• Title/Summary/Keyword: 형상 형성 제어

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Case study: Analysis of flow characteristic and deposition on abandoned channel (Case Study: 구하도 복원수로의 흐름특성과 퇴적경향 분석)

  • Yeo, Hong-Koo;Kang, Joon-Gu;Lee, Keum-Chan;Kwon, Bo-Ae
    • Proceedings of the Korea Water Resources Association Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.1822-1826
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    • 2009
  • 최근 국내 하천복원사업의 방향(패러다임)이 구하도를 포함한 홍수터의 중요성을 인식하게 됨에따라 과거 하천사업 시 발생되었던 폐천구역을 가능한 한 하천구역에 편입하여 보존하려는 노력이 시도되고 있다. 본 연구는 하천복원사업의 일환으로 함평천 구하도 복원을 함으로써 발생할 수 있는 흐름특성변화 및 하상변화를 파악하기 위한 목적으로 수리모형실험과 수치모의를 수행하였다. 실험대상구간은 함평천 중류 구하도 복원구간(1.34 km)이며, 수리모형은 Froude 상사법칙에 따라 수평축척 1/50, 연직축척 1/25의 모형으로 제작하였다. 실험조건으로는 재현기간 50년, 100년의 홍수량과 강턱유량 두 케이스$(100\;m^3/s$, $120\;m^3/s)$를 적용하였고, 구하도 복원수로의 흐름특성은 고정상 조건에 대해 분석하였다. 구하도 복원전/후의 홍수위 비교를 통해 구하도 복원후의 하도에서는 단면확대로 인한 통수능 증가로 홍수위 저감효과를 확인 할 수 있었다. 구하도 복원후의 유속변화는 통수능의 증가로 복원전에 비해 저감되었다. 기존하도와 복원하도간의 유속차가 다소 크게 나타났는데 이는 복원하도의 단면형상과 와류발생으로 인해 나타난 것으로 판단된다. 복원하도내의 유황은 일부구간에서 흐름정체현상과 역류현상이 발생되는데 이 구간에는 퇴적현상이 예측된다. 수리모형실험의 유사퇴적경향과 FESWMS 모형의 하상전단력을 비교한 결과는 유사하게 나타났으며, 복원하도의 넓은 둔치지역에 넓은 퇴적층이 형성되어 차후 환경구조물 등을 이용한 흐름제어 및 유지관리대책에 의한 문제해결이필요할 것으로 판단된다.

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PWR 원전환경에서 오스테나이트 스테인리스강의 피로균열성장특성에 미치는 질소의 영향

  • Min, Gi-Deuk;Kim, Dae-Hwan;Lee, Bong-Sang;Kim, Seon-Jin
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2011.10a
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    • pp.39.1-39.1
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    • 2011
  • 가압경수로의 압력경계기기는 약 $300^{\circ}C$, 150기압의 고온고압수환경에서 가동되고 있다. 특히 가압기 밀림관은 고온수와, 저온수가 교차하는 부분으로 열성층 형성으로 열적, 기계적 피로 및 수화학환경이 더해진 부식피로 등에 의하여 손상을 받는다. PWR 원전에서 수화학환경은 대표적으로 용존산소(DO) 5ppb, pH 6~8, 용존수소(DH) <30 cc/kg, 온도 $316^{\circ}C$의 환경을 유지하게 된다. 가압기 밀림관에는 오스테나이트계 스테인리스강이 사용되는데, 오스테나이트계 스테인리스강은 고온 수화학환경에 민감한 것으로 알려져 있다. 따라서 오스테나이트계 스테인리강을 공기중에서의 기계적특성 및 피로특성을 향상시키기 위하여 질소를 첨가한 스테인리스강을 제조하여 PWR 원전환경에서의 피로균열성장특성을 평가하였다. 실험에 사용된 재료는 PWR 원전 가압기 밀림관 소재인 Type 347 스테인리스강에 0.0005 wt%가 첨가된 상용재와 0.11 wt% 질소가 첨가된 재료이다. 사용된 시편형상은 두께 5 mm, 폭 25.4 mm의 CT 시편이다. 수화학환경은 150기압, 온도 $316^{\circ}C$, 용존산소(DO) 5ppb, 용존수소(DH) 30 cc/Kg, pH는 약 7로 유지 하였으며, 응력비 0.1, 하중 반복속도 10Hz의 기계적 조건에서 하중제어로 시험을 진행하였다. 균열길이는 직류전위차법(Direct Current Potential Drop: DCPD)을 이용하여 측정하였다. 질소함량이 증가할수록 동일 사이클에서 균열길이가 늦게 성장하였고, 피로균열성장속도도 약간 늦어지는 것으로 나타났다. 각 스테인리스강의 피로파면 관찰결과 상용재는 약 1 ${\mu}m$의 산화물들이 생성되는 반면 질소첨가 스테인리스강은 약 0.1 ${\mu}m$정도 산화물이 생성되었다. 산화막의 두께도 질소가 첨가됨으로써 상용재에 비해 얇게 생성되었다. 따라서 질소가 첨가됨으로써 부식환경에서 내산화성이 향상되었으며, 이는 피로균열성장특성에 영향을 미치는 것으로 판단된다.

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Optimal Shape Design of Dual Reflector Antenna Based on Genetic Algorithm (유전 알고리즘 기반의 이중 반사경 안테나 형상최적화 기법)

  • Park, Jung-Geun;Chung, Young-Seek;Kang, Won-June;Shin, Jin-Woo;So, Joon-Ho;Cheon, Chang-Yul
    • The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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    • v.26 no.5
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    • pp.445-454
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    • 2015
  • In this paper, we propose an optimal design method for a dual reflector antenna(DRA) using the Genetic algorithm. In order to reduce the computational burden during the optimal design, we exploit the iterative physical optics(IPO) to calculate the surface current distribution at each reflector antenna. To improve the accuracy, we consider the shadow effect by the structure and the coupling effect by the multi-reflection based on the iterative MFIE(Magnetic Field Integral Equation). To reduce the number of design variables and generate a smooth surface, we use the Bezier function with the control points, which become the design variables in this paper. We adopt the HPBW(Half Power Beam Width), the FNBW(First Null Beam Width), and the SLL(Side Lobe Level) as the objective or cost functions. To verify the results, we compare them with the those of the commercial tool.

Notching Phenomena of Silicon Gate Electrode in Plasma Etching Process (플라즈마 식각공정에서 발생하는 실리콘 게이트 전극의 Notching 현상)

  • Lee, Won Gyu
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.20 no.1
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    • pp.99-103
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    • 2009
  • HBr and $O_2$ in $Cl_2$ gas ambient for the high density plasma gate etching has been used to increase the performance of gate electrode in semiconductor devices. When an un-doped amorphous silicon layer was used for a gate electrode material, the notching profile was observed at the outer sidewall foot of the outermost line. This phenomenon can be explained by the electron shading effect: i.e., electrons are captured at the photoresist sidewall while ions pass through the photoresist sidewall and reach the oxide surface at a narrowly spaced pattern during the over etch step. The potential distribution between gate lines deflects the ions trajectory toward the gate sidewall. In this study, an appropriate mechanism was proposed to explain the occurrence of notching in the gate electrode of un-doped amorphous silicon.

Carbon tip growth by electron beam deposition (전자빔 조사에 의한 탄소상 탐침의 성장)

  • 김성현;최영진
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.12 no.2
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    • pp.144-149
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    • 2003
  • Carbon tips were grown on Si cantilevers by applying an electron beam to them directly with Scanning Electron Microscope. A carbon tip was fabricated by aligning the electron beam directly down the vertical axis of Si cantilever and then irradiating a single spot on the cantilever for a proper time in the dominant atmosphere of residual gases generated by the oil of the diffusion pump. A number of control parameters for SEM, including exposure time, acceleration voltage, emission current, and beam probe current, were allowed to make various aspect ratio feature. The growth of carbon tips was not affected by the surface morphology of substrates. We could acquired the tip whose effective length is 0.5 $\mu\textrm{m}$, bottom diameter is 90 nm and cone half angle $3.5^{\circ}$ The growth technique of the high aspect ratio carbon tips on the tip-free cantilevers is available to reduce the complexities of fabricating sub-micron scale tips on the PZT thin film actuator integrated AFM cantilevers.

Study on the Application of Photosensitive Resin to Reduce the Tolerance of Polymer Thick Film Resistors (폴리머 후막저항의 허용편차 개선을 위한 감광성 레진 적용에 대한 연구)

  • Park, Seong-Dae;Lee, Sang-Myoung;Kang, Nam-Kee;Oh, Jin-Woo;Kim, Dong-Kook
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2008.06a
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    • pp.532-532
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    • 2008
  • 본 연구에서는 Embedded 기판용 폴리머 후막저항의 허용편차 개선을 위하여 새로운 후막 패터닝 기술을 도입하는 연구를 실시하였다. 기존의 Embedded 기판용 폴리머 후막저항은 스크린 인쇄에 의하여 형성됨에 따라 패턴의 정밀성이 떨어지고 기판 상 위치별 두께편차에 의하여 저항값의 허용편차(tolerance)가 ${\pm}$20~30% 정도로 큰 단점을 가지고 있다. 따라서 경화 후 laser trimming 공정을 필수적으로 동반하게 된다. 이를 개선하기 위하여 본 연구에서는 알칼리 수용액에 현상이 가능한 감광성 레진을 이용하여 폴리머 후막저항 페이스트를 제작하는 것과 함께 기판 전면에 균일한 두께로 인쇄하는 roll coating 방법을 도입하는 실험을 수행하였다. 알칼리 현상형의 감광성 레진 시스템은 노광 및 현상에 의해 정밀한 패턴을 구현할 수 있는 장점을 가지고 있으며, 본 연구에는 A사의 일액형 레진과 T사의 이액형 레진을 사용하였다. 여기에 전도성 필러로서 카본블랙을 첨가하였는데, 그 첨가량의 조절에 따른 후막저항의 시트저항값 변화와 현상 특성을 관찰하였다. 테스트 보드는 FR-4 기판 상에 전극 형상의 동박을 패터닝 후 Ni/Au 도금까지 실시하여 제작하였고, 이 테스트 보드 상에 별도로 제작된 저항 페이스트를 도포한 후 저항체 패턴이 입혀져 있는 Cr 마스크를 이용하여 노광하였다. 이후 현상 공정을 통하여 저항체를 패터닝하고, 이를 $200^{\circ}C$에서 1시간 열경화하는 것으로 후막 저항 테스트쿠폰을 제작하였다. 실험결과 roll coating에 의해 도포된 후막저항체들은 균일한 두께 범위를 나타내었고, 이에 따라 최종 경화 후 허용편차도 통상 ${\pm}$5~10% 이내로 제어될 수 있었다.

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Effect of injection pressure on the atomization characteristics of a liquid sheet-type swirl injector for Urea-SCR system (Urea-SCR시스템 액막형 선회분사기의 분사압력변화에 따른 무특성에 관한 연구)

  • Kim, Duckjin;Yang, Donguk;Lee, Jeekeun
    • Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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    • v.37 no.5
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    • pp.510-519
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    • 2013
  • In this study, the spray characteristics of a pressure swirl atomizer classified into a liquid sheet-type swirl nozzle for Urea-SCR system were investigated experimentally with the variation of injection pressure. The length to diameter ratio ($l_o/d$) of the nozzle was 3.1, and the swirler was set inside the nozzle tip to give injecting fluid angular momentum. The injection duration of the nozzle was controlled by PWM (pulse width modulation) modes. The development processes of the spray were imaged by a 2-D PIV system, and the change of spray angle was measured. The atomization characteristics, including axial velocity and SMD, were measured using a 2-D PDA system with the injection pressures at room temperature and ambient pressure conditions. As the experimental results, the injection pressure had a significant impact on the spray structure showing a different shape around the spray leading edge, and the smaller SMD was observed with increasing injection pressures, which was similar to that of the previous work.

온도 조건 변화에 따른 Cu-Pc 박막 $\beta$-phase type의 표면 결정 특성에 관한 연구

  • Kim, Hyeon-Suk;Gang, Sang-Baek;Chae, Yeong-An;Yun, Chang-Seon;Yun, Seong-Hyeon;Yu, Su-Chang;Kim, Jin-Tae;Cha, Deok-Jun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.254-254
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    • 2010
  • Cu-Pc(copper(II)-phthalocyanine)는 박막의 형성과정에서 열처리 방식과 온도에 따라 박막의 구조가 변하며, 구조로는 열적으로 준 안정적인 $\alpha$-phase와 열적으로 안정적인 $\beta$-phase가 있다. 본 연구에서는 Cu-Pc 박막의 열적으로 안정적인 $\beta$-phase 구조에 대해 온도 조건 변화에 따른 표면 결정 성장의 특성을 연구하고자 한다. 진공증착 방법 중 하나인 thermal evaporation deposition을 이용하여 glass 기판위에 전열 처리 및 후열 처리에 대해 온도 조건 변화에 따른 $\beta$-phase type의 표면 결정 특성을 연구하였다. Cu-Pc 박막의 성장두께는 50nm 일정한 두께로 fluxmeter 및 thickness monitor를 이용하여 제어하였다. 50nm의 두께에 따른 기판온도를 $100^{\circ}C$, $200^{\circ}C$, $300^{\circ}C$로 전열 처리한 후 각각 전열 처리한 기판온도에 대해 1hour, 2hour, 3hour 후열 처리하여 온도 조건에 따른 박막을 성장한 후, $\beta$-phase type에 대한 결정 구조 및 표면 특성 변화를 분석하였다. 제작된 Cu-Pc의 박막은 $\beta$-phase type으로, 열처리에 따른 $\beta$-phase transition 현상을 연구하였다. XRD(X-ray diffraction)를 통하여 박막에 대한 결정 구조 분석 및 FE-SEM(field emission scanning electron microscopy)을 이용하여 Cu-Pc 박막의 구조적 결정성과 방향성 등, 표면 상태와 형상구조에 대해 표면의 특성을 분석하며, 광 흡수도(UV-visible absorption spectra)을 이용하여 온도 조건에 따른 투과/흡수 현상을 비교분석하였다.

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Durability Improvement of Functional Polymer Film by Heat Treatment and Micro/nano Hierarchical Structure for Display Applications (열처리와 복합구조화를 통한 디스플레이용 기능성 고분자 필름의 내구성 향상 연구)

  • Yeo, N.E.;Cho, W.K.;Kim, D.I.;Jeong, M.Y.
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.25 no.4
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    • pp.47-52
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    • 2018
  • In this study, the effects of the heat treatment and multi-scale hierarchical structures on the durability of the nano-patterned functional PMMA(Poly(methyl-methacrylate)) film was evaluated. The heat treatments that consisted of high-pressure/high-temperature flat pressing and rapid cooling process were employed to improve mechanical property of the PMMA films. Multi-scale hierarchical structures were fabricated by thermal nanoimprint to protect nano-scale structures from the scratch. Examination on surface structures and functionalities such as wetting angle and transmittance revealed that the preopposed heat treatment and multi-scale hierarchical structures are effective to minimize surface damages.

Hidden Object Detection System using Parametric Array (파라메트릭 배열을 이용한 은폐 물체 탐지 시스템)

  • Lee, Kibae;Lee, Jaeil;Bae, Jinho;Lee, Chong Hyun;Cho, Jung Hong
    • Journal of the Institute of Electronics and Information Engineers
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    • v.54 no.3
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    • pp.78-86
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    • 2017
  • In this paper, we propose hidden object detection system using parametric array based on acoustic signal that is harmless to human body. A transmit signal of the proposed detection system uses a high directive chirp signal generated from parametric array phenomenon, which uses technique to improve a signal to noise (SNR) of a received signal and a distance resolution trough the dechirp processing. The transmit sensor array is constructed as $8{\times}2$ and has a horizontal beam width of $7^{\circ}$ and vertical beam width of $26^{\circ}$. To verify the detection and visualization of the proposed system, a 2-axis driving control system based on linear stage was constructed, and A-scan, B-scan, and C-scan experiments was addressed for hidden object. From experimental results, we detected and visualized the hidden bronze plate and pipe by cloth and the visualized shapes was confirmed. Especially, the obtained errors was $0.015m^2$ for bronze plate, and $0.046m^2$ for pipe.