Polycarbonate (PC) and Polymethylmethacrylate (PMMA) surface was modified by ion assisted reaction (IAR) technique to obtain the hydrophilic functional groups and improve the wettability. In conditions of ion assisted reaction, ion beam energy was changed from 500 to 1500eV, and ion dose and oxygen gas blown rate were fixed $1\times10^{16}$ ions/$\textrm{cm}^2$ and 4ml/min, respectively. Wetting angle of water on PC and PMMA surface modified by $Ar^+$ ion without blowing oxygen at 4ml/mon showed $5^{\circ}$ and $10^{\circ}$. Changes of wetting angle with oxygen gas and $Ar^+$ ion irradiation were explained by considering formation of hydrophilic group due to a reaction between irradiated polymer chain by energetic ion irradiation and blown oxygen gas. X-ray photoelectron spectroscopy analysis shows that hydrophilic groups such as -C-O, -(C=O)- and -(C=O)-O- are formed on the surface of polymer by chemical interaction. The polymer surface modification using ion assisted reaction only changed the surface physical properties and sept the bulk properties. In comparison with other modification methods, the surface modification by IAR treatment was chemically stable and enhanced the adhesion between metal and polymer surface. The applications of various kinds of polymer surface modification methods, metal and polymer surface. The applications of various kinds of polymer surface modification could be appled to the new materials about hydrophilic surface properties by IAR treatment. The adhesion between metal film and polymer measured by Scotch tape test whether the hydrophilic surfaces could improve the adhesion strength or not.
Kim, Ji Won;Lee, Ji Hye;Jang, Hae Chang;Lee, Kee-Ahn
한국분말재료학회지
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제22권6호
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pp.408-412
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2015
This study attempts to manufacture a Ni-Cr-Al-Y coating layer using a kinetic spray process and investigates the microstructure and physical properties of the manufactured layer. The Ni-22Cr-10Al-1Y (wt.%) composition powder is used, and it has a spherical shape with an average diameter of $23.7{\mu}m$. Cu plate is used as the substrate. Optical microscope, X-ray diffraction, scanning electron microscope and Vickers hardness test are carried out to characterize the macroscopic properties of the coating layer. Furthermore, the coating layer underwent vacuum heat treatment at temperatures of $400^{\circ}C$ and $600^{\circ}C$ for 1 hour to check the effect of heat treatment temperature on the properties. The manufactured coating layer is 1.5 mm thick, and featured identical phases to those found in the powder. The porosity of the coating layer is measured at 2.99%, and the hardness is obtained at $490.57H_v$. The layer shows reduced porosity as heat treatment temperature increased, and hardness is reduced at $400^{\circ}C$ but shows a slight increase at $600^{\circ}C$. Based on the findings described above, this study also discusses possible manufacturing methods for a Ni-Cr-Al-Y coating layer using the kinetic spray process.
의료용 선형가속기에서 발생되는 고 에너지 광자선은 콜리메이터에 의하여 누출되며 치료두부(head), 콜리메이터, 환자를 포함한 치료실내의 모든 벽과 구성 물질들에 의하여 많은 산란선이 발생된다. 방사선치료는 종양에 따라서 최소한 40 Gy에서 80 Gy까지 조사되기 때문에 주위건강조직 특히 생식가능한 사람에 대한 생식선의 피폭선량을 평가하여야하며 종양치료에 영향을 주지 않은 범위에서 가능한 방법을 동원하여 피폭선량을 줄여야한다. 방사선 안전관리등의 기술기준에 관한 규칙(과학기술부령 제17호) 제3절 의료분야의 특별기준, 제44조(진료환자의 방사선 피폭)에 의하면 진료를 위한 환자 피폭선량을 합리적으로 달성 가능한 최소의 수준으로 유지하기 위한 절차를 구비하여야 하며 과학기술부 장관은 이에 준하는 의료시설 및 장비취급의 기술기준을 정하고 고시하여야한다고 명시 되어있다. 고 에너지방사선은 악성종양환자들의 치료성과를 향상시키는 동시에 치료후 방사선에 의한 만성효과가 발생 될 수 있기 때문에 주선속의 다양한 산란선과 누출선의 선질변화와 선량을 측정하고 생식선과 같은 주요장기를 산란선으로부터 차폐할 수 있는 기구를 제작 사용함으로서 방사선 피폭선량을 최대한으로 감소시킬 수 있었다. 고 에너지 방사선은 의료용 선형가속기(CLINAC 2100C/D. 2100C. 600C)에서 발생시킨 4, 6, 10 MV x-ray와 코발트원격치료장치(ALCYON II)의 코발트선원에서 방출되는 1.25 MV의 감마선을 이용하였다. 선량측정은 폴리스틸렌과 인체팬텀(Rando)사용하였으며 측정기는 이온함, TLD 및 필름을 사용하였다. 고 에너지 방사선에 의한 산란선은 장치의 콜리메이터 뿐만 아니라 치료실 벽 인체내부등 모든 방향에서 방사됨으로 납 벽돌에 의한 차폐율측정은 많은 변수를 가졌으며 고환인 경우에는 3면이 모두 차폐되도록 항아리모양으로 제작하였다. 태아인 경우 태아가 위치하고 있는 골반위에 육교모양의 선반을 만들고 그 위에 납 벽돌을 장치하도록 고안하였다. Co-60 감마선, 4 MV x-선, 10 MV x-선에서 발생되는 누출선량과 산란선량에 의한 평균 피폭선량은 조사면 중심으로부터 10, 30, 60cm 거리에서 조사면내 최대선량에 대하여 각각 $10^{-2},\;10^{-3},\;10^{-4}$의 비율로 측정되었으며 거리에 따라 지수함수로 줄어들었다. 흉부에 국한된 종양을 10 MV x-ray, $12{\times}12 cm^2$ 조사면으로 치료하였을 때 자궁에 받는 피폭선량은 0.9 mGy/Gy이며 고환이 받는 피폭선량은 0.6 mGy/Gy 이었으며 체장과 신장은 각각 4.8 mGy/Gy 와 2.5 mGy/Gy이다 10 MV x-선, $14{\times}14cm^2$ 조사면 경계로부터 10 cm 밖에서 납벽돌의 반가층 두께는 약 9.0 mm 이였고 20cm 밖에서는 반가층 두께가 약 6.5 mm로 측정되었다. 복부에 위치한 악성종양을 60 Gy 조사하였을 경우 태아가 위치하고 있는 자궁의 피폭선량은 약 370 mGy이고 이곳을 10 mGy이하가 되도록 차폐하려면 약 6.2 cm두께의 납 벽돌을 자궁위에 장착하여야 하며 골반치료시 고환에 10 mGy이하가 되도록 차폐하려면 약 5 cm 두께의 납 항아리가 요구된다. 고 에너지 고 준위 방사선치료시 고환은 3면을 항아리모양으로 차폐할 수 있어 피폭선량을 상당히 줄일 수 있으며 자궁인 경우 체내에서 산란된 선량의 차폐는 불가능하였다.
High-k materials have been paid much more attention for their characteristics with high permittivity to reduce the leakage current through the scaled gate oxide. Among the high-k materials, $ZrO_2$ is one of the most attractive ones combing such favorable properties as a high dielectric constant (k= 20 ~ 25), wide band gap (5 ~ 7 eV) as well as a close thermal expansion coefficient with Si that results in good thermal stability of the $ZrO_2$/Si structure. During the etching process, plasma etching has been widely used to define fine-line patterns, selectively remove materials over topography, planarize surfaces, and trip photoresist. About the high-k materials etching, the relation between the etch characteristics of high-k dielectric materials and plasma properties is required to be studied more to match standard processing procedure with low damaged removal process. Among several etching techniques, we chose the inductively coupled plasma (ICP) for high-density plasma, easy control of ion energy and flux, low ownership and simple structure. And the $BCl_3$ was included in the gas due to the effective extraction of oxygen in the form of $BCl_xO_y$ compounds. During the etching process, the wafer surface temperature is an important parameter, until now, there is less study on temperature parameter. In this study, the etch mechanism of $ZrO_2$ thin film was investigated in function of $Cl_2$ addition to $BCl_3$/Ar gas mixture ratio, RF power and DC-bias power based on substrate temperature increased from $10^{\circ}C$ to $80^{\circ}C$. The variations of relative volume densities for the particles were measured with optical emission spectroscopy (OES). The surface imagination was measured by scanning emission spectroscope (SEM). The chemical state of film was investigated using energy dispersive X-ray (EDX).
This study evaluated the microleakage performance of four self-etcing primer adhesives(Clearfil SE Bond, Clearfil Liner Bond 2, UniFil Bond, and FL Bond) and one self-etching adhesive(Prompt L-Pop). Class V cavity preparations with occlusal margins in enamel and gingival margins in dentin were prepared on both buccal and lingual surfaces of 50 extracted human molar teeth. Prepared teeth were randomly divided into five groups and restored using one of five adhesives and composite resins: Prompt L-Pop/Filtek Z 250(Group 1), Clearfil SE Bond/Clearfil AP-X(Group 2), Clearfil Liner Bond 2/Clearfil AP-X(Group 3), UniFil Bond/UniFil F(Group 4), and FL Bond/Filtek Z 250(Group 5). Following one day storage in room temperature water, the restored teeth were thermocycled for 500 cycles between 5$^{\circ}C$ and 55$^{\circ}C$. Marginal microleakage was assessed by dye penetration using 2% methylene blue dye. After 24 hours, the teeth were sectioned longitudinally and evaluated for microleakage under steromicroscope The data were statistically analysed by Kruskal-Wallis Test, Mann-Whitney and Wilcoxon signed ranked tests. The results of this study were as follows ; 1. The microleakges at both enamel and dentinal mal$.$gins were the lowest in group 4. increasing among groups in the following order: group 2, follwed by group 5, follwed by group 1, and the highest in group 3. 2. At the enamel margins, the microleakage of group 3 was significantly higher than those of groups 2. 4 and 5(p<0.05), and also the microleakage of group 1 was statistically higher than those of groups 2 and 5(p<0.05). 3. At the dentinal margins, microleakage of group 3 was signincantly higher than microleakages of groups 1, 2, 4 and 5(p<0.05). 4. Compared with microleakages between the enamel and dentinal margins of each group, groups 1, 4 and 5 at enamel margin and group 2 and group 3 at dentinal margin were higher microleakage. But there was no significant difference between enamel and dentinal microleakages of each group(p>0.05).
트렌지스터의 채널 길이가 줄어듦에 따라 절연층으로 쓰이는 $SiO_2$의 두께는 얇아져야 한다. 이에 따라 얇아진 절연층에서 터널링이 발생하여 누설전류가 증가하게 되어 소자의 오동작을 유발한다. 절연층에서의 터널링을 줄여주기 위해서는 High-K와 같은 유전율이 높은 물질을 이용하여 절연층의 두께를 높여주어야 한다. 최근에 각광 받고 있는 High-K의 대표적인 물질은 $HfO_2$, $ZrO_2$와 $Al_2O_3$등이 있다. $HfO_2$, $ZrO_2$와 $Al_2O_3$는 $SiO_2$보다 유전상 수는 높지만 밴드갭 에너지, 열역학적 안정성, 재결정 온도와 같은 특성 면에서 $SiO_2$를 완전히 대체하기는 어려운 실정이다. 최근 연구에 따르면 기존의 High-K물질에 금속을 첨가한 금속산화물의 경우 밴드갭 에너지, 열역학적 안정성, 재결정 온도의 특성이 향상되었다는 결과가 있다. 이 금속 산화물 중 $HfAlO_3$가 대표적이다. $HfAlO_3$는 유전상수 18.2, 밴드캡 에너지 6.5 eV, 재결정 온도 $900\;^{\circ}C$이고 열역학적 안전성이 개선되었다. 게이트 절연층으로 사용될 수 있는 $HfAlO_3$는 전극과 기판사이에 적층구조를 이루고 있어, 이방성 식각인 건식 식각에 대한 연구가 필요하다. 본 연구는 $BCl_3$/Ar 유도결합 플라즈마를 이용하여 $HfAlO_3$ 박막의 식각 특성을 알아보았다. RF Power 700 W, DC-bias -150 V, 공정압력 15 mTorr, 기판온도 $40\;^{\circ}C$를 기본 조건으로 하여, $BCl_3$/Ar 가스비율, RF Power, DC-bias 전압, 공정압력에 의한 식각율 조건과 마스크물질과의 선택비를 알아보았다. 플라즈마 분석은 Optical 이용하여 진행하였고, 식각 후 표면의 화학적 구조는 X-ray Photoelectron Spectroscoopy(XPS) 분석을 통하여 알아보았다.
Established microleakage tests have their own disadvantages. In this study, 3D reconstruction method was tried to overcome these disadvantages. Four types of microleakage tests were used and relationships among them were estimated: penetrated dye volume: marginal adaptability: degree of dye penetration and relative penetrated length to cavity wall. Twenty-four Class V cavities were bulk filled with composite (Esthet X) following surface treatments: N group (no treatment): E group (etching only): T group (etching + Prime & Bond NT). 50% silver nitrate was used as a dye solution after thermocycling ($5^{\circ}C{\;}&{\;}55^{\circ}C$, 1.000 times). Teeth were serially ground with a thickness of 0.2 mm. Volume of dye penetration was estimated from a three-dimensionally reconstructed image with a software (3D-DOCTOR). Percentage of margin without gap was estimated from SEM and degree of dye penetration and the relative length of dye penetration to overall cavity wall were also estimated. ANOVA and Scheffe test for dye volume, Kruskal-Wallis and Mann-Whitney test for marginal quality, Spearman's rho test for checking of relationships among methods were used. The results were as follows: 1. Dye penetration could be seen from several directions, furthermore, its volumetric estimation was possible. 2. Reverse relationship was found between dye volume and marginal quality (r = -0.881/ p = 0.004). 3. Very low relationship was seen between dye volume and two-dimensional tests (degree of dye penetration and relative length). However, 2D evaluation methods showed high relationship (p = 0.002-0.054) each other. 4. Three times vertical section could be recommended as a 2D test.
A novel complex [$Zn(phen)(o-AB)_2$] [phen: 1,10-phenanthroline o-AB: o-aminobenzoic acid] was synthesized and characterized by elemental analysis and X-ray diffraction single-crystal analysis. The crystal crystallizes in monoclinic, space group P2(1)/c with $a=7.6397(6){\AA}$, $b=16.8761(18){\AA}$, $c=17.7713(19){\AA}$, ${\alpha}=90^{\circ}$, ${\beta}=98.9570(10)^{\circ}$, ${\gamma}=90^{\circ}$, $V=2.2633(4)nm^3$, Z = 4, F(000) = 1064, S = 1.058, $Dc=1.520g{\cdot}cm^{-3}$, $R_1=0.0412$, $wR_2=0.0948$, ${\mu}=1.128mm^{-1}$. The Zn(II) is six coordinated by two nitrogen and four oxygen atoms from the 1,10-phenanthroline and o-aminobenzoic acid to furnish a distorted octahedron geometry. The complex exhibits intense fluorescence at room temperature. Theoretical studies of the title complex were carried out by density functional theory (DFT) B3LYP method. CCDC: 898291.
유기 태양전지는 저비용으로 제작이 가능하고 제작이 용이한 장점을 가지고 있으므로 많은 그룹에서 관심을 가지고 있다. 정공 수송층으로 사용되는 PEDOT:PSS는 많이 사용되지만 강한 산성 특성 때문에 ITO 전극에 식각이 되므로 문제가 있다. 그러므로 산화물 반도체 $WO_3$, $MoO_3$, 그리고 $V_2O_3$ 등이 태양전지에 많이 만들어지고 있다. 특히 copper oxide는 높은 광흡수율을 가지고 있으므로 태양전지에 사용하는 데 많은 기대되는 물질이다. Copper oxide 박막은 열증착 법, 스프레이 필로시스, 전기화학 증착, 화학증착법, 그리고 솔-젤법 등 다양한 증착 방법이 있다. 넓은 면적의 소자를 제작할 경우 솔-젤 방법은 기존의 증착법에 비해 낮은 비용으로 제작, 높은 성장율, 그리고 높은 기계적 탄력성의 장점이 있다. 솔-젤법으로 만든 copper oxide는 P3HT의 HOMO (high occupied molecular orbital)와 비슷한 위치에 접하고 있으므로 정공수송층으로 적합하다. 본 연구에서 제작된 태양전지의 구조는 ITO/P3HT:PCBM/CuxO로 구성되어 있다. ITO가 $10{\Omega}$/sq의비저항을 가지고 있었고 UV 처리를 하였다. 그 위에 P3HT:PCBM (1:0.8 weight)를 스핀 코팅하였다. 마지막으로 0.1 M $Cu_xO$용액은 Cu (II) acetate monohydrate를 소스로 2-methoxyethanol ($C_3H_8O_2$)의 용제와 안정제로 monoethanolamine ($C_2H_7NO$)을 섞어서 만들었다. 그리고 P3HT:PCBM 위에 스핀 코팅하였고 열증착 방법으로 전극인 Ag 을 증착하여 최종 소자를 만들었다. Cu(II) acetate의 소스로 제작된 박막의 투과율 측정을 통해 에너지 밴드갭을 구할 수 있었다. Copper oxide 박막은 다결정구조 이므로 다중 밴드갭으로 구성되어지는 것을 알 수 있었다. 최종적으로 만들어진 소자를 열처리를 통해 소자 특성을 조사했더니 250도에서 가장 좋은 결과를 얻을 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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