• 제목/요약/키워드: AMOLED Display

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4.1” Transparent QCIF AMOLED Display Driven by High Mobility Bottom Gate a-IGZO Thin-film Transistors

  • Jeong, J.K.;Kim, M.;Jeong, J.H.;Lee, H.J.;Ahn, T.K.;Shin, H.S.;Kang, K.Y.;Park, J.S.;Yang, H,;Chung, H.J.;Mo, Y.G.;Kim, H.D.;Seo, H.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
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    • pp.145-148
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    • 2007
  • The authors report on the fabrication of thin film transistors (TFTs) that use amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO) channel and have the channel length (L) and width (W) patterned by dry etching. To prevent the plasma damage of active channel, a 100-nm-thckness $SiO_{x}$ by PECVD was adopted as an etch-stopper structure. IGZO TFT (W/L=10/50${\mu}m$) fabricated on glass exhibited the high performance mobility of $35.8\;cm^2/Vs$, a subthreshold gate voltage swing of $0.59V/dec$, and $I_{on/off}$ of $4.9{\times}10^6$. In addition, 4.1” transparent QCIF active-matrix organic light-emitting diode display were successfully fabricated, which was driven by a-IGZO TFTs.

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Alignment System Development for producing OLED using Fourth-Generation Substrate

  • Park, Jae-Yong;Han, Seok-Yoon;Lee, Nam-Hoon;Choi, Jeong-Og;Shin, Ho-Seon
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.873-878
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    • 2008
  • Doosan Mecatec has developed alignment system for Organic Light-Emitting Diode (OLED) display production using large size substrate. In the present article, The alignment system between the substrate and the mask, which is a core technology for producing the OLED product using the fourth-generation substrate with $730{\times}920mm^2$ or more, will be described by dividing into a substrate loader, a magnet unit, a CCD camera, etc. The substrate loader is optimized through the simulation where the central portion of the substrate droops by about 1.5mm by clamping each of a long side (920mm direction) and a short side (730mm direction) thereof by 6 point and 4 point. A magnet unit using a sheet type of rubber magnet is constituted and a CCD camera model with the specifications capable of minimizing the errors between a clear image and the same image is selected. The system to which an upward evaporation technique of small molecular organic materials will be applied has been developed so that repeatability and position accuracy becomes ${\pm}1{\mu}m$ or less using an UVW type of stage. Also, the vision accuracy of the CCD camera becomes ${\pm}1{\mu}m$ or less and the align process TACT becomes 30sec. or less so that the final alignment accuracy between the substrate and the mask becomes ${\pm}3{\mu}m$ or less. In order to meet an extra-large glass substrate, an evaporation system using an extra-large AMOLED substrate has been developing through a vertical type of an alignment system.

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고균일 유기박막 코팅을 위한 모세관 현상 전산모사 (Simulation of Capillary Phenomenon for Solution Coating of High-uniformity Organic thin Films)

  • 신동균;홍기영;박종운;서화일
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제16권1호
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    • pp.106-111
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    • 2017
  • When a substrate with a pixel-defining layer (bank) is coated, there arises capillary force due to surface tension and adhesive forces between a solvent and the bank layer. It brings in a degradation of film thickness and emission uniformities within pixels. With an attempt to suppress it, we have performed fluid flow simulations of capillary arise by varying the contact angle of bank and the bank structure. We have first demonstrated that the fluid flow model can reproduce the capillary phenomenon that was observed experimentally. It has been found that capillary arise can be suppressed using a hydrophobic material for the bank layer. Furthermore, it was suppressed by tilting the sidewalls outwardly (i.e., using a positive photoresistor). We can obtain very uniform films when the slope is $50^{\circ}$ with the contact angle of $40^{\circ}$.

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p-채널 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 문턱전압 변동을 보상할 수 있는 5-TFT OLED 화소회로 (5-TFT OLED Pixel Circuit Compensating Threshold Voltage Variation of p-channel Poly-Si TFTs)

  • 정훈주
    • 한국전자통신학회논문지
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    • 제9권3호
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    • pp.279-284
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    • 2014
  • 본 논문에서는 p-채널 저온 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 문턱전압 변동을 보상할 수 있는 새로운 OLED 화소회로를 제안하였다. 제안한 5-TFT OLED 화소회로는 4개의 스위칭 박막 트랜지스터, 1개의 OLED 구동 박막 트랜지스터 및 1개의 정전용량으로 구성되어 있다. 제안한 화소회로의 한 프레임은 초기화 구간, 문턱전압 감지 및 데이터 기입 구간, 데이터 유지 구간 및 발광 구간으로 나누어진다. SmartSpice 시뮬레이션 결과, 구동 트랜지스터의 문턱전압이 ${\pm}0.25V$ 변동 시 최대 OLED 전류의 오차율은 -4.06%이였고 구동 트랜지스터의 문턱전압이 ${\pm}0.50V$ 변동 시 최대 OLED 전류의 오차율은 9.74%였다. 따라서 제안한 5T1C 화소회로는 p-채널 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 문턱전압 변동에 둔감하여 균일한 OLED 전류를 공급함을 확인하였다.

Characteristics of Schottky Barrier Thin Film Transistors (SB-TFTs) with PtSi Source/Drain on glass substrate

  • 오준석;조원주
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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    • pp.199-199
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    • 2010
  • 최근 평판 디스플레이 산업의 발전에 따라 능동행렬 액정 표시 소자 (AMOLED : Active Matrix Organic Liquid Crystral Display) 가 차세대 디스플레이 분야에서 각광을 받고있다. 기존의 TFT-LCD에 사용되는 a-Si:H는 균일도가 좋지만 전기적인 스트레스에 의해 쉽게 열화되고 낮은 이동도는 갖는 단점이 있으며, ELA (Eximer Laser Annealing) 결정화 poly-Si은 전기적인 특성은 좋지만 uniformity가 떨어지는 단점을 가지고 있어서 AMOLED 및 대면적 디스플레이에 적용하기 어렵다. 따라서 a-Si:H TFT보다 좋은 전기적인 특성을 보이며 ELA 결정화 poly-Si TFT보다 좋은 uniformity를 갖는 SPC (Solid Phase Crystallization) poly-Si TFT가 주목을 받고있다. 본 연구에서는 차세대 디스플레이 적용을 위해서 glass 기판위에 증착된 a-Si을 SPC 로 결정화 시킨 후 TFT를 제작하고 평가하였다. 또한 TFT 형성시에 저온공정을 실현하기 위해서 소스/드레인 영역에 실리사이드를 형성시켰다. 소자 제작시의 최고온도는 $500^{\circ}C$ 이하에서 공정을 진행하는 저온 공정을 실현하였다. Glass 기판위에 a-Si이 80 nm 증착된 기판을 퍼니스에서 24시간 동안 N2 분위기로 약 $600^{\circ}C$ 에서 결정화를 진행하였다. 노광공정을 통하여 Active 영역을 형성시키고 E-beam evaporator를 이용하여 약 70 nm 의 Pt를 증착시킨 후, 소스와 드레인 영역의 실리사이드 형성은 N2 분위기에서 $450^{\circ}C$, $500^{\circ}C$, $550^{\circ}C$에서 열처리를 통하여 형성하였다. 게이트 절연막은 스퍼터링을 이용하여 SiO2를 약 15 nm 의 두께로 증착하였다. 게이트 전극의 형성을 위하여 E-beam evaporator 을 이용하여 약 150 nm 두께의 알루미늄을 증착하고 노광공정을 통하여 게이트 영역을 형성 후 에 $450^{\circ}C$, H2/N2 분위기에서 약 30분 동안 forming gas annealing (FGA)을 실시하였다. 제작된 소자는 실리사이드 형성 온도에 따라서 각각 다른 특성을 보였으며 $450^{\circ}C$에서 실리사이드를 형성시킨 소자는 on currnet와 SS (Subthreshold Swing)이 가장 낮은것을 확인하였다. $500^{\circ}C$$550^{\circ}C$에서 실리사이드를 형성시킨 소자는 거의 동일한 on current와 SS값을 나타냈다. 이로써 glass 기판위의 SB-TFT 제작 시 실리사이드 형성의 최적온도는 $500^{\circ}C$로 생각되어 진다. 위의 결과를 토대로 본 연구에서는 SPC 결정화 방법을 이용하여 SB-TFT를 성공적으로 제작 및 평가하였고, 차세대 디스플레이에 적용할 경우 우수한 특성이 기대된다.

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PTWS를 적용한 웨어러블 AMOLED용 고집적화 3-채널 DC-DC 변환기 설계 (Design of Highly Integrated 3-Channel DC-DC Converter Using PTWS for Wearable AMOLED)

  • 전승기;이희진;최호용
    • 전기전자학회논문지
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    • 제23권3호
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    • pp.1061-1067
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    • 2019
  • 본 논문에서는 PTWS 방식을 이용한 고집적화된 AMOLED용 3-채널 DC-DC 변환기의 설계한다. 양의 전압 $V_{POS}$는 경부하에서 효율을 제고하기 위해 SPWM 듀얼모드와 PTWS 방식을 적용한 부스트 변환기로 설계한다. 음의 전압 $V_{NEG}$는 전력 손실을 줄이기 위해 PSM 방식을 적용한 0.5x 인버팅 차지펌프를 이용해 설계하고, 추가적인 전압 $V_{AVDD}$는 LDO를 이용하여 설계한다. 제안된 DC-DC 변환기는 $0.18{\mu}m$ BCDMOS 공정을 사용하여 시뮬레이션을 한 결과 부하전류 1mA~70mA에서 전력효율 56.9%~90.2%를 가지고, 양의 전압 $V_{POS}$에서 최대 5mV의 출력 리플을 가졌다.

디스플레이용 박막 트랜지스터 기술의 이노베이션 (Innovation of TFT Technology for Display)

  • 유병곤;박상희;황치선
    • 전자통신동향분석
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    • 제27권5호
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    • pp.109-125
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    • 2012
  • 액정 디스플레이의 산업 규모는 놀라운 속도로 확대되고 있다. 그 원동력이 된 것이 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT) 기술의 발전에 있다. 비정질 실리콘(Amorphous Silicon: a-Si) TFT 기술은 대형 액정 TV를 탄생시키고, 저온 폴리실리콘 TFT는 휴대전화 등의 중소형 디스플레이와 AMOLED의 핵심 기술이 되었다. 또한 다양한 TFT 기술 seeds가 계속해서 출현하여 정보 인프라와 생활 스타일에 맞춘 새로운 정보기기의 출현을 예감시키고 있다. 새로운 응용제품의 요구는 새로운 기술 개발의 견인차가 되고 있다. 최근에는 이러한 요구에 따라 산화물 TFT, 마이크로 결정실리콘(microcrystalline Si: ${\mu}c-Si$) TFT, 유기물 TFT 등의 기술도 활발하게 연구개발되고 있다. 본고에서는 지금까지의 TFT 기술 개발의 발전사를 뒤돌아보고 지금부터의 발전 방향을 박막 트래지스터 기술 이노베이션 관점으로부터 전망하였다.

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A New DAC Employing Source-follower type Analog Buffer with P-type Poly-Si TFTs in Active-Matrix Displays

  • Nam, Woo-Jin;Jung, Sang-Hoon;Kim, Ji-Hoon;Shin, Hee-Sun;Han, Min-Koo
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
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    • pp.999-1002
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    • 2004
  • We propose and simulate a new integrated DAC analog buffer composed of only p-type poly-Si TFTs in AMLCD and AMOLED. Proposed circuit employs a voltage level shifter which $V_{OUT}$ has a linear functional relation to $V_{IN}$. The proposed scheme enables to allow a constant $V_{GS}$ of buffer transistor so that the charging speed of pixel data address is improved.

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Novel Oxide Thin Film Transistors for Transparent AMOLED

  • Cho, Doo-Hee;Yang, Shin-Hyuk;Byun, Chun-Won;Lee, Jeong-Ik;Hwang, Chi-Sun;Kopark, Sang-Hee;Chu, Hye-Yong;Cho, Kyoung-Ik
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.1101-1104
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    • 2008
  • We have fabricated the transparent TFTs using new oxide material (AZTO: Al-doped zinc tin oxide) as an active layer. The AZTO TFT showed good performance without post-annealing. The electrical characteristics were improved by the post-annealing up to $300^{\circ}C$. The AZTO TFTs exhibited a mobility of $8{\sim}12\;cm^2/Vs$, a sub-threshold swing of 0.2~0.6 V/dec, and an on/off ratio of more than $10^9$.

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Enhanced LTPS Manufacturing Equipment employing Excimer Laser Crystallization

  • Herbst, Ludolf;Simon, Frank;Rebhan, Ulrich;Geuking, Thorsten;Klaft, Ingo;Fechner, Burkhard
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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    • pp.1123-1126
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    • 2005
  • For creation of low temperature polycrystallinesilicon (LTPS) the line beam excimer laser annealing (ELA) is a well known and established technique in mass production. With introduction of Sequential Lateral Solidification (SLS) some aspects such as crystalline quality, throughput and flexibility regarding the substrate size could be improved, but for OLED manufacturing still further process development is necessary. This paper discusses line beam ELA and SLS techniques that might enable process engineers to make polycrystalline-silicon (poly-Si) films with a high degree of uniformity and quality as required for system on glass (SOG) and active matrix organic light emitting displays (AMOLED). Equipment requirements are discussed and compared to previous standards. SEM images of process examples are shown in order to demonstrate the viability.

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