• 제목/요약/키워드: Antireflective property

검색결과 4건 처리시간 0.02초

Antireflective ZTO/Ag bilayer-based transparent source and drain electrodes for highly transparent thin film transistors

  • 최광혁;김한기
    • 한국재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국재료학회 2012년도 춘계학술발표대회
    • /
    • pp.110.2-110.2
    • /
    • 2012
  • We reported on antireflective ZnSnO (ZTO)/Ag bilayer and ZTO/Ag/ZTO trilayer source/drain (S/D) electrodes for all-transparent ZTO channel based thin film transistors (TFTs). The ZTO/Ag bilayer is more transparent (83.71%) and effective source/drain (S/D) electrodes for the ZTO channel/Al2O3 gate dielectric/ITO gate electrode/glass structure than ZTO/Ag/ZTO trilayer because the bottom ZTO layer in the trilayer increasea contact resistance between S/D electrodes and ZTO channel layer and reduce the antireflection effect. The ZTO based all-transparent TFTs with ZTO/Ag bilayer S/D electrode showed a saturation mobility of 4.54cm2/Vs and switching property (1.31V/decade) comparable to TTFT with Ag S/D electrodes.

  • PDF

금 나노입자 촉매를 이용한 단결정 실리콘의 전기화학적 식각을 통한 무반사 특성 개선 (Improved Antireflection Property of Si by Au Nanoparticle-Assisted Electrochemical Etching)

  • 고영환;주동혁;유재수
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제21권2호
    • /
    • pp.99-105
    • /
    • 2012
  • 금 나노입자 촉매를 이용한 전기화학적 식각법에 의해 실리콘 표면에 짧은 시간의 효과적인 텍스쳐링을 통한 나노구조를 제작하여 무반사 특성을 조사하였다. 실험을 위해, 열증발증착법과 급속열처리법을 이용하여 단결정 실리콘 표면에 20 nm에서 150 nm 크기의 금 나노입자를 형성하였고, 습식식각을 위해 금 나노입자가 코팅된 실리콘을 과산화수소와 불화수소가 포함된 식각용액에 1분 동안 담가두었다. 전기화학적 습식식각을 확인하기위해, 금 나노입자가 코팅된 실리콘을 음극으로 각각 -1 V와 -2 V의 전압을 인가하여 식각깊이와 반사율 스펙트럼을 비교하였다. 태양광 스펙트럼(air mass 1.5)을 고려하여 태양가중치 반사율을 계산한 결과, 전압을 인가하지 않고 식각된 실리콘 표면의 반사율이 25.8%인 반면, -2 V의 전압을 인가하여 8.2%로 반사율을 크게 줄일 수 있었다.

ZnO/SiO2 가지형 나노계층구조의 제작 및 광학적 특성 연구 (Fabrication and Optical Property of ZnO/SiO2 Branch Hierarchical Nanostructures)

  • 고영환;김명섭;유재수
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제20권5호
    • /
    • pp.381-386
    • /
    • 2011
  • 실리콘(silicon) 기판위에 전기화학증착법(electrochemical deposition)을 이용하여 성장된 ZnO (zinc oxide) 나노로드 표면에 $SiO_2$ (silicon dioxide)를 전자빔증발법(e-beam evaporation)을 이용하여 증착하였으며, 이는 자연적으로 경사입사(oblique angle) 증착이 이루어져 $SiO_2$ 나노로드가 자발 형성되어, ZnO/$SiO_2$ 가지형 나노계층구조형태가 제작될 수 있음을 확인하였다. 실험을 위해서 $SiO_2$ 증착률을 0.5 nm/s로 고정하고 $SiO_2$ 증착시간을 변화시켰으며, 각각 나노구조의 형태와 광학적 특성을 분석하였다. 실리콘 기판위에 전기화학증착법으로 성장된 ZnO 나노로드는 수직으로 정렬된 1차원의 나노구조의 기하학적 형태를 갖고 있어, 입사되는 빛의 파장이 300 nm에서 535 nm인 영역에서 10% 미만의 반사방지(antireflection) 특성을 보였으며, $SiO_2$ 증착시간이 100 s일 때의 ZnO/$SiO_2$ 가지형 나노계층구조에서는 점차적 변화를 갖는 유효 굴절률 분포로 인해 개선된 반사 방지 특성을 확인하였다. 이러한 반사방지 특성과 branch 계층형태의 나노구조형태는 광전소자 및 태양광 소자 응용에 있어서 유용한 소재로 사용될 수 있다.

Rigorous coupled-wave analysis of antireflective surface-relief gratings

  • Han, Chang-Wook;Cho, Doo-Jin;Rhee, Bum-Ku
    • Journal of the Optical Society of Korea
    • /
    • 제1권1호
    • /
    • pp.26-35
    • /
    • 1997
  • Rigorous coupled-wave analysis (RCWA) with a simplified eigenvalue problem is used to investigate the an-tireflective property of one-dimensional surface-relief gratings such as binary gratings, triangular gratings and gratings with triangle-like surface profiles. The convergence of RCWA is investigated by varying the number of layers and the number of space-harmonics used in the computation. For unpolarized light normally incident on a medium of refractive index 1.64 from vaccum, a triangle-like grating shows the reflectivity of $1.6 {\times} 10^{-4}$ in contrast to a minimum reflectivity of $3.8 {\times} 10^{-3}$ for a binary grating. We also study the dependence of reflectivity on the wavelength, and on the angle of incidence for a groove shape and depth which result in minimum reflectivity.