자연광의 이용은 큰 어려움 없이 지속 가능한 에너지 기술을 구현할 수 있는 방안으로 고려되고 있다. 여러 개의 작은 반사경을 적용한 태양 추적식 자연채광 시스템은 비교적 단순한 메카니즘을 적용하여 그 성능과 효용성의 극대화를 꾀할 수 있으며, 또한 그 제작, 설치 작동 그리고 활용성에서 상당한 이점이 있다. 본 연구에서는 작은 mini-dish형 반사경(직경<30cm 이하)을 이용한 화이버 광학 집광기의 설계, 제작 및 작동 특성에 대하여 소개하고, 아울러 광추적 프로그램인 Photopia를 이용하여 그 성능에 대한 시뮬레이션을 수행하였다. 주요 구성 요소에서의 광추적에 의한 시뮬레이션 결과치는 실제 시스템의 설계 및 성능 예측에 중요한 기술적 데이터를 제공하며, 특히 실측이 곤란한 측정 면에서의 빛의 경로 해석에 유용하게 적용될 수 있다.
팬덤 문화가 확산함에 따라 굿즈 구매량이 증가하였고, 동시에 포토카드를 탑로더에 넣어 꾸미는 '탑꾸'를 SNS에 자랑하는 문화가 형성되었다. 그러나 구매 전 꾸미기 재료를 미리 조합해 볼 수 없어 실제로 재료를 조합할 때 비용적, 시간적, 자원 소모 측면에서 문제점이 발생하고 있다. 현재 가상 세계가 발전하면서 현실에서 실현하기 어려웠던 것을 시도할 수 있게 되었고, 소비자들도 가상 세계에서 활발하게 교류하고 있다. 본 논문에서는 '메타버스를 활용한 꾸미기 시뮬레이션'을 개발하여 탑로더를 꾸밀 때 발생하는 시행착오를 줄이고 비용을 절감할 방안을 제시한다.
본 논문은 GPS 기술을 이용하여 지상 이동체의 위치 정보를 취득하고, 취득된 위치 정보를 이용하여 지상 이동체에 공공 정보와 상업 정보를 멀티미디어 데이터로 편집하여 실시간으로 제공하는 시스템을 제안하고 설계하였다. 설계한 시스템의 효용성과 신뢰성을 검증하기 위하여 PC와 Visual BASIC, 포토샵을 이용하여 시뮬레이션하였고, CYSTEL INC의 위성 수신기 모듈과 산업보드를 이용하여 제작하였다.
광파이버 네트웍에서 광전믹싱 광검파의 가용 주파수대역 확장을 위한 이론을 제시하고 시뮬레이션을 실시하였다. 광전믹싱 광검파의 정규화 이득을 정의하고, 검파소자의 차단주파수를 초월하는 고주파 영역의 신호도 검파가 가능함을 확인하였다. 포토다이오드 내부의 캐리어 천이에 대한 연속방정식을 풀어서 광전믹싱 현상의 메카니즘을 해석하였다. 정규화 이득은 신호주파수와 차주파수의 크기에 의존하였으나, 포토다이오드에 흐르는 광전류의 크기는 신호주파수와는 무관하였다. 신호 검파효율의 최대화를 위해서는 바이어스 전압과 국부신호의 진폭을 동시에 최적화할 필요가 있다.
The advancement in semiconductor technology is leading toward smaller critical dimension designs and larger wafer manufactures. Due to such phenomena, semiconductor industry is in need of an accurate control of the process. Photolithography is one of the key processes where the pattern of each layer is formed. In this process, precise superposition of the current layer to the previous layer is critical. Therefore overlay parameters of the semiconductor photolithography process is targeted for this research. The complex relationship among the input parameters and the output metrologies is difficult to understand and harder yet to model. Because of the superiority in modeling multi-nonlinear relationships, neural networks is used for the simulator modeling. For training the neural networks, conjugate gradient method is employed. An experiment is performed to evaluate the performance among the proposed neural network simulator, stepwise regression model, and the currently practiced prediction model from the test site.
반도체 제조라인(FAB)은 복잡하고 불확실한 운영환경에서 작동하는 대규모의 제조시스템 중 하나로 반도체 설비 운영을 담당하는 엔지니어들은 직관적이고 신속한 공정 스케줄링을 위해 가중치 기반 스케줄링을 널리 사용하고 있다. 가중치 기반 스케줄링에서 가중치 결정은 FAB 성능에 큰 영향을 미치므로 엔지니어들은 가중치 최적화를 위하여 시뮬레이션 기반 의사결정을 활용할 수 있다. 그러나 대규모 시뮬레이션은 많은 실험 비용을 요구하기 때문에 효과적인 의사결정을 위해서 신중한 실험설계가 요구된다. 본 연구에서는 적은 시뮬레이션 실행 내에서 효율적인 스케줄링을 도출하기 위해 세 가지 샘플링 대안(i.e., Optimal latin hypercube sampling(OLHS), Genetic algorithm(GA), and Decision tree based sequential search (DSS))에 대한 비교연구를 수행하였다. 시뮬레이션 실험을 통해 세 가지 대안이 단일 규칙보다 우수한 성능을 보였고, 그중 GA와 DSS가 최적화를 위한 효과적인 대안이 될 수 있음을 확인하였다.
본 논문에서는 EM 시뮬레이터를 이용하여 LTE2300 대역의 마이크로스트립 라인 대역여파기를 설계하고 시편을 제작하였다. 중심주파수 2300MHz, 대역폭 350MHz, 삽입손실 1.5dB, 감쇄는 1930MHz와 2690MHz에서 15dB 이상, 1000MHz에서 60dB 이상으로 설계하였다. 또한 반사손실은 15dB로 설계하였다. 구현은 유전율 9.8인 알루미나 유전체에서 하였으며, 전송선로와 접지는 silver paste를 사용하였다. EM 시뮬레이션을 통해 얻은 결과값과 이를 통해 실제 제작된 시편의 보정값을 얻어 data base화 하였으며, 좋은 재현성을 얻을 수 있음을 확인하였다. 특히 일반적으로 마이크로스트립 라인 필터의 제작에 적용되는 에칭 또는 포토리소그라피 대신 레이저를 이용하여 패턴을 구현하였으며, 이 또한 우수한 특성과 재현성을 보여주었다.
A computationally efficient and accurate Monte Carlo (MC) simulator of electron beam lithography process, which is named SCNU-EBL, has been developed for semiconductor nanometer pattern design and fabrication. The simulator is composed of a MC simulation model of electron trajectory into solid targets, an Gaussian-beam exposure simulation model, and a development simulation model of photoresist using a string model. Especially for the trajectories of incident electrons into the solid targets, the inner-shell electron scattering of an target atom and its discrete energy loss with an incident electron is efficiently modeled for multi-layer resists and heterogeneous multi-layer targets. The simulator was newly applied to the development profile simulation of ZEP520 positive photoresist for NGL(Next-Generation Lithography). The simulation of ZEP520 for electron-beam nanolithography gave a reasonable agreement with the SEM experiments of ZEP520 photoresist.
본 논문은 저 대기전력의 구현이 가능하며 출력전압을 정확하게 제어할 수 있는 플라이백 컨버터 제어방식을 제안한다. 제안 방식은 모든 절연 형 컨버터에 적용 가능하고, 2차 측에 PFM(Pulse Frequency Modulation) IC를 위치시켜 정확한 출력전압 제어가 가능하다. 또한, 1,2차 측간에 신호 전달을 위하여 기존에 사용되는 TL431과 포토커플러가 아닌 Y-capacitor와 Low-Pass-Filter를 적용하여, 저 대기전력 구현이 가능하다. 제안방식의 타당성을 검증하기 위하여 이론적 해석과 시뮬레이션을 통하여 가능성을 확인하였다.
우리나라의 반도체와 디스플레이 산업의 발전으로 해당 분야에 대한 인력 수급이 더욱 활발해지고 있다. 이에 따라 학부의 반도체 수업에서는 기존의 이론에 최신 기술 동향뿐만 아니라 현장 중심형 실무 인재 양성을 위해 반도체 제작 공정도 심도 있게 다루고 있다. 하지만, 반도체 공정은 클린룸 안에 설치된 장비들과 고가의 재료들이 필요하기 때문에 대규모로 진행되는 학부 교육에서 공정 실습이 제공되기는 어렵다. 이 한계를 극복하기 위해 실제 공정이나 공정 이론을 시각화한 동영상 등이 보조 자료로서 사용되고 있으나, 실습으로 대체할 교보재로서는 부족하다. 본 연구에서는 이론 중심의 학부 교육에 간접적인 반도체 공정 실습을 제공하기 위해 3차원 기반의 가상 클린룸을 구현하고, 반도체 공정에서 가장 많이 사용되는 노광 장비에 대한 시뮬레이터를 구현하여 사진 공정 베이에 설치하였다. 본 연구에서 구현하는 공정 시뮬레이터는 학부 교육에서 다루는 이론을 시각화하는데 중점을 두었으며, 포토 마스크와 실리콘 웨이퍼의 정렬과 노광 공정의 진행 따른 감광제의 국부적 변화를 시각화하였다. 개발된 시뮬레이터는 모바일 기기 등과 같은 저성능의 컴퓨팅 환경에서도 실행될 수 있도록 메모리 사용을 최소화하여 실용성을 극대화 하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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