Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.43
no.5
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pp.248-254
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2010
Porous $Al_2O_3$ film can be utilized as template for fabrication of nano-structured materials. Porous anodic alumina layer as template was prepared by anodization of aluminum in oxalic acid, and the pore diameter and barrier-type alumina layer can be controlled for proper anodizing parameter by widening process in $H_3PO_4$ solution. The $SiO_2$ nanodot and Ni nanowire was fabricated using anodic alumina template and their characteristics were investigated using SEM and TEM with EDS. Especially the growth mechanism of $SiO_2$ nanodot in alumina membrane compared with thinning of the alumina barrier layer during anodization was also investigated.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.50
no.6
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pp.427-431
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2017
Anodic aluminum oxide (AAO) film has recently attracted much attention as a key material for the fabrication of various nanostructures. A control of anodizing voltage (U) was employed to render different anodic aluminum oxide (AAO) nanostructures with pore diameter ($D_p$) and interpore distance ($D_{int}$) in oxalic acid. In this work, we study the effect of stepwise modulation of anodizing voltages on the shape and dimension of porous structures along the vertical direction and demonstrate the fabrication of hierarchical layers of systematically controlled three-dimensional (3D) pore profile.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.106-107
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2007
We fabricated anodic aluminium oxides (AAO) on Si and sapphire substrates from the electrochemical reactions of thin AI films in an aqueous solution of oxalic acid. The thin AI films have deposited on Si and Sapphire substructure by using E-beam evaporation and thermal evaporation, respectively. The formation of AAO structures has investigated from FE-SEM measurement image and showed randomly distributed phase of nanoholes instead of the periodic lattice of photonic crystals. The AAO structure on sapphire shows the double layers of nanoholes.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.18
no.8
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pp.708-713
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2005
An alumina membrane with nano-sized pore array by anodic oxidation using the thin film aluminum deposited on silicon wafer was fabricated. It Is important that the sample prepared by metal deposition method has a flat aluminum surface and a good adhesion between the silicon wafer and the thin film aluminum. The oxidation time was controlled by observation of current variation. While the oxalic acid with 0.2 M was used for low voltage anodization under 100 V, the chromic acid with 0.1 M was used for high voltage anodization over 100 V. The nano-sized pores with diameter of $60\~120$ nm was obtained by low voltage anodization of $40\~80$ V and those of $200\~300$ nm was obtained by high voltage anodization of $140\~200$ V. The pore widening process was employed for obtaining the one-channel with flat surface because the pores of the alumina membrane prepared by the fixed voltage method shows the structure of two-channel with rough surface. Finally, the sample was immersed to the phosphoric acid with 0.1 M concentration to etching the barrier layer.
This study was performed to improve the corrosion resistance and the stability of passive film on copper tube by potentiostatic polarization method in synthetic tap water. Formation of passive film was carried out by anodic potentiostatic polarization at various passivation potentials and passivation times in 0.1 M NaOH solution. Stability of passive film and corrosion resistance was evaluated by self-activation time, ${\tau}_0$ from passive state to active state on open-circuit state in 0.1 M NaOH solution. Addition of polyphosphate in NaOH solution prolonged the self-activation time and improved the corrosion resistance, and the addition of 5 ppm polyphosphate was most effective. It was also observed that better corrosion resistance was obtained by potentiostatic polarization at 1.0 V (vs. SCE) than at any other passivation potentials. Passivated copper tube showed perfect corrosion resistance for the immersion test in synthetic tap water showing that the anodic potentiostatic polarization treatment in 0.1 M NaOH with 5 ppm polyphosphate solution would be effective in improving the corrosion resistance and preventing the blue water problem.
Array of magnetic Ni nanostructures has been fabricated on Si substrate by using nanoporous alumina film as a mask during deposition. The nanostructures are truncated cone-shape and the lateral sizes are comparable to height. While the continuous film shows well-defined in-plane magnetization, the nanostructure shows perpendicular component of magnetization at remanence. The hysterectic behavior of nanostructures is dominated by the demagnetizing field instead of interaction among them.
The interactions between corrosion pits on stainless steel under loading conditions are studied by using a cellular automata model coupled with finite element method at a mesoscopic scale. The cellular automata model focuses on a metal/film/electrolyte system, including anodic dissolution, passivation, diffusion of hydrogen ions and salt film hydrolysis. The Chopard block algorithm is used to improve the diffusion simulation efficiency. The finite element method is used to calculate the stress concentration on the pit surface during pit growth, and the effect of local stress and strain on anodic current is obtained by using the Gutman model, which is used as the boundary conditions of the cellular automata model. The transient current characteristics of the interactions between corrosion pits under different simulation factors including the breakdown of the passive film at the pit mouth and the diffusion of hydrogen ions are analyzed. The analysis of the pit stability product shows that the simulation results are close to the experimental conclusions.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2005.07a
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pp.120-122
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2005
An alumina membrane with nano-sized pore array by anodic oxidation using thin film aluminum deposited on silicon wafer was fabricated. It is important that the sample prepared by metal deposition method has a flat aluminum surface and a good adhesion between the silicon wafer and the thin film aluminum. The oxidation time was controlled by observation of current variation. While the oxalic acid with 0.2M was used for low voltage anodization under 100V, the chromic acid with 0.1M was used for high voltage anodization over 100V. The nano-sized pores with diameter of 60~120nm was obtained by low voltage anodization of 40~90V and those of 200~300nm was obtained by high voltage anodization of 120~160V. Finally, the sample was immersed to the phosphoric acid with 0.1M concentration to etching the barrier layer. The sample will be applied to electronic sensors, field emission display, and template for nano-structure.
Hydration treatments were performed on the pure aluminum substrate at $100^{\circ}C$ followed by anodizing and heat treatments on the layers. The transformation behaviors of the oxide layers according to the hydration treatment were studied using TEM, XRD, RBS etc. Above $90^{\circ}C$ the hydrous oxide film could be formed, which were turned out to be hydrous oxides(AlOOH $nH_2$O). The anodization on the hydrous oxide film was more effective for the transition of amorphous anodic oxides to the crystalline $\Upsilon-Al_2$$O_3$ comparing with the case for anodizing on the aluminum substrate without hydration treatment And additional heat treatments were also helpful for the acceleration of the transformation of the hydrous oxide to $\Upsilon-Al_2$$O_3$. During the heat treatment the interface between $\Upsilon-Al_2$$O_3$and the hydrous oxide layers migrated to the outer side of hydrous layer.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.34
no.1
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pp.68-72
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2021
Aluminum is a lightweight metal and has excellent properties with regard to conductivity, workability, and strength. It has been used in various industries owing to its economic benefits. To improve upon the mechanical properties and processability by adding various alloying elements to aluminum, improving the corrosion resistance and heat resistance by electrochemically forming a porous anodic film having a thickness and hardness on the surface of the aluminum alloy is crucial. In this study, the aluminum 6061 alloy was controlled by an anodization process in a 0.3M oxalic acid electrolyte at room temperature to investigate the oxide film parameters such as porosity and thickness depending on the modulating applied voltage and time. The anodizing experiment was performed by increasing the time from 1 h to 9 h at 2-h intervals at applied voltages of 50 V and 60 V.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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