• Title/Summary/Keyword: 한국산업기술대전

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21세기 국방과학기술의 발전방안

  • Yu, Jung-Seok
    • Defense and Technology
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    • no.3 s.241
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    • pp.52-59
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    • 1999
  • "제2차 세계대전과 그 이후 냉전 기간 중 미국을 비롯한 선진국들은 국가안보를 국가의 최우선 목표로 삼았기 때문에 과학기술정책의 초점은 우선적으로 군사목적에 맞추어졌다. 하지만 냉전종식과 더불어 선진 강대국들은 국방비 규모를 축소하면서도 연구개발비는 증액하고 민.군 겸용기술화를 시도하는 등 국가과학기술과 산업경쟁력 제고를 통한 실리위주의 정책을 펴고 있다"

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Development of Polymer Film Mass Production by ion Beam Implantation (이온빔을 이용한 고분자 대전방지 처리 양산기술 개발)

  • Kil, Jae-Keun;Lee, Chan-Young;Shon, Chang-Won;Lee, Jae-Hyung
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.07b
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    • pp.1138-1141
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    • 2004
  • 고분자 재료에 이온을 주입하면 표면전기저항이 이온주입조건에 따라 $10^{16}\Omega/sq$ 에서 $10^7\Omega/sq$ 까지 변하게 되며, 광학적 특성도 변하게 된다. 이는 산업적으로 대전방지 등에 적용이 가능하며 이러한 신소재 개발을 위하여 산업용 이온빔 표면처리 장치를 제작하고 인출광학을 기초로 이온빔을 제어하여 고분자 재료의 이온주입처리 양산기술을 개발하였다. 본 연구에서는 대면적, 대전류 이온빔 인출을 위한 이온원의 광학적 설계 및 빔라인에서의 솔레노이드 전자석을 이용한 빔프로파일 제어방법을 설명하였다. 사용된 고분자 소재는 PC(PolyCarbonate) 및 PET(PolyEthylene Teraphthalate)이며, 질소이온주입조건은 이온에너지 40-50 keV, 이온주입량 $5\times10^{15}$, $1\times10^{16}$, $7\times10^{16}ions/cm^2$의 조건으로 공정을 수행하였다. 또한 대전방지용 고분자 대량생산을 위한 연속 생산조건과 양산공정조건에 따른 표면전기저항변화를 관찰하였다.

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방사선의 산업이용을 극대화

  • Korean Federation of Science and Technology Societies
    • The Science & Technology
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    • v.6 no.8 s.51
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    • pp.5-7
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    • 1973
  • 원자력을 산업에 이용하기 위한 대전위방사선가공처리 시범시설이 우리나라에 세워진다. 한국원자력연구소(소장. 윤용길박사)는 국제연합개발계획(UNDP)의 특별기금 약 50만 달러의 지원과 내자 약 3억원을 들여 올해부터 4개년 계획으로 이 시범 시설을 세워 운영키로 했다.이 「매머드」시설이 세워지면 방사선가공기술의 연구개발및 이의 활용이 활발해져 국내산업에 기여도가 클 것으로 전망되고 있다. 특히 관계자들은 수출입국을 지향하고 있는 국내공업발전에도 막대한 힘이 될 것이라 말하고 있는데 이 방사선가공처리 시범시설의 설치에 관한 전모를 살펴보면 다음과 같다.

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DC system protection circuit with fuse within a few milliseconds (수 ms 이내의 퓨즈 용단시간을 갖는 직류시스템 보호 회로)

  • Lee, Seung Ho;kim, Dong-Uk;Jang, Paul;Kim, Sungmin
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2020.08a
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    • pp.318-319
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    • 2020
  • 본 논문에서는 직류 시스템에 적용된 퓨즈를 수 ms 내에 용단시키기 위해 대전류를 주입하여 퓨즈의 I2t에 빠르게 도달시키는 방법을 제시한다. 대전류 주입을 목적으로 상시 충전된 커패시터를 퓨즈에 병렬 연결하여 과전류가 감지되면 방전시킨다. 커패시터에서 방전된 퓨즈에 흐르는 대전류는 I2t에 빠르게 도달시켜 수 ms내에 퓨즈를 용단시킨다. 제안하는 보호회로를 제작하고, 실험을 통해 성능을 검증하였다.

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포커스: 제18회 국제인쇄산업대전 "디지털 인쇄로 열어가는 그래픽 세상" -KIPES2011, 국내 최대 규모로 9월 28일부터 10월 1일까지 개최

  • Kim, Sang-Ho
    • 프린팅코리아
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    • v.10 no.7
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    • pp.68-69
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    • 2011
  • 급변하는 인쇄산업의 비전을 제시해 줄 국내 최대 인쇄인의 축제인 제18회 국제인쇄산업대전(KIPES 2011)이 오는 9월 28일(수)부터 10월 1일(토)까지 경기도 고양시에 위치한 KINTEX 전시장에서 개최된다. "디지털 인쇄로 열어가는 그래픽 세상!"을 주제로 열리는 이번 KIPES 2011은 대한인쇄문화협회와 한국이앤엑스가 공동으로 주최하고 문화체육관광부, 지식경제부, 경기도, KOTRA, 대한인쇄정보산업협동조합연합회, 서울특별시인쇄정보산업협동조합, 대한인쇄기술협회, 대한인쇄연구소, 한국제책공업협동조합, 한국스크린인쇄공업협회, 한국디자인단체총연합회 등 관련기관과 단체가 후원하며, KINTEX 제2전시장 개관에 맞추어 국제플라스틱, 고무산업전 등 관련 유관전시회 5개와 함께 제1전시장 5실에서 1만1000$m^2$의 규모로 동시에 개최된다.

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