• 제목/요약/키워드: Ag@$SiO_2$

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플렉서블 실리콘 박막 태양전지용 Ag/ZnO 후면반사막의 광산란 특성 향상 (Improvement of light scattering properties of Ag/ZnO back-reflectors for flexible silicon thin film solar cells)

  • 백상훈;이정철;박상현;송진수;윤경훈;왕진석;조준식
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2010년도 춘계학술대회 초록집
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    • pp.97.1-97.1
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    • 2010
  • 유연금속기판위에 DC 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 Ag/ZnO 이중구조의 후면반사막을 증착하고 Ag 표면조도 변화에 따른 후면반사막의 반사특성 변화와 플렉서블 비정질 실리콘 박막 태양전지의 셀 특성에 미치는 영향을 조사하였다. Substrate구조를 갖는 플렉서블 실리콘 박막 태양전지에서는 실리콘 박막 광흡수층의 상대적으로 낮은 광 흡수율로 인하여 입사광에 대한 태양전지 내에서의 광 산란 및 포획이 태양전지 효율을 증대시키는데 매우 중요한 역할을 하는 것으로 알려져 있다. 플렉서블 실리콘 박막 태양전지에서의 후면반사막은 광 흡수층에서 흡수되지 않는 입사광을 다시 반사시켜 광 흡수를 증대시키며 이때 후면반사막 표면에서 반사 빛을 효율적으로 산란시켜 이동경로를 증대시킴으로써 광 흡수율을 더욱 향상시킬 수 있다. 본 연구에서는 유연금속 기판위에 Ag와 ZnO:Al($Al_2O_3$ 2.5wt%) 타겟을 사용한 DC 마그네트론 스퍼터링법으로 Ag/AZO 이중구조의 후면반사막을 제조하고, Ag 박막의 표면형상 변화와 이에 따른 후면반사막의 반사도 변화를 비교, 분석하였다. 증착 조건 변화에 따른 표면 형상 및 반사 특성은 Atomic Force Mircroscope(AFM), Scanning electron miroscopy(SEM), UV-visible-nIR spectrometry를 통하여 분석하였다. 서로 다른 표면 거칠기를 갖는 후면반사막 위에 n-i-p구조의 a-Si:H 실리콘 박막 태양전지를 제조한 후 태양전지 동작 특성에 미치는 영향을 조사하였다. n,p층은 13.56MHz PECVD, i층은 60MHz VHF CVD를 사용하여 각각 제조 하였으며, Photo I-V, External Quantum Efficiency(EQE) 분석을 통하여 태양전지 특성을 조사 하였다. SEM 분석결과 공정 온도가 증가 할수록 Ag 박막의 표면 결정립 크기도 증가하였으며, AFM분석을 통한 Root-mean-square(Rms)값은 상온에서 $500^{\circ}C$로 증착온도가 증가함에 따라 6.62nm에서 46.64nm까지 증가하였다. Ag 박막의 표면 거칠기 증가에 따라 후면반 사막의 확산 반사도도 함께 증가하였다. 공정온도 $500^{\circ}C$에서 증착된 후면반사막을 사용하여 a-Si:H 태양전지를 제조하였을 때 상온에서 제조한 후면반사막에 비하여 단락전류밀도 (Jsc)값은 9.94mA/$cm^2$에서 13.36mA/$cm^2$로 증가하였으며, 7.6%의 가장 높은 태양전지 효율을 나타내었다.

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Effect of Pulsed Nd:YAG Laser Energy on Crystallization in $Li_2O - Al_2O_3 - SiO_2$ Glass

  • Lee, Yong--Su;Kang, Won--Ho
    • 한국마이크로전자및패키징학회:학술대회논문집
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    • 한국마이크로전자및패키징학회 2001년도 The IMAPS-Korea Workshop 2001 Emerging Technology on packaging
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    • pp.104-109
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    • 2001
  • A 355 nm (3.5 eV) neodymium:yttrium aluminum gamet laser, produced by a harmonic generator, was used to create silver metallic particles as seeds for nucleation in photosensitive glass containing Ag+ and Ce3+ ions. The pulse width and frequency of the laser were 8 ns and 10 Hz, respectively. Heat treatment was conducted at 570 C for 1 h, following laser irradiation, to produce crystalline growth, after which a LiAlSi3O8 crystal phase appeared in the laser-irradiated Li2O A1203 SiO2 glass. For the Present study, we compared the effect of laser-induced crystallization on glass crystallization with that of spontaneous crystallization by heat treatment.

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나노물질의 세포독성 평가법으로 Colony Forming Efficiency Assay에 대한 검증연구 (Pre-validation of Colony Forming Efficiency Assay for Assessing the Cytotoxicity of Nanomaterials)

  • 조은혜;이재우;박선영;김필제;최경희;엄익춘
    • 한국환경보건학회지
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    • 제41권1호
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    • pp.17-23
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    • 2015
  • Objectives: The cytotoxcities of Au, Ag, SWCNT, $SiO_2$, and ZnO nanomaterials were evaluated in order to assess their potential toxicological effects in in vitro cell models using colony forming efficiency (CFE) assay. Methods: The CFE assay of the test materials was carried out on Hep G2 cells. The size distribution of nanomaterials was studied by transmission electron microscopy (TEM). Changes in cell viability after treatment with a toxicant will result in a decreased number of colonies formed in comparison to solvent. Results: The TEM images show that all the particles except SWCNT and ZnO can be considered approximately spherical. The gold and $SiO_2$ nanoparticles show no response (no toxicity) in concentration response experiments. A statistically significant toxic effect was found in Hep G2 cells treated with Ag, SWCNT and ZnO nanomaterials. Conclusion: In this study, we considered CFE assay to be a promising test for screening studies for cytotoxicity with physicochemical analysis.

DR VACUUM CO., LTD.

  • 이찬용
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2000년도 제18회 학술발표회 논문개요집
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    • pp.30-30
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    • 2000
  • 당사는 각종 진공 장비를 개발/제작한 경험을 바탕으로 25년 동안 진공 산업 발전에 기여하여 왔으며 자체 기술로 HIGH VACUUM 응용시스템 설계 및 제작하고 있다. 이와 함께 3D CAD를 이용한 consulting 및 Modeling 분석을 수행하여, 자체 기술로 설계 및 제작 판매하고 있다. Vacuum System은 In-line System (ITO, SiO2, Cr Tio2, Ag, Al 등), Roll to Roll(Web) Sputtering system (ITO, SiO2, Ar, Metal 등), 유기 EL 박막 진공 증착 장치, PECVD System, Evaporator 시스템 등을 제작 공급하고 있다. 현재 Roll to Roll(Web) Sputtering System은 Dual Cathode를 사용하는 방식으로 개발중에 있으며, 평판 디스플레이용 대면적 Glass를 위한 In-line Sputtering System을 같이 개발하고 있다.

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T-OLED의 반사전극으로 사용하기 위한 Ag 박막 표면의 UV에 의한 산화 및 KPFM을 이용한 표면 전위 측정

  • 김성준;김수인;김동욱;김주연;이은혁;신동훈;이창우
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.182.1-182.1
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    • 2013
  • Silver (Ag)는 높은 반사율을 가지고 있어 Top-Emission Organic Light Emitting Diode (T-OLED)의 반사전극으로 사용하기 적합하지만 일함수가 낮은 단점 (4.3 eV)을 가지고 있다. 이런 낮은 일함수를 증가시키기 위하여 Ag 박막 표면을 산화시켜 일함수를 증가시키기 위한 연구가 진행중에 있으며, 이 연구에서는 UV로 $O_3$을 발생시켜 Ag 박막 표면을 산화시키기 위한 연구를 진행하였다. 특히, Ag 박막 표면의 일함수 변화를 측정하기 위하여 SPM (Scanning Probe Microscopy)의 KPFM (Kelvin Probe Force Microscopy) mode를 적용하여 nano 영역에서의 일함수 변화를 surface potential로 측정하여 UV 표면 산화에 의한 표면 일함수 형상을 확인하였다. Ag 박막은 rf magnetron sputter를 사용하여, Si 기판위에 300nm 두께로 증착시켰다. 이후 $O_3$ 발생되는 UV 램프로 Ag 박막 표면 30초 간격으로 최대 5분간 산화시켰으며, 이후 KPFM mode를 사용하여 산화 시간에 따른 Ag 박막 표면의 potential 변화를 측정하였다. 0~3분간 산화된 Ag 박막 표면의 potential은 약 6 mV로 일정하였으나 3분 이후 최대 110 mV까지 급격하게 변화하는 것을 확인할 수 있었다. Ag 박막 표면의 RMS roughness는 UV 산화처리 전0.7 nm였으나, potential이 급격하게 증가하는 시점인 3분 이후 2.83 nm로 약 400% 이상 증가하였다. 이를 통해 $O_3$ 발생 UV 램프로 산화된 Ag 박막의 표면 물성은 처리 시간에 따라 급격히 변하는 것을 확인하였다.

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Current-voltage characteristics of n-AZO/p-Si-rod heterojunction

  • 이성광;최진성;정난주;김윤기
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.338.2-338.2
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    • 2016
  • Al doped ZnO (AZO) thin films were deposited on Si substrates with rod-shaped-surface by pulsed laser deposition method (PLD). Si-rods were prepared through chemical etching. To analyze the influence on the formation of the rod structure, samples with various chemical etching conditions such as AgNO3/HF ratio, etching time, and solution temperature were prepared. The morphology of Si-rod structures were examined by FE-SEM. Fig. 1 shows a typical structure of n-AZO/p-Si-rod juncions. The fabricated n-AZO/p-Si-rod devices exhibited p-n diode current-voltage characteristics. We compared the I-V characteristics of n-AZO/p-Si-rod devices with the samples without Si-rod structure.

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선택적 표면처리와 딥코팅 방법을 이용한 고해상도 금속 패턴 형성연구 (Patterning of high resolution metal electrodes using selective surface treatment and dip casting for printed electronics)

  • 김영훈;엄유현;박성규;오민석;강정원;한정인
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2009년도 제40회 하계학술대회
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    • pp.1340_1341
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    • 2009
  • In this report, high-resolution metal electrode patterning is demonstrated by using selective surface treatment and dip casting for low-cost printed electronic applications. On hydrophobic octadecyltrichlorosilane treated $SiO_2$ surface, deep UV irradiation was performed through a patterned quartz photomask to selectively control the surface energy of the $SiO_2$ layer. The deep UV irradiated region becomes hydrophilic and by dipping into Ag nano-ink, Ag patterns were formed on the surface. Using this patterning technique, line patterns and dot arrays having less than $10{\mu}m$ pitch were fabricated.

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산화물유리에서의 $Na^{+}$이온과 $Ag^{+}$이온 교환에 따른 전기전도도 변화에 관한 연구 (Electrical Conductivity in oxide glasses subjected to a sodium silver ion-exchange treatment)

  • 한준수;강원호;이효경
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1995년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.100-105
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    • 1995
  • $Na_2O$함량 20, 52, 30 mol% 변화를 준 $Na_2O$-CaO-$Al_2O_3$-$B_2O_3$-$SiO_2$계 유리를 제조하여 $AgNO_3$용융염에 각각 0, 24, 36, 48 시간동안 이온교환처리를 행한후 시편의 전기적 특성을 분석하였다. 이온 교환처리된 유리의 저항값과 활성화에너지값이 이온교환처리 되지 않은 모유리보다 낮았다. $Na_2O$의 함량이 증가할수록, 이온교환시간이 증가할수록 전기전도도는 증강하였다. 본 실험에서는 $Na_2O$ 함량 30 mol%의 유리를 48시간 이온교환시킨후의 시료의 전기전도도가 제일 좋았으면 $200^{\circ}C$ 에서의 전기전도도는 $1.78\times$$10^{-4}$S/cm이었다.

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스크린 프린팅법으로 제조된 PAN-PZT 후막의 특성 (Charicteristics of PAN-PZT Thick Films on Si-Substrate by Screen Printing)

  • 김상종;최지원;김현재;성만영;윤석진
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.139-142
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    • 2002
  • Characteristics of piezoelectric thick films prepared by screen printing were investigated. The piezoelectric thick films were fabricated using Pb(Al,Nb)O$_3$-Pb(Zr,Ti)O$_3$ system on Si-substrate. The fabricated thick films were burned out at 400$^{\circ}C$ and sintered at 850∼1000$^{\circ}C$ using rapid thermal annealing(RTA) precess. The thickness of piezoelectric thick films were 10$\mu\textrm{m}$. PAN-PZT thick film on Ag-Pd/SiO$_2$/Si prepared at 900$^{\circ}C$/1300sec had remanent polarization of 19.70 ${\mu}$C/$\textrm{cm}^2$.

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