Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) is the most promising technique in the field of Next Generation Lithography (NGL) expected to be used in the 1x-nm node for High Volume Manufacturing (HVM). But there exits remaining challenges for proper defect control of EUV mask. It was considered development of EUV pellicle for protecting the EUV mask has many obstacles due to high extinction coefficient of EUV wavelength. Recently researchers in the industry of semiconductor argue about the necessity of EUV pellicle and make effort to achieve it. In this paper, we investigated that the relationship between imaging performance and transmittance of EUV pellicle quantitatively. We made in-house EUV pellicle and analyzed its imaging performance of the dependence of pellicle transmittance using Coherent Scattering Microscopy(CSM). The imaging performance of EUV mask with pellicle is affected by its transmittance and we found that the performance of EUV mask improved with higher transmittance pellicle.
EUV (Extreme Ultraviolet) pellicle which protects a mask from contamination became a critical issue for the application of EUV lithography to high-volume manufacturing. However, researches of EUV pellicle are still delayed due to no typical manufacturing methods for large-scale EUV pellicle. In this study, EUV pellicle membrane manufacturing method using not only KOH (potassium hydroxide) wet etching process but also a water bath was suggested for uniform etchant temperature distribution. KOH wet etching rates according to KOH solution concentration and solution temperature were confirmed and proper etch condition was selected. After KOH wet etching condition was set, $5cm{\times}5cm$ SiNx (silicon nitride) pellicle membrane with 80% EUV transmittance was successfully manufactured. Transmittance results showed the feasibility of wet etching method with water bath as a large-scale EUV pellicle manufacturing method.
Pellicle is defined as a thin transparent film stretched over an aluminum (Al) frame that is glued on one side of a photomask. As semiconductor devices are pursuing higher levels of integration and higher resolution patterns, the cleaning of the Al flame surface is becoming a critical step because the contaminants on the Al flame can cause lithography exposure defects on the wafers. In order to remove these contaminants from the Al frame, a highly concentrated nitric acid ($HNO_3$) solution is used. However, it is difficult to fully remove them, which results in an increase in the Al surface roughness. In this paper, the pellicle frame cleaning is investigated using various cleaning solutions. When the mixture of sulfuric acid ($H_2SO_4$), hydrofluoric acid (HF), hydrogen peroxide ($H_2O_2$), and deionized water with ultrasonic is used, a high cleaning efficiency is achieved without $HNO_3$. Thus, this cleaning process is suitable for Al frame cleaning and it can also reduce the use of chemicals.
배경: 콤부차는 동북아시아의 전통적인 발효 음료로, 홍차 추출물을 세균과 효모의 공생 문화와 함께 발효시켜 만들며 다양한 기능성으로 알려져 있다. 최근 건강 및 대체 의학에 대한 관심이 증가함에 따라 항산화, 항염, 항암 효과를 중심으로 한약재의 약리활동에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 목적: 이 연구는 제주도의 한약재 열수 추출물을 첨가하여 발효한 콤부차의 항산화 효과를 평가하고, 이러한 약용 허브 추출물의 활성 성분이 콤부차로의 전이 가능성을 조사하여 콤부차의 기능성을 향상시키는 것을 목표로 한다. 방법: 제주도의 한방재인 오가피, 백수오, 석창포, 질경, 우슬, 방풍, 황금 등이 열수 추출되었다. 이 추출물들은 기본 배양된 콤부차에 첨가되어 이차 발효 과정을 거쳐 한약재가 첨가된 콤부차를 제조하였다. 발효 결과는 발효 후 생성된 펠리클의 형태 및 색상 분석과 총당 및 환원당 수준의 측정을 통해 평가되었다. 항산화 활성은 DPPH 및 ABTS 분석을 사용하여 측정되었으며, 고성능 액체 크로마토그래피(HPLC)는 콤부차 내의 활성 성분, 카테킨 유도체(EGCG) 및 아세토페논 유도체(2,5-DHAP)의 존재를 확인하는 데 사용되었다. 결과: 선택된 7종의 한약재 열수 추출물을 콤부차에 첨가한 결과, 모든 약초 콤부차에서 총당 대비 환원당 수준이 높아 성공적인 발효가 이루어졌음을 나타냈다. DPPH 및 ABTS 분석에서 모두 유의미한 항산화 활동이 관찰되었다. 또한 HPLC와 전기영동 분석을 통해 한약재 추출물로부터 콤부차로의 핵심 활성 성분인 EGCG 및 2,5-DHAP의 전이를 확인했다. 결론: 이 연구는 제주도산 한약재 추출물을 통해 콤부차의 기능성을 향상시킬 수 있는 가능성을 강조한다. 활성 성분의 성공적인 전이는 콤부차의 항산화 및 항염 프로필을 풍부하게 할 뿐만 아니라 건강 및 대체 의학 분야에서 기능성 음료의 개발을 지원하게 될 것이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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