• Title/Summary/Keyword: 초기 압력

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Sintering Behavior and Mechanical Properties of WC-8wt.%Ni Hard Materials by Two Rapid Sintering Processes (고주파 유도가열 소결장치와 펄스전류활성 소결장치에 의해 제조된 WC-8wt.%Ni 초경재료의 소결 거동과 기계적 특성)

  • Jeong In-Gyun;Kim Hwan-Cheol;Son In-Jin;Do Jeong-Man
    • Proceedings of the Korean Powder Metallurgy Institute Conference
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    • 2006.04a
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    • pp.77-78
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    • 2006
  • 급속소결방법인 고주파유도가열 소결법과 펄스전류활성 소결법을 이용하여 습식 볼밀링으로 혼합한 WC-8wt.%Ni분말에 60MPa의 압력과 고주파유도가열장치의 경우 전체 용량 (15kw)의 90%에 해당하는 고주파출력을, 펄스전류활성 소결장치의 경우 2800A의 펄스전류를 가하여 치밀한 소결체를 2분이내의 짧은 시간에 제조하였다. WC 초기입자크기가 증가함에 따라 제조된 소결체의 입자크기와 평균자유행로는 증가하였다. 또한 WC 결정립 크기가 증가함에 따라 경도는 증가하였으며, 파괴인성은 감소함을 알 수 있었다. $0.5{\mu}m$의 분말을 60MPa의 압력하에서 고주파유도가열 소결법에 의해 얻어진 소결체의 파괴인성과 경도는 각각 $1813kg/mm^2$$8.9MPa{\cdot}m^{1/2}$ 이었고, 펄스전류활성 소결법에 의해 제조된 소결체의 경도와 파괴인성은 각각 $1839kg/mm^2$$8.5MPa{\cdot}m^{1/2}$ 이었다.

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The Effect of Processing Variables on Self-Bonding Strength in Amorphous PEEK Films (비정질 PEEK 필름의 Self-Bonding강도에 미치는 제조공정변수의 영향)

  • Jo, Beom-Rae;Kardos, J.L.
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.5 no.2
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    • pp.191-196
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    • 1995
  • Self-bonding strength developed at the interface of amorphous PEEK films is highly sensitive to the processing variables(time, temperature, and pressure) during the bonding process. In order to examine the effects of these processing variables, amorphous PEEK films were bonded at various bonding conditions and the resultant interfacial bond strengths were measured using a modified single lap-shear test. Experimental results showed that the developed self-bonding strength increases with increase in bonding temperature and is directly proportional to the bonding time raised to the 1/4 power. The applied pressure seems only to produce better wetting at the beginning stage of the bonding process. Conclusively, the self-bonding of amorphous PEEK films provides a great potential for developing excellent bond strength approaching the strength of the parent material without any adhesives in structural applications.

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Combustion Characteristics of Full-scale Gas Generator for 30 ton Class Liquid Rocket Engine (30톤급 실물형 가스발생기 연소 특성)

  • Ahn, Kyu-Bok;Seo, Seong-Hyeon;Lim, Byoung-Jik;Kim, Jong-Gyu;Lee, Kwang-Jin;Han, Yeoung-Min;Choi, Hwan-Seok
    • Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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    • 2008.05a
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    • pp.129-132
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    • 2008
  • Combustion characteristics of a gas generator for a 30 ton-class liquid rocket engine were studied. At the early stage of development, the combustion tests of the gas generator were performed by only using the nozzle which substitute for a turbine manifold exit. Then, the extension tube was applied between the gas generator and the nozzle for imitating the resonant mode of gas generator and turbine manifold. Finally, the hot-firing tests were performed on the condition of connecting the gas generator with the turbine manifold. In the paper, the step-by-step results such as temperature distribution and pressure fluctuations were analyzed.

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A Simulated Prediction for Influences of Operating Condition in an Alkaline Fuel Cell

  • Jo Jang-Ho;Yi Sung-Chul
    • Journal of the Korean Electrochemical Society
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    • v.2 no.3
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    • pp.163-170
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    • 1999
  • The effects of the operating conditions in AFC single cells have not been studied in detail. In this study, by using a one-dimensional isothermal model a computational simulation was conducted to investigate the effects of the initial electrolyte concentration and the operating gas pressure. According to the result, the optimum electrolyte concentration at the base-case was found to be within $3.0\~3.5$ M. The variation of the cell performance according to the electrolyte concentration was found to be caused mainly by the charge transfer resistances of both electrodes, Henry's constant and the liquid phase diffusivity of the dissolved gases. It was also found that an increase in operating pressure increased the reaction rates and the solubilities of the gases, which led to a considerable enhancement of the cell performance.

Sputering Pressure and Temperature Effects on Magnetization Reversal Behaviors of $Co(2\AA)/Pd(13\AA)$ Multilayers (스퍼터링압력 및 온도 효과에 의한 $Co(2\AA)/Pd(13\AA)$ 다층박막의 자화반전 거동)

  • 김성봉;정순영
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.6 no.4
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    • pp.199-203
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    • 1996
  • To study the magnetization reversal behavior of Co/Pd multilayers, we first demagnetized the samples by the field-demagnetized method and then measured initial curves and minor loops. The coercivity and the perpendicular magnetic anisotropy were obtained from the perpendicular and parallel magnetization curves measured at different temperatures. We interpret our experimental results by applying several qualitative and semiquantative approaches. From these study, we found that the magnetization reversal behavior is dominated by the domain wall pinning for all samples and the coercivity incremental tendency can be explained by Kronmuller's formula $H_c(T)\;{\propto}\;r_0.K_u$.

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RF Magnetron Sputtering법으로 제작된 비정질 산화물 반도체 IGZO 박막의 특성

  • Jin, Chang-Hyeon;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.338.1-338.1
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    • 2014
  • 비정질 산화물 반도체(Amorphous Oxide Smeiconcuctor)를 이용하여 투명 박막 트랜지스터의 채널층으로 많은 연구가 진행되고 있다. 투명 박막 트랜지스터의 채널층으로 사용되고 있는 IGZO박막은 비정질임에도 불구하고 높은 이동도와 넓은 밴드갭을 갖고 있는 것으로 알려져 있다. 본 연구는 RF magnetron sputtering법으로 유리기판 위에 IGZO박막을 증착시켰으며 소결된 타겟으로는 In:Ga:ZnO를 각각 1:1:2mol%의 조성비로 혼합하여 이용하였으며, $30{\times}30mm$의 XG Glass 유리기판에 sputtering 방식으로 증착하였다. 박막 증착 조건은 초기압력 $3.0{\times}10^{-6}Torr$, 증착 압력 20mTorr, 반응가스 Ar 25sccm, 공정 변수로는 RF Power 25W, 50W, 75W, 100W 각각 변화를 주어 실험을 진행 하였으며, 증착온도는 실온으로 고정 하였다. 분석 결과로 RF Power 25W 일 때 XRD 분석결과 Bragg's 법칙을 만족하는 피크가 나타나지 않는 비정질 구조임을 확인하였으며, AFM 분석결과 0.5 mm 이하의 Roughness를 가졌다. UV-Visible-NIR 측정 결과 가시광선 영역에서 87%이상의 투과도를 나타냈으며, Hall 측정 결과 Carrier concentration $3.31{\times}10^{19}$, Mobility $10.9cm^2/V.s$, Resistivity $1.8{\times}10^{-2}$, 투명 박막 트랜지스터의 채널층으로 사용 가능함을 확인 할 수 있었다.

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Characteristics of Hollow Cathode Gas Flow Sputtering Source (할로방전 스퍼터링 소스의 특성)

  • Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun;Kim, Seong-Hwan;Byeon, In-Seop
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2017.05a
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    • pp.92.2-92.2
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    • 2017
  • 스퍼터링은 이온화된 불활성 기체가 음의 전압이 인가된 타겟에 충돌하여 운동량 전달에 의해 타겟 물질을 떼어내어 기판에 박막을 형성하는 진공증착 기술의 하나이다. 스퍼터링은 초기에 이극 또는 삼극 스퍼터링이 사용되다가 1970년대에 마그네트론 스퍼터링이 등장하면서 고속화 및 박막의 특성향상이 이루어졌으며 현재 스퍼터링 기술의 표준으로 자리를 잡았다. 마그네트론 스퍼터링은 그러나 타겟 효율이 30%내외로 낮고 여전히 다른 증착 기술에 비해 증발율이 낮다는 단점이 지적되고 있으며 이를 극복하기 위한 많은 연구가 진행되어 왔다. 증발율을 향상시키고 타겟 효율을 향상시킬 수 있는 방안의 하나로 HC-GFS(Hollow Cathode - Gas Flow Sputtering) 소스가 연구되어 왔다. GFS란 증기가 발생하는 부분과 증착이 이루어지는 부분의 진공도를 변화시켜 압력차에 의해 증기가 이송되어 증착되는 기술을 의미하며 HC-GFS는 타겟과 타겟 사이에 할로 방전을 발생시켜 이때 발생된 플라즈마로 타겟의 물질을 스퍼터링하고 스퍼터링된 입자를 압력차로 이송하여 기판에 증착하는 기술이다. HC-GSF 소스는 증발율이 향상되고 타겟 효율이 높다는 점에서 많은 관심을 가졌으나 아직까지 상용화 실적은 미미한 상황이다. 본 연구에서는 HC-GFS 소스를 제작하고 그 특성을 평가하였으며 금속을 증착하여 상용 증발원으로써의 가능성을 검토하고자 하였다.

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Study on the Profile of Nut Bearing Surface and the Torque Coefficient of a High Strength Bolt Set (고장력 볼트세트의 자리면형상과 토크계수에 관한 연구)

  • Lee, Baek Joon;Sohn, Seung Yo
    • Journal of Korean Society of Steel Construction
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    • v.12 no.2 s.45
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    • pp.143-150
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    • 2000
  • Depending upon the combination of tolerances specified in the standards on bolt, nut and washer for high tension bolt sets, there arises center-to-center deviation between bolt and washer. This deviation nay cause loss of effective contact area between nut- and washer-faces, which leads to some dispersion of the torque coefficient K. By adapting circular arc surface instead of flat surface for the nut, it is shown through numerical analyses that the dispersion of the torque coefficient can be minimized. In this way, optimum radius of curvature of the nut bearing surface is proposed.

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RF 마그네트론 스퍼터링법으로 제작된 IGZO 박막의RF Power에 따른 특성

  • ;Hwang, Chang-Su;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.364-364
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    • 2012
  • 평판 디스플레이 분야에 투명 비정질 산화물 반도체는 박막 트렌지스터(Thin film transistor; TFT)소자의 채널층으로 사용할 수 있다. 투명 비정질 산화물 반도체 IGZO (In-Ga-Zn-O)는 다른 비정질 재료에 비해 높은 전하 이동도를 가지기 때문에 우수한 성능의 TFT소자를 제작할 수 있다. 본 연구에서는 RF magnetron sputtering법으로 corning 1737 유리기판 위에 RF 파워의 변화에 따라 증착한 IGZO박막의 광학적 전기적 특성 변화를 연구하였다. 박막 증착 조건은 초기 압력 $2.0{\times}10^{-6}Torr$, 증착 압력 $2.0{\times}10^{-2}Torr$, 반응가스 Ar 25 sccm, 증착 온도는 실온으로 고정하였으며, 공정변수로 RF 파워를 25 w, 50 w, 75 w, 100 w로 변화시키며, IGZO 타겟은 $In_2O_3$, $Ga_2O_3$, ZnO 분말을 각각 1 : 1 : 2mol% 조성비로 혼합하여 소결한 타겟을 사용하였다. 표면분석(AFM)결과 RF 파워가 증가함에 따라 거칠기가 증가하였으며, XRD 분석결과 Bragg's 법칙을 만족하는 피크가 나타나지 않는 비정질 구조임을 확인할 수 있었다. 가시광 영역에서 (450~700 nm) 25 w일 때 85% 이상을 확인하였고, RF 파워가 증가할수록 밴드갭이 감소하는 것을 확인하였다. RF 파워가 100 w인 경우 carrier 밀도는 $7.7{\times}10^{19}cm^{-3}$, Mobility $8.42cm^2V-s$, Resistivity $9.45{\times}10^{-3}{\Omega}-cm$로 투명 전도막의 특성을 보였다.

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Study on Optical and Electrical Properties of IGZO Thin Film According to RF Power Fabricated by RF Magnetron Sputtering

  • ;Hwang, Chang-Su;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.234-234
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    • 2011
  • IGZO 투명 전도 박막은 TFT-LCD에 사용되는 투명 전도성 산화물 박막으로서 다양한 광전자 소자의 투명 전극으로 널리 사용되고 있다. 본 연구에서는 RF magnetron sputtering법으로 corning 1737 유리기판 위에 RF 파워의 변화에 따라 증착한 IGZO박막의 광학적 전기적 특성 변화를 연구하였다. 박막 증착 조건은 초기 압력 $2.0{\times}10^{-6}$ Torr, 증착 압력 $2.0{\times}10^{-2}$ Torr, 반응가스 Ar 50 sccm, 증착 온도는 실온으로 고정하였으며, 공정변수로 RF 파워를 25 w, 50 w, 75 w, 100 w로 변화시키며, IGZO 타겟은 $In_2O_3$, $Ga_2O_3$, ZnO 분말을 각각 1 : 1 : 2 mol% 조성비로 혼합하여 소결한 타겟을 사용하였다. 표면분석(AFM)결과 RF 파워가 증가함에 따라 거칠기가 증가하였으며, XRD 분석결과 Bragg's 법칙을 만족하는 피크가 나타나지 않는 비정질 구조임을 확인할 수 있었다. 가시광 영역에서 (450 nm~700 nm) 25 w일 때 85% 이상을 확인하였고, RF 파워가 증가할수록 밴드갭이 감소하는 것을 확인하였다. RF 파워가 100 w인 경우 carrier 밀도는 $7.0{\times}10^{19}\;cm^{-3}$, Mobility 13.4 $cm^2$/V-s, Resistivity $6.0{\times}10^{-3}\;{\Omega}-cm$로 투명전도막의 특성을 보였다.

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