The Bulgugsa acidic igneous rocks of the late Cretaceous age are largely distributed in Busan area, which is located in the southeastern corner of the Korean Peninsula. These igneous rocks comprise in ascending order, felsite, dacitic-rhyolitic welded tuffs, granite porphyry and granitic rocks. The former three members represent the early phase of volcanic activities, so that they are named as Jangsan volcanic rocks. The granitic rocks consist of granodiorite, hornblende biotite granite, Kumjongsan granite, fine grained granite, and Daebyen granite, represent the late phase of igneous activities. The Kumjongsan grainte, the largest pluton of the granitic mass, emplaced between two great vertical faults trending NNE. New chemical analyses of 33 rock samples of these acidic rocks are given. Their chemical compositions are generally similar to those of the late Mesozoic acidic igneous rocks of the northern Ashio mountains, and C-Zone granite group of the Ogcheon geosyncline, with their characteristic variation trends of several oxides. Their chemical compositions also show that $Al_2O_3$ is high value, and differentiation index is high, too. Systematically developing joints in Kumjungsan granite are divisible into two types at least. One is the NS-N $20^{\circ}E$ trendirig, $85^{\circ}{\sim}90^{\circ}$ dipping type of joint system which coincides with the trends of distribution of the granite mass and the dikes intruding this granite. Joints of this type may be cooling joints generated as tension cracks. The other is the $N60^{\circ}{\sim}70^{\circ}W$ or $N40^{\circ}{\sim}60^{\circ}E$ trending type of joint systems. It is considered that. joints belonging to this type may be shear joint occurring under the state of south-north tectonic couple acting at the east and west side of the granite mass. Igneous activities of the the Bulgugsa acidic igneous rocks in Busan area was taken place as. follows, formation of the magma reservoir, eruption and intrusion of felsite, consolidation of vents. and increasing vapor pressure in magma reservoir, eruption of pyroclastic flows, caldera collapse, intrusion of granite porphyry, and intrusion of granitic rocks at the latest stage.
질화알루미늄(AlN)은 뛰어난 열적, 전기절연성 특성을 갖고 있어 반도체 기판용 재료나 전자 패키징 재료로 주목받고 있다. 질화알루미늄은 소결온도가 높고 불순물로 인한 물성저하 때문에 고순도화 및 나노원료화가 필수적이다. 본 연구에서는 RF 유도결합 열플라즈마를 이용하여 알루미늄 분말로부터 고순도의 질화알루미늄 나노분말을 합성하였다. Sheath gas로 사용된 암모니아의 유량 제어를 통해 고순도의 질화알루미늄 나노분말이 합성되는 조건을 확립하고자 하였으며 합성된 분말은 XRD, SEM, TEM, BET, FTIR, N-O분석을 통해 특성분석을 진행하였다.
매립지반이 주로 사질토로 구성되어 있거나 호박돌을 많이 함유하고 있는 지반이나 쓰레기 매립지반에서는 시공속도가 매우 빠르고 경제적 측면을 고려한 동다짐공법이 많이 적용되고 있다. 본 연구에서는 대구서부화물역 건설공사의 쓰레기 매립층에 적용된 동다짐공법에 대하여 지반개량효과를 분석하였다. 그 결과 중추낙하다짐 적용구간에 N치는 6.5/30에서 22.5/30으로 약 349% 증가하였다. 다짐전과 후의 지반고 측정결과 중추낙하다짐공법 적용구간은 0.706~1.729m가 침하되었다. 중추낙하다짐에 의한 $\alpha$값은 0.25~0.48로 폐기물층에 대한 일본토질공학회(1987)의 연구결과(0.3~0.5) 및 광산폐기물에 대한 Lukas(1986)의 연구결과(0.35~0.4)와 유사한 범위를 보이고 있다.
Objectives: This study was conducted to evaluate the health risk of workers exposed to butyl glycidyl ether to prevent them from developing occupational diseases. Methods: The workplaces that coat floor with epoxy were selected and the samples were collected and analyzed with NIOSH 1616 Method. We calculate workplace reference concentration using with NOAEL estimated by the study of Anderson et al. in 1978. Risk was calculated by the ratio of exposure to workplace reference concentration. Monte-Carlo simulation was performed to derivate the median, cumulative 90%, and cumulative 95% value by using Crystal Ball. Results: Butyl glycidyl ether is a skin, eye irritator and can result in central nervous system depression, allergic reaction. NOAEL was 38 ppm and workplace reference concentration was calculated as 0.73 ppm corrected with uncertainty factors. Geometric mean was 1.152 ppm and geometric standard deviation was 1.522 by the workplace environment measurement. The median, cumulative 90%, and cumulative 95% value of risk were calculated as 1.617, 1.934, and 2.092, respectively. Conclusions: Not only cumulative 90% and cumulative 95% value but also the median of risk is higher than 1.0 by the risk characterization, so it can do a lot of harm to workers. Therefore, the process of derivating workplace reference concentration and the appropriacy of the uncertainty factors should be re-examined.
Recently, nonvolatile memories (NVM) of various types have been researched to improve the electrical performance such as program/erase voltages, speed and retention times. Also, the charge trap memory is a strong candidate to realize the ultra dense 20-nm scale NVM. Furthermore, the high charge efficiency and the thermal stability of SiC nanocrystals NVM with single $SiO_2$ tunnel barrier have been reported. [1-2] In this study, the SiC charge trap NVM was fabricated and electrical properties were characterized. The 100-nm thick Poly-Si layer was deposited to confined source/drain region by using low-pressure chemical vapor deposition (LP-CVD). After etching and lithography process for fabricate the gate region, the $Si_3N_4/SiO_2/Si_3N_4$ (NON) and $SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$ (ONO) barrier engineered tunnel layer were deposited by using LP-CVD. The equivalent oxide thickness of NON and ONO tunnel layer are 5.2 nm and 5.6 nm, respectively. By using ultra-high vacuum magnetron sputtering with base pressure 3x10-10 Torr, the 2-nm SiC and 20-nm $SiO_2$ were successively deposited on ONO and NON tunnel layers. Finally, after deposited 200-nm thick Al layer, the source, drain and gate areas were defined by using reactive-ion etching and photolithography. The lengths of squire gate are $2\;{\mu}m$, $5\;{\mu}m$ and $10\;{\mu}m$. The electrical properties of devices were measured by using a HP 4156A precision semiconductor parameter analyzer, E4980A LCR capacitor meter and an Agilent 81104A pulse pattern generator system. The electrical characteristics such as the memory effect, program/erase speeds, operation voltages, and retention time of SiC charge trap memory device with barrier engineered tunnel layer will be discussed.
본 논문에서는 간단한 플라스틱전자패키지의 폴리머 흡습특성 평가 방법을 제시하였다. 흡습팽창에 의한 변형을 측정하고 유한요소법으로 해석하였다. 흡습특성 평가를 위해 시편제작을 제작하고, 흡습시간에 따라 폴리머에 내재된 수분질량을 측정하여, 수치해석 결과와 비교분석하였다. 흡습확산 방정식은 열전달 방정식과 유사한 형태를 가지고 있기 때문에 열전달 해석 절차에 따라 상용 유한요소코드를 적용하여 흡습압력비를 구하고, 자체코드로 흡습질량을 계산하였다. 비전도성 폴리머는 동일 제품이라도 생산시기에 따라 흡습특성에 변화가 있었다. 여러 가지 흡습특성에 대해 흡습질량을 수치해석으로부터 계산하고 측정치에 가장 근접한 흡습질량 변화의 그래프를 선택하여 최적의 확산계수와 용해도를 구하였다. 제시된 방법은 빠른 대응을 요구하는 생산현장에서 반도체 패키지 폴리머의 흡습특성을 신속하게 평가하는 데 적용될 수 있을 것이다. 또한 흡습팽창을 모아레 간섭계로 측정하고 수치해석으로 비교하였다. 결과적으로 흡습질량의 측정값과 수치해석 결과를 비교하여 용해도와 확산계수는 0.0320 [g/mm/N]과 0.243 [$mm^2/{\mu}s$]으로 결정하였고, ANSYS 구조해석에 의한 변형은 모아레 간섭에 의한 측정결과와 매우 유사하였다.
정신병치료제들을 장기투여하여 치료를 시도하였을 때에 생기는 여러 부작용은 그 정도 또한 매우 심각하기 때문에 그들의 치료효과와 함께 야기되는 부작용들을 따로 생각할 수가 없게 되었다. 특히 정신병치료는 그 자체에 대한 병인적 원인을 정확히 알 수 없기에 증상에 따른 대중요법이 일괄적으로 사용되므로, 이러한 현재의 치료방법으로는 부작용들이 더 치명적이 될 수 있기 때문에 일차적으로 이들의 공통적약리작용기전들을 연구하는 것은 매우 필요하다. 최근 NO(Nitric oxide)에 대한 많은 연구들에 의하면, 이들이 중추신경계에서 중요한 second messenger 또는 mediator로 신경활동에 영향을 나타내는 것으로 보고되고 있다. 그러므로 저자들은 먼저 이들 약물들과 NO와의 관계를 연구하고자, 중요한 몇종의 정신병치료제들을 택하여 NO생성에 어떤 영향을 미치는 가를 검색하여 다음과 같은 일차 결과를 얻었다 1. 정신병치료제 수종(chlorpromazine, trifluoperazine promazine, pimozide, clozapine, chlorprothixene, haloperidol)을 택하여 쥐의 소내에서 $[^3H]L-arginine$으로부터 $[^3H]L-citrulline$의 생성양을 측정하여 calmodulin antagonist(calmidazolium)와 비교하였다. 2. 이들을 N1E-115 cell에 투여하여 $[^3H]cyclic$ GMP양을 측정하고 그 결과를 calmida-zolium 과 비교하였다. 3. 이들 약물들은 citrulline과 cyclic GMP 모두의 생성양을 의의있게 억제하였으며 그 기전은 calmidazolium과 매우 유사하였다. 위의 일차적 검색결과에 의하면, 정신병치료약물들의 약리작용 기전중에 일부는 중추신경계내의 NO생성 및 cyclic GMP생성에 영향을 나타내는 것으로 사료되며, 이에는 calcium ion이 상당히 중요한 역할을 하는데, 특히 소뇌에서의 NO생성의 감소는 이들 약물들의 치명적 부작용인 tardive dyskinesia와 매우 깊은 관련을 추측할 수 있다. 그러나, 더 많은 약물들의 검색으로 일관적인 기본 결과가 필요 되고 또 각개 약물의 특정적 기전이 연구되기 위하여 현재 실험중이다.
사성분계 thiophosphates, $A_2NiP_2S_6>(A=Rb$, Cs)를 halide fluxes 법으로 합성하였으며 단결정 X-ray 회절방법으로 결정 구조를 해석하였다. 이 화합물들을 $C_{2h}^5-P2_1/n$ 의 공간군을 가지며, $Rb_2NiP_2S_6$의 경우 a=5.960(2), b=12.323(4), $c=7.491(3)\AA$, $\beta=97.05(3)^{\circ}$, $V=546.0(3)\AA^3$이고$Cs_2NiP_2S_6$의 경우 a=5.957(4),b=12.696(7), $c=7.679(4)\AA$, $\beta=93.60(5)^{\circ}$, $V=579.7(5)\AA^3$인 격자상수를 갖는다. 이 두화합물은 동일한 결정 구조를 갖는다. 이들의 구조는 결정학적인 a축을 따라 성장한 1차원적인 무한사슬 $_{\infty}^1[NiP_2S_6^{2-}]$로 구성되어 있으며 이 사슬들은 알칼리 금속과의 정전기적 인력을 통하여 안정화 되어있다. Ni원자는 6개의 S원자에 의해 팔면체 배위를 하고 있고, Ni$S_6$팔면체는 $[P_2S_6^{4-}]$ 음이온 3개의 $\mu-S$ 원자들에 의해 연결되어 무한 1차원적인 사슬을 형성한다. $Cs_2NiP_2S_6$에 대한 자화율 측정결과 Neel temperature($T_N$)에 상응하는 8K 이하에서 superexchange를 통한 반자기성 magnetic coupling을 발견하였다. $T_N$이상의 온도에서는 Curie-Weiss법칙을 따른다. 자기 모멘트, C(Curie), 그리고 $\theta$(Weiss Constant)는 각각 2.77 B.M., 0.9593K, 그리고 -19.02K 이다. 측정 결과로부터 얻은 유효 자기 모멘트는 spin-only $Ni^{2+}d^8$(2.83 B.M.)계의 결과와 일치한다.
언어모델은 순차적으로 입력된 자료를 바탕으로 다음에 나올 단어나 문자를 예측하는 모델로 언어처리나 음성인식 분야에 활용된다. 최근 딥러닝 알고리즘이 발전되면서 입력 개체 간의 의존성을 효과적으로 반영할 수 있는 순환신경망 모델과 이를 발전시킨 Long short-term memory(LSTM) 모델이 언어모델에 사용되고 있다. 이러한 모형에 자료를 입력하기 위해서는 문장을 단어 혹은 형태소로 분해하는 과정을 거친 후 단어 레벨 혹은 형태소 레벨의 모형을 사용하는 것이 일반적이다. 하지만 이러한 모형은 텍스트가 포함하는 단어나 형태소의 수가 일반적으로 매우 많기 때문에 사전 크기가 커지게 되고 이에 따라 모형의 복잡도가 증가하는 문제가 있고 사전에 포함된 어휘 외에는 생성이 불가능하다는 등의 단점이 있다. 특히 한국어와 같이 형태소 활용이 다양한 언어의 경우 형태소 분석기를 통한 분해과정에서 오류가 더해질 수 있다. 이를 보완하기 위해 본 논문에서는 문장을 자음과 모음으로 이루어진 음소 단위로 분해한 뒤 입력 데이터로 사용하는 음소 레벨의 LSTM 언어모델을 제안한다. 본 논문에서는 LSTM layer를 3개 또는 4개 포함하는 모형을 사용한다. 모형의 최적화를 위해 Stochastic Gradient 알고리즘과 이를 개선시킨 다양한 알고리즘을 사용하고 그 성능을 비교한다. 구약성경 텍스트를 사용하여 실험을 진행하였고 모든 실험은 Theano를 기반으로 하는 Keras 패키지를 사용하여 수행되었다. 모형의 정량적 비교를 위해 validation loss와 test set에 대한 perplexity를 계산하였다. 그 결과 Stochastic Gradient 알고리즘이 상대적으로 큰 validation loss와 perplexity를 나타냈고 나머지 최적화 알고리즘들은 유사한 값들을 보이며 비슷한 수준의 모형 복잡도를 나타냈다. Layer 4개인 모형이 3개인 모형에 비해 학습시간이 평균적으로 69% 정도 길게 소요되었으나 정량지표는 크게 개선되지 않거나 특정 조건에서는 오히려 악화되는 것으로 나타났다. 하지만 layer 4개를 사용한 모형이 3개를 사용한 모형에 비해 완성도가 높은 문장을 생성했다. 본 논문에서 고려한 어떤 시뮬레이션 조건에서도 한글에서 사용되지 않는 문자조합이 생성되지 않았고 명사와 조사의 조합이나 동사의 활용, 주어 동사의 결합 면에서 상당히 완성도 높은 문장이 발생되었다. 본 연구결과는 현재 대두되고 있는 인공지능 시스템의 기초가 되는 언어처리나 음성인식 분야에서 한국어 처리를 위해 다양하게 활용될 수 있을 것으로 기대된다.
A new blue phosphorescent material for organic light emitting diodes (OLEDs), Iridium(III)bis[2-(4-fIuoro-3-benzonitrile)-pyridinato-N,C2'] picolinate (Firpic-CN), was synthesized and studied. We compared characteristics of Firpic-CN and Bis(3,5-Difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl-(2-carboxypyridyl) iridium III (FIrpic) which has been used for blue dopant materials frequently. The devices structure were indium tin oxide (ITO) (1000 ${\AA}$)/N,N'-diphenyl-N,N'-(2-napthyl)-(1,1'-phenyl)-4,4'-diamine (NPB) (500 ${\AA}$)/4,4'-N,N'-dicarbazole-biphyenyl (CBP) : FIrpic and FIrpic-CN (X wt%)/4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen) (300 ${\AA}$)/lithum quinolate (Liq) (20 ${\AA}$)/Al (1000 ${\AA}$). 15 wt% FIrpic-CN doped device exhibits a luminance of $1450\;cd/m^2$ at 12.4 V, luminous efficiency of 1.31 cd/A at $3.58mA/cm^2$, and Commission Internationale d'Eclairage $(CIE_{x,y})$ coordinates of (0.15, 0.12) at 12 V which shows a very deep blue emission. We also measured lifetime of devices and was presented definite difference between devices of FIrpic and FIrpic-CN. Device with FIrpic-CN as a dopant presented lower longevity due to chemical effect of CN ligand.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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