다양한 종류의 메탈로센 촉매와 공촉매인 개질-MAO (MMAO)을 이용한 에틸렌 (E)과 노르보르넨 (N)의 공중합에서 중합조건이 촉매 활성 및 공중합체의 구조와 성질 등에 미치는 영향을 조사하였다. 즉 $C_2$-대칭구조를 가지는 rac-Et(Ind)$_2$ZrC $l_2$, $M_2$Si(Ind)$_2$ZrC $l_2$, M $e_2$Si-(Cp)$_2$ZrC $l_2$ 및 $C_{s}$-대칭구조를 가지는 iPr(FluCp)ZrC $l_2$, 그리고 constrained geometry catalyst (CGC)와 이중다리 (di-bridged) 지르코노센 둥의 다양한 메탈로센 촉매를 사용하여 [N]/[E] 공급비에 따른 촉매 활성, 공중합체 (COC)의 열적 성질 및 N 함량을 조사하였다. rac-Et(Ind)$_2$ZrC $l_2$를 촉매로 사용한 경우에 공촉매의 몰비, 중합 온도 및 공촉매 종류 등의 중합조건을 조사한 결과 [Al]/[Zr]=3000, 4$0^{\circ}C$, MMAO 공촉매 등이 적합하였다. [N]/[E] 공급비가 증가됨에 따라 COC내의 N 함량이 증가하는 일반적인 경향을 보였으나, 촉매 활성은 사용된 메탈로센 촉매의 구조에 따라 달랐다. 즉 [N]/[E]가 증가할수록 $C_2$-대칭구조의 촉매 활성은 감소하였으나 $C_{s}$-대칭구조의 경우에는 증가하였다. 촉매활성과 N함량 등을 고려해 보면 rac-Et(Ind)$_2$ZrC $l_2$/MMAO계에서 비교적 높은 촉매 활성과 COC의 $T_{g}$제어가 용이한 결과를 얻을 수 있었다. 촉매종류에 따른 단량체의 반응성비를 Helen-Tudos 방법으로 구하였다.하였다.
한국농업기계학회 2000년도 THE THIRD INTERNATIONAL CONFERENCE ON AGRICULTURAL MACHINERY ENGINEERING. V.II
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pp.139-145
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2000
The mechanism of the inner resistance in a rubber crawler system has been investigated to reduce the power requirement (Kitano et al. 1994). The rolling resistance of the track roller, which is one of the major inner resistances, was measured for seven different vertical loads. The rolling resistance changed periodically and could be classified into three types. In case of the vertical load less than 500N, the rolling resistance was almost constant. For the vertical load greater than 500N, the maximum value of the rolling resistance increased. Further more in case of the vertical load greater than 1200N, negative resistance appeared. Analytical simulation of the travel resistance based on experimental results and static equilibrium equations derived from three-dimension mechanical model for the rubber crawler system. It was found that the simulation method was carried out to evaluate the travel resistance occurred by the rolling resistance of the track roller. The rolling resistance for each track roller arrangement and effects of the lug phase in the right and left rubber crawler could be estimated quantitatively.
Khan, M.A.;Xu, Wei;Wei, Fuxiang;Bai, Yu;Jiang, X.Y.;Zhang, Z.L.;Zhu, W.Q.
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
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pp.1103-1107
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2007
Highly efficient organic electroluminescent devices (OLEDs) based on 4,7- diphenyl-1, 10- phenanthroline (BPhen) as the electron transport layer (ETL), tris (8-hydroxyquinoline) aluminum ($Alq_3$) as the emission layer (EML) and N,$\acute{N}$-bis-[1-naphthy(-N,$\acute{N}$diphenyl-1,1´-biphenyl-4,4´-diamine)] (NPB) as the hole transport layer (HTL) were developed. The typical device structure was glass substrate/ ITO/ NPB/$Alq_3$/ BPhen/ LiF/ Al. Since BPhen possesses a considerable high electron mobility of $5\;{\times}\;10^{-4}\;cm^2\;V^{-1}\;s^{-1}$, devices with BPhen as ETL can realize an extremely high luminous efficiency. By optimizing the thickness of both HTL and ETL, we obtained a highly efficient OLED with a current efficiency of 6.80 cd/A and luminance of $1361\;cd/m^2$ at a current density of $20\;mA/cm^2$. This dramatic improvement in the current efficiency has been explained on the principle of charge balance.
This paper deals with the effects of counterpart materials on the wear behavior of thermally sprayed STS316 coatings. STS316 powders were flame-sprayed onto a carbon steel substrate. Dry sliding wear tests were performed using the applied loads of 15 N. AISI52100, $Al_2O_3$, $ZrO_2$ and $Si_3N_4$ balls were used as counterpart materials. Wear behavior of STS316 coatings against different counterpart materials were studied using a scanning electron microscope(SEM) and energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS). The results show that the wear behavior of thermally sprayed STS316 coatings strongly depends on the type of counterpart material. Dominant wear mechanism was similar for all studied materials as failure of adhesion film except for Si3N4 used as counterpart material. In the case of Si3N4 used as counterpart material, dominant wear mechanism was abrasion.
The effect of $\alpha$-septithiophene (${\alpha}-7T$) layers on the organic light emitting diode(OLED) was studied. The ${\alpha}-7T$ was used for a buffer layer in OLED. Hole injection was investigated and improved emission efficiency. The OLEDs structure can be described as indium tin oxide(ITO)/ buffer layer / hole transporting layer / emitting layer / electron transporting layer / LiF / Al. The hole transporting layer were composed of N,N-diphenyl-N,N-di(3-methylphenyl)-1,1-biphenyl-4,4-diamine(TPD), and N,N-di(naphthalene-1-ly)-N,N-diphenyl-benzidine( ${\alpha}$-NPD). The emitting layer, and electron transporting layer consist of tris(8-hydroxyquinolinato) aluminum($Alq_3$). All organic layer were deposited at a background pressure of less than $10^{-6}$ torr using ultra high vacuum (UHV) system. The ${\alpha}-7T$ layer can substitute the hole blocking layer, and improve hole injection properties.
$CrCl_{3}$를 $NH_{3}$와 반응시켜 약 $850^{\circ}C$에서 표면적이 높은 단일 상 CrN 촉매를 합성하였다. 열질량분석을 통해 고체상 화학변이가 발생하는 온도를 파악하였고 물질의 상을 XRD로 분석하였다. 합성물질의 표면적, 결정크기 등을 분석하였고 합성변수의 영향을 확인하였다. 합성된 질화물의 표면적은 $12{\sim}47m^2/g$이었다. 공간속도는 표면적 증가에 약하게나마 영향을 미쳤는데 반응중간생성물의 빠른 제거가 표면적을 높이는데 기여하는 것으로 파악되었다. 승온환원반응 분석 결과 CrN은 비활성화(passivation)시 거의 산화되지 않아 수소분위기에서의 환원이 거의 일어나지 않았으며 약 $700^{\circ}C$와 $950^{\circ}C$ 부근에서 결정격자 중의 질소가 $N_{2}$로 분해되었다. 공기분위기에서 10 K/min의 속도로 가열하면 $300^{\circ}C$ 이후의 온도에서 산화가 진행되어 $800^{\circ}C$ 부근에서 $Cr_{2}O_{3}$ 상이 형성되기 시작하였으며 $900^{\circ}C$에서도 완전히 산화되지 않았다. 부탄과 피리딘을 이용한 활성실험 결과 CrN 촉매는 탈수소반응에 선택적으로 높은 활성을 가졌으며 수첨탈질이나 수소분해반응 활성은 거의 없었다. 부탄의 탈수소반응에서 부피반응속도는 상용 촉매인 $Pt-Sn/Al_{2}O_{3}$보다 우수하였다.
온실가스로 알려진 $N_2O$의 촉매 분해는 최소한 670 K 이상의 온도가 요구되는 난해한 공정으로 알려져 있다. 본 연구는 CO 환원제와 더불어 473 K의 저온에서도 $N_2O$를 전량 분해될 정도로 높은 활성을 나타내는 혼합금속산화물(mixed metal oxide: MMO) 촉매에 Ce을 첨가함으로서 나타나는 $N_2O$ 분해활성에의 영향을 검토하기 위하여 수행되었다. MMO 촉매는 Co 및 Al 외에 Rh과 Pd을 사용하고, 여기에 Ce을 미량 첨가하여 공침전법으로 제조하였으며, 결과적으로 Ce 함량이 증가함에 따라 촉매 표면적은 감소하고 $N_2O$의 직접분해 활성이 감소하는 현상이 나타났다. 그러나 CO 환원제의 분위기 하에서는 이러한 활성 감소를 상쇄하고도 남을 정도의 높은 $N_2O$ 분해활성을 나타냈으며 Ce 첨가비율에 따른 활성저하도 줄일 수 있어서 MMO 촉매의 물리적 안정성 증대를 위해 Ce을 첨가할 경우 CO 환원제에 의한 $N_2O$ 환원 반응계의 활성 안정성도 유지될 수 있는 것으로 확인되었다.
브로드캐스트 암호시스템은 송신자가 수신자 집합을 지정하여 생성한 암호문을 공개된 채널을 통해 전송하면, 수신자 집합에 속하는 정당한 사용자만이 메시지를 복호화 할 수 있는 암호 기법이다. 2005년도에는 공모공격에 안전하며 상수크기의 암호문과 비밀키를 가지는 페어링 기반의 기법이 Boneh 등에 의해 제안되었다. 일반적으로 페어링 기반의 기법은 사용자로부터 많은 연산량을 요구하기 때문에 리소스에 제한이 있는 기기에 적용하기에는 어려움이 있었다. 본 논문에서는 Boneh 등의 기법을 기반으로 브로드캐스트 암호시스템에서 암호문을 효율적으로 복호화 하는 기법(BEWD)을 제안한다. 제안하는 기법에서는 복호화 시에 요구되는 페어링연산과 다른 사용자들의 공개키가 쓰이는 연산을 제 3자인 프록시 서버에 위임함으로써 사용자에게 요구되는 연산량을 줄인다. 또한 사용자는 서버의 올바른 계산을 확인을 할 수 있다. 제안하는 기법은 n-BDHE가정 하에 선택적인 IND-RCCA에 안전한 기법이다.
Recently, to using chemical coagulation process for T-P removal in STP effluent as tertiary treatment process is generalized in the country. The importance of analysis technique to save the treatment & maintenance cost during coagulation process is becoming more increased each day. Thus, it is necessary for the analysis technique during coagulation process to be presented well the characteristic of coagulation in field apply. There are a few analysis techniques such as Jar Test, zeta potential analysis and streaming current detecting techniques. But there are difficult to apply in field immediately due to long test time and difficult analysis techniques. And using PDA technique, it is reviewed applicability of the techniques as field index on pilot plant of P-CAP system The P-CAP system is composed of an in-line static mixer, a Flocculation Tank and the CAP reactor with 2 stage weir for effluent. Pre-test is performed to fix the mixing velocity in the Flocculation Tank using the PDA equipment and it fixed with 30RPM. Also, Jar Test is performed to select optimum dose of each coagulant for each T-P concentration level of influent. Result of continuous test on pilot plant of P-CAP system, the FSI in the Flocculation Tank is increased consistently by increasing each dosing concentration of coagulant such as LAS and PAC in the low level influent T-P concentration comparatively. It is considered that formed Al-hydroxide complexes for dosed coagulant are caused FSI variation. Furthermore, it seems that FSI value in the high level influent T-P concentration appeared lower than the opposite influent condition relatively because it is formed simultaneously Al-hydroxide complexes as solid type and Al-phosphorus complexes as soluble type. Thus, relation of FSI by PDA technique and T-P removal of final effluent on pilot plant of P-CAP system are very limited for the kind of coagulant and the characteristics of influent. And it though that FSI value by PDA technique with analyzing of turbidity in Flocculation Tank will be used restrictedly on field as the relative field-index.
연구는 호주 퀸즈랜드 주 북서부에 위치하는 은-납-아연 캔닝턴 광상은 호상편마암, 미그마타이트, 규선석-석류석 편암 그리고 각섬암으로 구성된 모암 주변부에서 발달해 있다. 모암에서 산출되는 규선석의 세 가지 다른 결정형태, 규선석을 포획광물로 함유한 아연-첨정석과 석류석 반상변정은 모암의 변성작용과 아연과 관련된 광화작용에 대한 지질학적 지시자로 사용되었다. 변성작용과 아연 광화작용과의 관계는 프로그램 THERMOCALC를 이용하여 KFMASH (K$_2$O-FeO-MgO-A1$_2$O$_3$-SiO$_2$- $H_2O$), KFMASHTO (K$_2$O-FeO-MgO-A1$_2$O$_3$-SiO$_2$-$H_2O$-TiO$_2$-Fe$_2$O$_3$), NCKFMASH ($Na_2$O-CaO-K$_2$O-FeO-MgO-Al$_2$O$_3$-SiO$_2$-$H_2O$) 그리고 MnNCKFMASH (MnO-$Na_2$O-CaO-K$_2$O-FeO-MgO-Al$_2$O$_3$-SiO$_2$-$H_2O$) 화학계에서 이들 세 가지 광물의 공생관계와 규선석-석류석-부분용융의 상평형 관계를 이용하여 결정하였다. MnNCKFMASH와 NCKFMASH계에서 부분 용융은 KFMASH와 KFMASHTO계에서 보다 낮은 온도에서 일어나며, MnNCKFMASH 계에서 용융 온도는 암석 화학 성분의 Na+Ca+K)의 비가 증가함에 따라 감소하는 경향을 보인다. 캔닝턴 광상의 모암은 MnNCKFMASH계의 경우 최고 온도와 압력 환경에서(634$\pm$62$^{\circ}C$, 4.8$\pm$1.3 kbar) 약 15% 용융되지만, KFMASHTO계하에서는 부분 용융이 일어나지 않는다. 규선석의 등변성도선과 모드 비의 변화를 근거로, 주상과 능면형의 규선석과 주상의 규선석을 포획하는 아연-첨정석 반상변정은 부분 용융을 포함하는 온도와 압력의 증가(약 550~$600^{\circ}C$, 2.0~3.0 kbar에서 700~75$0^{\circ}C$, 5.0~7.0 kbar)로 인한 것으로 생각된다. 또한 이와 같은 변성작용 동안의 최대 수축 변형 방향은 남-북 그 다음 동서 방향으로 주로 D$_1$과 D$_2$ 변형작용 동안에 형성되어졌다. 결론적으로 아연-첨정석의 성장과 관련된 아연 광화 작용은 D$_2$ 동안에 일어났고 그 후 부분 용융과 후기 변형/변성작용에 의해 재배치 또는 재농집 되어진 것으로 생각된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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