• Title/Summary/Keyword: 플라즈마 표면처리

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Removal of Contaminants Deposited on Surfaces of Matrices by Using Low-Temperature Argon Plasma Treatment (저온 아르곤 플라즈마처리를 이용한 모재 표면의 오염물 제거)

  • Seo, Eun-Deock
    • Journal of Conservation Science
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    • v.30 no.3
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    • pp.299-306
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    • 2014
  • The possibility of a low-temperature argon plasma treatment as a mean of restoration technology for contaminated invaluable archive materials and artefacts, and evidencing documents was investigated along with an oxygen plasma treatment for comparison. For this purpose, the degree of color changes, ${\Delta}E^*ab$, and surface morphological changes due to plasma treatments as an evaluation of removal performance of artificial contaminants such as brilliant green dye and carbon deposit on cellulose acetate and plain paper as matrices, respectively, were measured and analyzed using a spectrophotometer and a field emission scanning electron microscope. Compared to the argon plasma treatment with sputtering characteristic, that of the oxygen plasma with characteristic of an oxidation reaction has shown superior results in removing the contaminants; the oxygen plasma has proven to damage the matrices significantly due to its oxidative characteristic, and post-plasma reactions has anticipated to be also detrimental to the surfaces, whereas, the problems caused by the counterpart has resulted in being negligible and rather has thought to be an appropriate mean for delicate restoration and/or removal operations of contaminants.

Effects of Ar gas composition on the surface properties of AISI316L stainless steel during low temperature plasma nitriding after low temperature plasma carburizing (AISI316L stainless steel에 저온 프라즈마 침탄처리 후 질화처리 시 Ar 가스조성이 표면특성에 미치는 영향)

  • Jeong, Gwang-Ho;Lee, In-Seop
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.159-160
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    • 2007
  • 저온 플라즈마 침탄 처리 후 연속적인 공정으로 저온 플라즈마 질화를 실시하여 내식성과 표면경도를 향상시키는 처리에서 질화처리 시 Ar 가스가 표면특성에 미치는 영향을 조사 하였다. 모든 시편의 경도가 미처리재 보다 약4배 증가하였으며, Ar가스의 양이 증가할수록 N의 침투깊이가 깊어졌다. 전체 경화증의 두께는 거의 일정하였고, 경화층은 모재보다 내식성이 증가되어 단면조직사진에서 밝게 나타났다.

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Application of Low Temperature Plasma Treatment to the Fabrication of Thin Film Composite Membrane (저온 플라즈마 공정의 복합막 제조에의 응용)

  • 김현일;김성수;전배혁
    • Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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    • 1998.10a
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    • pp.120-122
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    • 1998
  • 현재 상업화되어있는 RO membrane으로는 크게 asymmetric membrane과 composite membrane으로 구분될 수 있다. Asymmetric membrane의 소재로는 Cellulose acetate나 Cellulose triacetate와 같은 것들이 사용되며 현재에도 많이 사용되고 있으나, 보다 더 우수한 성능을 갖는 분리막을 제조하기 위해 현재에는 주로 composite membrane 형태로 제조된다. 대부분의 composite membrane은 계면중합에 의해 제조되는데 대표적인 membranem으로는 FT-30이 있다. 이 밖에도 support의 표면을 직접 플라즈마 처리하여 복합막을 제조하는 공정이 있으며 polyactrylonitrile과 같은 membrane이 이에 속한다. 플라즈마 처리된 복합막은 처리 대상에 크게 영향을 받지 않고 support 표면에 crosslinking의 형태로 형성되기 때문에 active layer가 매우 안정하며 따라서 우수한 물리화학적 성질을 기대할 수 있다. 이밖에도 분리막 표면을 친수성 단량체로 플라즈마 처리함으로써 분리막 표면에 친수성을 부여하거나 관능기를 도입함으로써 불활성 표면을 활성화 시킬 수도 있는 등의 여러가지 장점을 가지고 있다.

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Polymer thin film organic transistor characteristics with plasma treatment of interlayers (플라즈마 표면처리에 따른 유기트랜지스터 특성)

  • Lee, Boong-Joo
    • The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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    • v.8 no.6
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    • pp.797-803
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    • 2013
  • In this paper, we fabricated insulator thin films by plasma polymerization method for organic thin film transistor's insulator layer. For improving the electrical characteristics of organic transistor, we treated the semiconductor thin film with $O_2$ plasma. As results, the surface energy of organic transistor was increased from $38mJ/m^2$ to $72mJ/m^2$ and the mobility of organic transistor was increased $0.057cm^2V^{-1}s^{-1}$, that is increased 29% average ratio. Therefore, we have known that oragnic transistor's mobility can improve with plasma treatment of semiconductor thin film's surface.

Degradation of electrical characteristics in Bio-FET devices by O2 plasma surface treatment and improving by heat treatment (O2 플라즈마 표면처리에 의한 Bio-FET 소자의 특성 열화 및 후속 열처리에 의한 특성 개선)

  • Oh, Se-Man;Jung, Myung-Ho;Cho, Won-Ju
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.17 no.3
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    • pp.199-203
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    • 2008
  • The effects of surface treatment by $O_2$ plasma on the Bio-FETs were investigated by using the pseudo-MOSFETs on the SOI substrates. After a surface treatment by $O_2$ plasma with different RF powers, the current-voltage and field effect mobility of pseudo-MOSFETs were measured by applying back gate bias. The subthreshold characteristics of pseudo-MOSFETs were significantly degraded with increase of RF power. Additionally, a forming gas anneal process in 2 % diluted $H_2/N_2$ ambient was developed to recover the plasma process induced surface damages. A considerable improvement of the subthreshold characteristics was achieved by the forming gas anneal. Therefore, it is concluded that the pseudo-MOSFETs are a powerful tool for monitoring the surface treatment of Bio-FETs and the forming gas anneal process is effective for improving the electrical characteristics of Bio-FETs.

Low temperature plasma nitricarburizing and 2-step plasma processes of 304L austenitic stainless steels (304L 스테인리스강의 저온 플라즈마질탄화 및 2-step 플라즈마 프로세스)

  • Lee, In-Seop
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.65-68
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    • 2007
  • 저온 플라즈마 기술을 이용하면 오스테나이트계 스테인리스강의 내식성과 표면경도를 동시에 증가 시킬 수 있다. 여러 가지 처리방법 중 질탄화와 2-step 공정으로 처리한 AISI304L강의 표면을 분석하였다. 처리한 모든 시편의 표면은 expanded austenite(${\gamma}_N$)이 형성되었고, 표면 경도도 모재보다 약 4배 이상 증가 하였다. 저온플라즈마 질탄화 공정의 경우 경화층의 두께가 최대 15 ${\mu}m$밖에 형성되지 않았지만 2-step공정의 경우 질탄화 공정보다 짧은 시간으로 약 2배의 경화층을 얻을 수 있었다. 두 가지 공정 모두 온도와 시간이 증가할수록 경화층의 두께가 두꺼워졌지만, 과도하게 높은 온도와 긴 공정시간은 석출물을 형성 시켰다. 석출물이 형성되지 않은 시편의 경우 내식성이 증가하였다.

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플라즈마 표면 기술의 산업응용 현황 및 전망

  • 한전건
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2001.11a
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    • pp.1-1
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    • 2001
  • 21세기의 신물질로 알려져 있는 플라즈마는 기체에 에너지를 가해 형성되는 높은 에너지(수십만도)의 이옹화된 기체의 집합체로 최근 이러한 플라즈마를 이용하여 고부가가치의 신기 능 제품개발에 널리 활용되고 있다. 플라즈마를 이용한 신기능 표면처리 기술개발이 가속 화됨에 따라 자동차, 기계, 전자, 에너지, 환경 산엽둥 전 산업 분야에 그 응용범위가 광범위 하게 확대 되고 있으며 이에 따른 핵심 연구개발도 최근 매우 중요시 되고 있다. 본 발표에서는 이라한 최끈 플라즈마 기술의 발전동향, 응용현황 및 향후 기술 확산을 위한 핵심 연구 방향에 대해 고찰하고저 한다.

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Sn-Ag-Cu Solder Joint Properties on Plasma Coated Organic Surface Finishes and OSP (플라즈마 유기막과 OSP PCB 표면처리의 Sn-Ag-Cu 솔더 접합 특성 비교)

  • Lee, Tae-Young;Kim, Kyoung-Ho;Bang, Jung-Hwan;Park, Nam-Sun;Kim, Mok-Soon;Yoo, Sehoon
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.21 no.3
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    • pp.25-29
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    • 2014
  • Plasma organic thin film for PCB surface finish is a potential replacement of the conventional PCB finishes because of environment-friendly process, high corrosion-resistance and long shelf life over 1 year. In this study, solder joint properties of the plasma organic surface finish were estimated and compared with OSP surface finish. The plasma surface finish was deposited by chemical vapor deposition from fluorine-based precursors. The thickness of the plasma organic coating was 20 nm. Sn-3.0Ag-0.5Cu (SAC305) solder was used as solder joint materials. From a salt spray test, the plasma organic coating had higher corrosion resistance than the OSP surface finish. The spreadability of SAC305 on plasma organic coating was higher than that on OSP surface finish. SEM and TEM micrographs showed that the interfacial microstructure of the plasma surface finish sample were similar to that of the OSP sample. Solder joint strength of the plasma finish sample was also similar to that of the OSP finished sample.

Effect of Nitrogen Plasma Surface Treatment of Rice Husk-Based Activated Carbon on Electric Double-Layer Capacitor Performance (질소 플라즈마 표면처리가 쌀겨 기반 활성탄소의 전기 이중층 커패시터 성능에 미치는 영향)

  • Lee, Raneun;Kwak, Cheol Hwan;Lee, Hyeryeon;Kim, Seokjin;Lee, Young-Seak
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.33 no.1
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    • pp.71-77
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    • 2022
  • To increase biomass utilization, rice husk-based activated carbon (RHAC) followed by nitrogen plasma surface treatment was prepared and the electric double-layer capacitor performance was investigated. Through nitrogen plasma surface treatment, up to 2.17% of nitrogen was introduced to the surface of RHAC, and in particular the sample reacted for 5 min with nitrogen plasma showed dominant formation of pyrrolic/pyridine N functional groups. In addition, mesopores were formed on the RHAC material by the removal of silica, and the surface roughness of the carbon material increased by nitrogen plasma surface treatment, resulting in the formation of many micropores. As a result of cyclic voltammetry measurement, at a scan rate of 5 mV/s, the specific capacitance of the RHAC treated with nitrogen plasma increased up to 200 F/g, showing an 80.2% improvement compared to that of using untreated RHAC (111 F/g). This is attributed to the synergetic effect of the introduction of pyrrolic/pyridine-based nitrogen functional groups and the increase of the micropore volume on the surface of the carbon material. This study has a positive effect on the environment in terms of recycling waste resources and using plasma surface treatment.

Formation and Growth of Oxide Films on AZ31 Mg Alloy Using Plasma Electrolytic Oxidation Method (플라즈마 전해산화법을 이용한 AZ31 마그네슘 합금 표면의 산화피막 형성 연구)

  • Mun, Seong-Mo
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2013.05a
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    • pp.74-74
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    • 2013
  • 본 연구에서는 AZ31 마그네슘 합금의 내식성을 향상시키기 위하여 플라즈마 전해산화(PEO, plasma electrolytic oxidation)법을 이용하여 $5{\sim}50{\mu}m$ 두께의 산화피막을 형성시켰으며, 염수침지법, 동전위 분극실험 및 a.c. 임피던스 측정법을 이용하여 형성된 산화피막의 특성을 평가하였다. 플라즈마 전해산화 피막은 다양한 용액에서 펄스전류를 인가하여 형성하였으며, 플라즈마 전해산화 처리된 AZ31 마그네슘 합금 시편은 증류수에서 실링 처리할 경우 0.5 M NaCl용액에 침지 시 600 시간동안 부식이 일어나지 않았다.

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