• 제목/요약/키워드: Bombardment

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플라즈마 이온조사에 의한 수직배향 탄소나노튜브의 구조변화 (Structure modification of vertically aligned carbon nanotubes by plasma ion bombardment)

  • 이병주;신의철;정구환
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.261-261
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    • 2009
  • 탄소나노튜브(CNT)는 우수한 기계적, 화학적, 전기적 특성 때문에 전자방출원, 가스저장매체, 약물전달시스템 그리고 전기화학적 소자 등의 응용으로 주목받고 있다 [1-3]. 이러한 응용을 위하여 플라즈마 이온조사법을 이용하여 열화학증기증착법(TCVD)으로 성장된 수직배향 탄소나노튜브(VCNT)의 구조변화를 도모하고, 그 메커니즘을 연구하였다.

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GSI소자 개발을 위한 극 저 에너지 이온 주입에 대한 분자 역학 시뮬레이션 (Molecular dynamics simulation of ultra-low energy ion implantation for GSI device technology development)

  • 강정원;손명식;황호정
    • 전자공학회논문지D
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    • 제35D권3호
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    • pp.18-27
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    • 1998
  • Molecular dynamicsinvestigations of ion implantation considering point defect generation were performed with ion energies in the range of ~1keV, Simulation starts perfect diamond cubic lattice site. Stillinger-Weber potential and ZBL potential were used to calculate forces between atoms. We have simulated slowing-down of ion velocity, ion trajectory and coupled-coing between ion and silicon. We also discussed distribution of point defect using rdial distribution function. We found that interstitial produced by ion bombardment mainly formed interstitial cluster.

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Photoaddition Reaction of 5,7-Dimethoxycoumarin with Adenosine

  • Cho, Tae-Heung;Shim, Hyun-Kwan;Shim, Sang-Chul
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제8권3호
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    • pp.206-211
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    • 1987
  • The photoreaction of 5,7-dimethoxycoumarin with adenosine has been carried out in a dry film state. The mixture of DMC and adenosine was irradiated with 350 nm UV light and two major products were isolated. The structure was determined by various spectroscopic measurements involving $^{13}C$ nuclear magnetic resonance and fast atom bombardment mass spectrometry. These addition products were produced by covalent bond formation between the pyrone ring at carbon 3 or 4 and the sugar ring moiety of adenosine at carbon 5'.

고휘도 휴대용 디스플레이를 위한 액정소자의 폴리스타일렌 배향막에 관한 연구 (Chemically modulated polystyrene surface using various ion beam exposure time for liquid crystal alignment of high brightness mobile display)

  • 조명현;이호영
    • 한국위성정보통신학회논문지
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    • 제9권3호
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    • pp.22-26
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    • 2014
  • 본 연구에서는 액정의 수직배향을 달성하기 위해서 특별히 제조된 폴리스타일렌 박막에 다양한 이온빔을 조사하는 방법을 사용하였다. 일반적으로 폴리스타일렌 수지는 통상의 폴리이미드 계열의 수지에 비해서 박막코팅을 하였을 때 보다 우수한 투과율을 나타내므로, 투과형 디스플레이로 사용되는 LCD의 배향막 재료로 더 적합하다고 생각되었다. 특히 고휘도이면서 저전력 사양을 달성하여야 하는 휴대용 디스플레이에서의 응용가능성이 기대되었다. 그러나, 일반적인 러빙법에 의한 배향처리에 대해서는 액정분자의 배향성이 폴리이미드 계열의 재료에 비해서 열등하여 사용되지 못하였다. 본 연구에서는 폴리스타일렌 계열의 박막재료를 배향막으로 가공함에 있어서 새로운 이온빔 조사법에 의한 비접촉식 배향법을 사용하였으며, 배향성과 액정분자의 프리틸트각 특성에 대해서 정량적인 결과를 얻을 수 있었다. 실험에서는 폴리스타일렌 수지에 이온빔의 조사시간을 15초까지 변화시키면서 액정분자의 배향성 및 프리틸트각의 특성을 측정하였다. 측정결과 스마트폰 및 휴대용 정보단말기 등의 디스플레이에 적합한 고투과율 액정표시소자의 구현이 가능하였다.

고속원자충격질량분석법을 이용한 Thromboxane $B_2$ 분석 (An Analytical Method of Thromboxane $B_2$ by Fast Atom Bombardment Mass Spectrometry)

  • 장석윤;김정훈;이용문;장성기;문동철
    • 분석과학
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    • 제6권4호
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    • pp.349-357
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    • 1993
  • 고속원소충격질량분석법을 이용하여 thromboxane $B_2$의 극미량분석법을 개발하였다. static FAB mode에서 decosanoic acid를 내부표준물로 이용하여 검출한계 5ng의 분석법을 확립하였고, CF-FAB mode에서 고안한 시료도입장치를 사용하여 thromboxane $B_2$의 측정감도, 재현성 등 정량분석에 미치는 용매조성, 용매의 유속 등 분석파라미터들을 조사하였다. CF-FAB mode에서 0.75% glycerol(in EtOH, v/v)을 eluent 용매로, 유속을 $3.7{\mu}l/min.$로 하여 분석조건을 최적화하고 TIC법과 SIM 검출법을 이용하여 정량한계 각각 500pg 및 10pg인 극미량분석법을 확립하였다.

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아르곤 이온에 의해 표면처리된 CNT 에미터의 전계방출 특성 (Field Emission Characteristics of Surface-treated CNT Emitter by Ar Ion Bombardment)

  • 권상직
    • 전자공학회논문지 IE
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    • 제44권2호
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    • pp.26-31
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    • 2007
  • 카본나노튜브 전계 방출 어레이(carbon nanotube field emission array, CNT FEA)를 유리기판 상에 형성시키기 위하여 CNT 페이스트를 스크린 프린팅 후 표면처리를 수행하였다. 본 실험에서는 효과적인 표면처리 방법으로서 이온 빔을 조사(expose)시키는 방법을 연구하였다. 먼저, 유리 기판상에 감광성 CNT 페이스트를 스크린 프린팅하고 UV 후면노광 및 현상공정에 의해 선택적으로 CNT 페이스트를 남겼다. 다시 고온에서 소성후 CNT들은 바인더 성분들에 의해 문히게 된다. 본 실험에서는 소성된 CNT 페이스트의 표면상에 Ar 이온빔을 가속시켜 페이스트의 바인더(binder)를 선택적으로 제거함으로써 전계방출 특성을 향상시킬 수 있었다. 표면처리를 위한 이온 빔 가속시 이온빔의 가속에너지에 따라 특성이 크게 변화되었는데, 본 연구에서는 100 V의 낮은 가속 전압에서 가장 높은 전계방출 특성을 나타내었으며 가속 전압이 너무 높으면 바인더 성분 외에도 CNT 자체가 제거됨으로써 오히려 특정이 저하됨을 알 수 있었다.

Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl2-Based Plasma

  • Woo, Jong-Chang;Ha, Tae-Kyung;Li, Chen;Kim, Seung-Han;Park, Jung-Soo;Heo, Kyung-Mu;Kim, Chang-Il
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제12권2호
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    • pp.60-63
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    • 2011
  • We investigated the etching characteristics of zinc oxide (ZnO) and the effect of additive gases in a $Cl_2$-based inductively coupled plasma. The inert gases were argon, nitrogen, and helium. The maximum etch rates were 44.3, 39.9, and 37.9 nm/min for $Cl_2$(75%)/Ar(25%), $Cl_2$(50%)/$N_2$(50%), and $Cl_2$(75%)/He(25%) gas mixtures, 600 W radiofrequency power, 150 W bias power, and 2 Pa process pressure. We obtained the maximum etch rate by a combination of chemical reaction and physical bombardment. A volatile compound of Zn-Cl. achieved the chemical reaction on the surface of the ZnO thin films. The physical etching was performed by inert gas ion bombardment that broke the Zn-O bonds. The highly oriented (002) peak was determined on samples, and the (013) peak of $Zn_2SiO_4$ was observed in the ZnO thin film sample based on x-ray diffraction spectroscopy patterns. In addition, the sample of $Cl_2$/He chemistry showed a high full-width at half-maximum value. The root-mean-square roughness of ZnO thin films decreased to 1.33 nm from 5.88 nm at $Cl_2$(50%)/$N_2$(50%) plasma chemistry.

ECR-PECVD 방법으로 증착한 Diamond-Like carbon 박막의 광 특성 (Optical properties of diamond-like carbon films deposited by ECR-PECVD method)

  • 김대년;김기홍;김혜동
    • 한국안광학회지
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    • 제9권2호
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    • pp.291-299
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    • 2004
  • ECR-PECVD 방법을 이용하여 ECR power, $CH_4/H_2$ 가스 혼합비와 유량, 증착시간을 고정 시켜놓고 기판 bias 전압을 변화 시켜가면서 유리 기판위에 DLC 박막을 제작하였다. Raman, FTIR 및 UV/Vis 스펙트럼을 측정하여 기판 bias 진압에 따른 이용 충돌이 박막의 특성 변화에 미치는 영향을 조사하였다. FTIR 분석결과로부터 기판 bias 전압을 증가시킬수록 이용충돌 현상이 두드러져 탄소와 결합하고 있던 수소원자들의 탈수소화 현상을 확인할 수 있었고, 박막의 두께는 bias 전압을 증가시킬수록 감소되었다. 그리고 Raman 스펙트럼으로부터 Gaussian curve fitting을 통하여 sp3/sp2의 결합수에 비례하는 D/G피크의 면적 강도비(ID/IG)는 기판 bias 전압을 증가시킬수록 증가하였다. 그리고 광 투과율은 증착시간을 길게 할수록, 기판 bias 전압을 크게할수록 감소하였으나, 박막의 밀도가 증가하고 더 매끄러운 DLC 박막이 형성되었다. 이 결과로부터 DLC 박막은 기판 bias 전압의 크기를 증가시킬수록 특성이 더 향상됨을 알 수 있었다.

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