• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2001.04a
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• pp.42-43
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• 2001

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2001.10a
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• pp.80-81
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• 2001

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 1995.05a
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• pp.40-41
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• 1995

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 1999.10a
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• pp.116-117
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• 1999

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2005.06a
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• pp.66-66
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• 2005

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.259-259
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• 2004

정밀부품의 가공 시에 발생되는 burr는 제품의 정밀도, 성능과 제품의 생산성에도 부정적인 영향을 끼치다. 따라서 효율적인 burr의 제거는 제품의 성능의 향상뿐만 아니라 생산성의 향상에도 긍정적인 영향을 미칠 수 있다. 자기 연마법(Magnetic Abrasive Finishing)은 연마제의 연마특성과 철의 자기화 성질을 이용한다. 자기장내의 자기력선의 응집현상을 통해서 burr를 제거하는 방법이다. 자기 유도자에 의해 형성된 magnet flow를 따라 지립이 정렬을 하고 정렬된 지립은 브러쉬의 역할을 하여 burr를 제거하게 된다.(중략)

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.13 no.3
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• pp.103-108
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• 2003

A micromagnetic model and a Stoner-Wohlfarth model are used to analyze the effect of demagnetization field in patterned permalloy films. Permalloy films of 20 $\mu\textrm{m}$${\times}$(40 $\mu\textrm{m}$∼200 $\mu\textrm{m}$) are fabricated by DC magnetron sputtering and photo lithography. Measured magnetoresistance data of patterned permalloy films are compared with simulation results. The micromagnetic model gives a better agreement with the measured MR data than the Stoner-Wohlfarth model. Based on the simulation results, we propose a revised approximation formula for dernagnetization field in Stoner- Wohlfarth model for a few fm patterned magnetic films.

• 한국정보교육학회:학술대회논문집
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• 2004.01a
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• pp.375-382
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• 2004

자기평가는 수행평가의 한 방법으로서 학습과 이해에서 자신의 진보를 능동적으로 모니터하고, 자신의 지식, 과정, 태도를 검증하는 과정이다. 자기 평가를 통해, 학습자들은 자신의 수행을 평가함으로써 수업과정에 참여하게 된다. 본 연구에서는 교사들이 컴퓨터 수업에서 자기 평가를 실시할 수 있는 자기 평가서와 자기 평가 문항들을 개발하여본다. 자기 평가서의 종류로는 자기 보고서, 컴퓨터 일기, 태도 점검 목록, 자기 평정표 등이 있다. 자기 평가가 컴퓨터 수업의 일부분이 되면, 학습자들은 독립적인 학습자가 되고, 자신의 학습에 대한 통찰력을 가질 수 있으며, 학습 과정에 대해 더욱 자발적이고 흥미를 갖게 될 것이다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.111-111
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• 2011

유기박막트랜지스터는 각 박막계면의 접촉성에 따라 그 성능이 좌우 된다는 것은 널리 알려진 사실이다. 이 때문에 계면간의 접촉성 및 결함을 최소화 하고 효율적인 패턴 형성을 위해 자기조립단분자막의 이용이 최근에 많이 시도되고 있다. 고품질 자기조립단분자막의 제작을 위해 RCA 세척을 통해 웨이퍼 표면에 OH기를 도입 보다 완벽한 단분자막의 형성을 촉진 하였으며 패턴제작은수분이엄격이조절된환경에서 alkyilsilane과 aminosilane 자기조립단분자막을 각각 ${\mu}CP$과 용액공정을 통해 시도되었다. 이 과정에서 물리적 흡착이나 OH기 부족으로 생성된 결함을 보안하기 위하여 SC1용액을 사용 단순 물리흡착된 자기조립단분자 물질의 제거와 다시 OH기 도입 용액공정을 통해 자기조립단분자막 형성을 반복적으로 실시하였다. 그 결과 자기조립단분자막의 결함이 최소화 되었고 자기조립단분자막의 질에 따라 유기전극재료 증착 시 선택적인 성장 과 형성된 유기전극재료 층의 형상이 다르게 관찰 되었다. 이런 반복적인 용액공정을 통해 결함이 최소화된 고품질 자기조립단분자막은 박막계면 간 옴성접촉을 형성하여 유기박막트랜지스터 제작 시 성능 향상이 기대되어진다.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.2 no.2
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• pp.105-113
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• 1992

조성이 Mn$_{x}$Zn$_{1-x}$ Fe$_{2}$O$_{4}$ 훼라이트(x=0.75, 0.52)를 pusher type 연속 전기로를 이용하여 질소 분위기하에서 1360 .deg. C 로 3시간 동안 소결하여 얻어냈다. 본 연구에서는 스피넬 구조인 Mn-Zn 훼라이트의 FMR(Ferrimagnetic Resonance) 스펙트럼 특징과 초기투자율과의 상관성을 조사하고자 EPR X-band 스펙 트로미터를 이용 9.50 GHz의 microwave frequency에서 FMR 실험을 수행하였다. FMR 공명흡수선은 주 자기공명 흡 수선외에 낮은 자기장에서 약한 subsidiary 공명흡수선을 나타내는데 온도변화에 따른 주 자기공명 흡수선과 sub- sidiary 공명흡수선(제2, 제3 공명흡수선)의 세기, 공명선폭, g값 등의 온도 의존성을 연구함으로써 제2 공명흡수 선이 나타나는 원인을 분석하였으며, 자기공명 흡수선의 g값, 자기공명선 세기, 그리고 공명선폭과 초기투자율의 상관성을 연구하였다. 실험 결과 주 자기공명 흡수선의 g값, 자기공명선 세기, 공명선폭은 초기투자율 값과 밀접 한 관련이 있음을 확인할 수 있었다.었다.