• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1997년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1205-1209
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• 1997

When the short fault current is flowed into a fuse, the notch of element is melted, and burnbacked by arc plasma, which caused by the voltage of fuse at both ends. The cutoff ability of fuse is heavily influenced by the degree of burnback. In this paper, we investigated the amount of burnback to the applied voltage di/dt variation, As a result, we confirmed that the amount of burnback is proportional to the variation of the applied voltage.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2000년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1717-1719
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• 2000

DLC films are deposited by using an FCVA deposition system with a mirror-type magnetic field configuration. Permanent magnets and: magnetic yokes around the cathode have been observed to enhance the mobility of arc spots on the cathode and the stability of arc plasma, Effects of reactor pressures and substrate biases on structural properties of DLC films deposited are investigated. The results show that the highest $sp^{3}/sp^{2}$ fraction is obtained when the films are deposited at a pressure of $3{\times}10^4$ Torr and a bias voltage of - 50 V. The variation of the structural properties due to thermal stress up to 500$^{\circ}C$ is also examined.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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• pp.478-478
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• 2010

대기압 플라즈마 공정은 진공 플라즈마 공정에 비해 장치의 경제성 및 규모면에서 많은 장점을 갖고 있어 대기압 공정에 대한 연구가 필요하다. 본 연구는 대기압 DC Arc Plasmatron을 이용하여 기체의 유량, 전류, plasmatron과 Si wafer 간의 거리를 변화시켜 이에 대한 Si wafer에 식각률(etching rate)을 확인하고 최적화 하였다. Ar은 2000sccm, $CF_4$는 50, 100sccm, 그리고 $O_2$는 0~1000sccm의 유량에 변화를 주었고 전류는 50A, 70A에서 식각하였다. 분석을 위해 Si wafer를 SEM(scanning electron microscope) 측정을 하였고, 그 결과 전류는 70A에서 기체 유량은 $CF_4$는 100sccm, $O_2$는 500sccm 일 때 식각률이 높게 나타났다. 그리고 전류와 유량을 위와 같은 조건에서 Plasmatron과 Si wafer 간의 거리를 5mm~15mm 변화를 주었을 때 Si wafer에 식각률을 측정해 본 결과 거리가 5mm일 때 식각률이 가장 높음을 확인 할 수 있었다. 아울러 거리를 변화시켰을 때가 유량이나 전압을 변화시킨 것 보다 식각률의 변화가 큰 경향을 보임을 알 수 있었다.

• 한국표면공학회지
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• 제31권6호
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• pp.334-344
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• 1998

Yew coating pmccss t.o form a surface layer ol CrN phasc on mild steel (A81 1020!, AlSI Hi3, 1Cr-0.5Mo steel (ASTM A213 and Nickrl-base superalloy (Inconel 718) was developed. Surlaces of various alloys t,n.ateii by chromizing for the formation ol Cr diffusion layer was subsequently trcaled by plasma nitriding in order t.o form the hard CrS coating layer on the surfaces. This duplex plasma surface tri-atments of chromizing and plasma nitriding have induced a lormation of a duplex-lrcated surfacr hyer of approximat~ls 70-80 $\mu\textrm{m}$thickncss with a iargcly improved microiiardnrss up to approxiniateW 1500Hv(50gf). The main cause for the lage improvment in the surface hardncss is altribilted to [.he fact that CrN and $Fe_xN$ phases are created successfully by ccliromizins and plasma nilriding treatment. High tenipera1,urc wear resislance of the duplex-treated mild steel and HI3 steels at $600^{\circ}C$ was examined. Comparing the duplex-treated specimens with the specimens treated only by chromizing, the rcsults shovmi that, thc wear volume of the duplex-treated mild skcl and 1113 stcel aSt.er a wear test, at $600^{\circ}C$ were reduced hy a Iactor of 8 and 3, respectively. Characteristics of the CrS phase by duplrx treatment were compared with $CrN_x$,/TEX> film by ion plating and the wear behaviors of CrN film lormed by two different nroccsses arc nea.riy identical.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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• pp.198-198
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• 2011

단분산 결정질 실리콘 나노입자 (<10 nm)는 양자점 효과로 인한 선택적 파장 흡수가 가능하므로 태양전지 분야에 응용 가능성이 크다. 특히 입경의 크기가 작아지면 부피대비 표면적이 넓어지기 때문에 태양빛 흡수 면적이 증가한다. 따라서 입자의 크기는 태양전지에서 효율을 결정하는 중요한 요소 중 하나이다. 이러한 이유에서 plasma arc synthesis, laser ablation, pyrolysis 그리고 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등이 실리콘 나노입자를 합성하는데 연구되어 왔으며, 특히 PECVD는 입자 생성과 동시에 균일한 증착이 이루어질 수 있기 때문에 태양전지 제작 시 공정 효율을 높일 수 있다. PECVD를 이용한 나노입자 합성에서 입경을 제어하는데 중요한 전구물질은 Ar과 SiH4가스이다. Ar 가스는 ICP (Inductively Coupled Plasma) 챔버 내부에 가해준 전력을 통해 가속됨으로써 분해되어 Ar plasma가 생성된다. 이는 공급되는 SiH4가스를 분해시켜 핵생성을 유도하고, 그 주위로 성장시킴으로써 실리콘 나노입자가 합성된다. 이때 중요한 변수 중 하나는 핵생성과 입자성장시간의 조절을 통한 입경제어 이다. 또한 공급되는 가스의 유량은 입자가 생성될 때 필요한 화학적 구성비를 결정하므로 입경에 중요한 요소가 된다. 마지막으로 공정압력은 챔버내부의 plasma 구성 요소들의 평균 자유 행로를 결정하여 SiH4가 분해되어 입자가 생성되는 속도와 양을 제어한다. PECVD를 이용한 실리콘 나노입자 형성의 주요 변수는 RF pulse, 가스(Ar, SiH4, H2)의 유량, Plasma power, 공정압력 등이 있다. 본 연구에서는 RF (Radio Frequency) PECVD방법을 이용하여 실리콘 나노입자를 만드는데 필요한 여러 변수들을 제어함으로써 이에 따른 입경분포 차이를 연구하였다. 또한 SEM (Scanning Electron Microscopy)과 SMPS (Scanning Mobility Particle Sizer)를 이용하여 각 변수에 따라 생성된 나노입자의 입경과 농도를 분석하였다. 이 중 plasma power에 따른 입경분포 측정 결과 600W에서 합성된 실리콘 나노입자가 상당히 단분산 된 형태로 나타남을 확인할 수 있었고 향후 다른 변수의 제어, 특히 DC bias 전압과 열을 가함으로써 나노입자의 결정성을 확인하는 추가 연구를 통해 태양전지 제작에 응용 할 수 있을 것으로 예상된다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제27권6호
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• pp.561-568
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• 2002

Purpose of this research is estimating polymerization depth of different source of light. XL 3000 for halo-gen light, Apollo 95E for plasma arc light and Easy cure for LED light source were used in this study. Different shade (B1 & A3) resin composites (Esthet-X, Dentsply, U.S.A.) were used to measure depth of cure. 1, 2, and 3 mm thick samples were light cured for three seconds, six seconds or 10 seconds with Apollo 95E and they were light cured with XL-3000 and Easy cure for 10 seconds, 20 seconds, or 40 seconds. Vicker's hardness test carried out after store samples for 24 hours in distilled water. Results were as following. 1. Curing time increases from al1 source of lights, oui$.$ing depth increased(p<0.05). 2. Depth (that except 1mm group and 2mm group which lighten to halogen source of light) deepens in all groups, Vickers hardness decreased(p<0.05). 3. Vicker's hardness of A3 shade composite was lower in all depths more than B1 shade composites in group that do polymerization for 10 seconds and 20 seconds using halogen source of light(p<0.05), but group that do polymerization lot 40 seconds did not show difference(p>0.05). 4. Groups that do polymerization using Plasma arc and LED source of light did not show Vicker's hardness difference according to color at surface and 1mm depth(p>0.05), but showed difference according to color at 2mm and 3mm depth(p<0.05). The results showed that Apollo 95E need more polymerization times than manufacturer's recommendation (3 seconds), and Easy cure need polymerization time of XL-3000 at least.

• 대한소아치과학회지
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• 제30권2호
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• pp.245-253
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• 2003

치과용 복합레진의 중합률은 레진 기질내의 이중결합의 전환도를 나타내는 것으로 이는 재료의 물리적 성질과 기계적 성질 및 생체 친화성에 영향을 미친다. 레진의 중합도가 증가하면 취성과 수축이 증가하고 중합도가 낮으면 기계적 물리적 성질이 감소한다. 따라서 본 연구에서는 광중합형 복합레진을 사용하여 플라즈마 아크 중합기 2종, 할로겐 중합기 2종, LED 중합기 2종, pulse-delay curing의 서로 다른 중합방법의 경우를 FTIR 분석법으로 복합레진의 물리적 기계적 성질 및 생체친화성에 영향을 미치는 중합률을 분석하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 광중합 복합레진의 중합률은 FTIR로 측정하였을 때 34.52-49.31%사이로 나타났으며 플라즈마 아크 중합의 경우 Flipo는 $39.96{\pm}1.22%$, CrediII는 $45.64{\pm}1.34%$로, 할로겐 중합시 XL3000은 $43.48{\pm}1.34%$, VIP의 mode 4 사용시는 $44.31{\pm}0.72%$, LED의 LUXOMAX는 $49.31{\pm}2.37%$, Elipar Freelight는 $44.51{\pm}0.62%$, pulse-delay curing시에는 $34.52{\pm}0.85%$로 나타났다. 2. 각 중합 방법별로 중합률은 LED 중합 방법을 이용한 LUXOMAX가 다른 실험군에 비하여 가장 높은 중합률을 나타냈으며 pulse-delay curing 방법이 가장 낮은 중합률을 보였다. 3. Flipo 중합기, LUXOMAX 중합기, pulse-delay curing 방법이 다른 중합기와 비교하여 통계적으로 유의한 차이를 보였다(p<0.05). 4. 각 중합방법이 동일한 군 내의 중합기기별 차이에서는 할로겐에서는 광중합기 사이에 중합률의 차이를 보이지 않았으나 플라즈마 아크에서는 CrediII가, LED에서는 LUXOMAX가 중합률이 높았다(p<0.05).

• 대한소아치과학회지
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• 제31권2호
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• pp.273-279
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• 2004

최근에 소개된 single high-intensity LED 중합기는 이전의 LED 중합기에 비해 높은 광도를 가지며 짧은 중합시간에 적절한 물성을 가질 수 있다고 한다. 본 연구는 single high-intensity LED 중합기의 중합성능을 평가하기 위하여 거리에 따른 중합도를 조사하였다. Mylar strip사이에 복합레진(Filtek Z250)을 넣고 압접시켜 만든 얇은 필름형 시편을 LED 중합기(Elipar Freelight 2, 10초), 플라스마 중합기(Flipo, 6초)와 할로겐 중합기 (XL3000, 20초)를 사용해 0mm, 2mm, 4mm, 6mm에서 광도를 측정하고 중합시켰다. 중합된 시편을 Fourier Transform Infrared Spectrometer(FTIR)를 이용해 중합도를 측정한 후 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 모든 중합기에서 거리가 증가할수록 유의하게 광도가 감소하였으며 LED중합기의 경우 6mm에서 다른 중합기에 비해 가장 많은 광도 감소율을 보였다(p<0.05). 2. 모든 중합기에서 거리가 증가함에 따라 4mm까지는 중합도가 감소하였지만 유의한 차이는 보이지 않았다(p>0.05). 하지만 4mm와 6mm사이에서는 모든 중합기에서 유의하게 감소하였다(p<0.05). 3. 각 거리에 따른 중합기간의 중합도 차이는 0mm, 2mm, 4 mm에서 LED중합기가 다른 중합기보다 유의하게 높은 중합도를 보였으며 (p<0.05) 플라스마 중합기와 할로겐 중합기 사이에서는 유의한 차이가 없었다. 하지만 6 mm에서는 모든 중합기 사이에 유의한 차이를 보이지 않았다(p>0.05).

• 대한소아치과학회지
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• 제34권1호
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• pp.81-90
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• 2007

본 연구에서는 세 가지 서로 다른 광원(할로겐 램프 :. Elipar Trilight ; 3M ESPE, Seefeld, Germany, Light Emitting Diode (LED) ; Elipar Freelight2 ; 3M ESPE, Seefeld, Germany, 플라즈마 광 : Flipo ; LOKKI, France)을 사용하여 브라켓과 광원사이의 거리에 따른 광중합형 글라스 아이오노머 시멘트(Fuji ORTHO LC : GC, Japan)의 전단 결합 강도를 알아보고자 하였다. 1. 광중합기에 따른 전단 결합 강도는 광중합기로부터 브라켓까지의 거리가 0mm일 때 3가지 광원에 유의할 만한 차이는 보이지 않았고 광중합기로부터 브라켓까지의 거리가 3mm, 6mm일 때, 할로겐 광과 플라즈마 광 사이에는 유의할 만한 차이가 없었으나 LED 광은 유의성 있게 낮은 전단 결합 강도를 나타냈다. 2. 할로겐 광과 플라즈마 광으로 광중합시 거리에 따른 전단 결합 강도에 유의한 차 없었고 LED광을 사용하여 광중합시에는 거리가 증가할수록 전단 결합 강도가 감소하였다. 특히 0mm에서 3mm로 거리가 증가시 유의할 만한 감소를 나타내었다.

• 대한소아치과학회지
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• 제45권1호
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• pp.82-89
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• 2018

본 연구의 목적은 치면세균막 착색제인 erythrosine을 광감각제로 사용하여 S. mutans에 광역동 치료를 시행하였을 때, 동일한 에너지량을 조사시 광원의 종류에 따른 항균능의 차이를 비교해보고자 함이다. S. mutans를 각각 planktonic 상태와 biofilm 상태로 형성한 후 $40{\mu}M$로 희석한 erythrosine을 3분간 처리한 다음 광원의 종류로 Halogen, LED, Plasma arc를 사용하였고 각각 30초, 15초, 9.5초의 광조사를 시행하였다. 실험 종료 후 각 실험군의 CFU를 측정하여 각 조건에 따른 광역동 치료 효과를 비교하였다. 각 실험군의 CFU는 통계적으로 유의한 차이가 없었다. 동일 에너지량을 조사시 광역동 치료의 효과는 광원의 종류와 관계없이 동일하다고 할 수 있으며, 이는 다양한 광 조사 기기를 가진 임상현장에서도 유용한 결과라 할 수 있다.