시스템 감리 항목등과 분석도구가 요구되고 있다. 이 논문에서는 CMM을 기준하여 각 프로세스별 수행결과를 정량적으로 측정하여 해당 수치의 목표범위 내 관리가 가능하게하기 위해 gap 분석 및 평가를 반복해서 수행하여 품질관리, 생산관리, 원가관리, 지식의 통합관리를 가능하게 하여 정보화 기반의 지식 경영을 강화하고, 정보의 고급화, 차별화를 통해 고객 서비스를 강화하고, 프로세스 최적화를 통해 업무효율을 향상시키고 조직의 자발적 노력을 통해 조직 성숙도를 지속적으로 향상시키기 위한 조직 내 정보능력 측정에 있어 4단계 수준에 도달하기 위한 관리 및 감리 항목을 설정하고, 국내 5전문 업체에 적용 분석, 평가하는 모델을 제안하였다.