• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.10 no.1
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• pp.93-97
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• 2001

We introduce the structure and the capability of a UHV x-ray scattering system constructed for surface structural studies. The system consists of vacuum parts required for surface preparation and a vertical-horizontal diffractometer using the S2D2 geometry. To illustrate the capability of the system, we measured the 7$\times$7 reconstruction peak of a Si (111) surface. The peak count rate was 216 counts/sec and the domain size of the 7$\times$7 reconstruction was larger than 1600 $\AA$. This demonstrates that the system is capable of providing surface structural information.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.08a
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• pp.105.1-105.1
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• 2013

Schottky Emitter (SE)는 미국 FEI의 L. W. Swanson 그룹이 개발하여 상용화시킨 전자원이며, 고분해능 전자현미경용 전자원 시장에서 가장 큰 점유율을 차지하고 있다. 상온에서 작동하는 cold field emitter (CFE)에 비해 휘도(brightness)가 10~100배 정도 낮으나, 10-10 Torr 영역의 초고진공에서도 수시간 미만의 방출전류 안정성을 가진 CFE에 비해 수개월이상 안정된 방출전류를 전자현미경에 제공하므로, 반도체 측정, 검사 등과 같이 고분해능과 안정성이 동시에 요구되는 분야에서는 SE전자원은 필수 요소가 되어있다. 현재 SE 전자원은 일본, 미국, 영국의 4개사가 과점하고 있는 상태이다. SE 전자원이 안정되게 작동하기 위해서는 10~10 Torr 영역의 초고진공 환경이 요구된다. 한국 전자현미경 업체는 국책과제 등을 통해 SE 전자총을 개발해 왔으나, 진공기술과 광학계 설계기술이 부족하여 안정된 SE 전자총의 개발에 성공하지 못하였다. 본 발표에서는 10~10 Torr 영역에서 200 microA 이상의 전류를 안정되게 방출하는 SE 전자총의 전자빔 방출 및 진공특성을 보고한다. 시뮬레이션을 통해 구한 전차총의 전자원 위치 변화, 건렌즈 초점거리, 수차 등의 광학특성을 보여준다. 전자총을 전자현미경 경통에 탑재하고 제어하기 위해서는 전자총뿐만 아니라 전자현미경 전체의 광학특성을 이해할 필요가 있다. 전자총을 현미경에 통합 제어하기 위한 기술과제에 대해서도 간략히 보고한다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.4 no.3
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• pp.238-246
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• 1995

대기, 고진공, 초고진공 등 다양한 압력 조건에서 STS 합금 표면의 오염상태를 AES 측정을 통해 살펴보았다. 모든 환경에서 노출 초기에 많은 오염이 이루어지며, 시간이 증가함에 따라 오염 속도는 감소하지만 지속적인 오염이 이루어지는 것을 볼 수 있었다. 오염층의 구조는 표면 위에 산소, 그 위에 Co,그리고 그 위에 탄소가 놓여 있는 층별 구조 형태로 나타났다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.43-43
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• 2000

당사는 (주)포스콘 진공 사업 부분이 분사하여 1999년 1월 진공 장비 및 제어계측 분야 독립 법인체를 설립하였으며 당사의 주력 제품은 초고진공용 Ion pump 및 controller로서 국산화 개발하여 생산 판매하고 있다. Ion pump 와 controller는 10-4 ~ 10-10 Torr 범위의 초고진공으로 진공 시스템을 배기할 수 있는 장비로서 무소음, 무진동, 저전력의 특성을 가진 초정밀, 초청정 진공 실험에 없어서는 안 될 펌프이다. 현재 당사는 과학기술부의 특정연구개발 과제를 극고진공(XHV)용 Ion Pump를 개발하고 있는 중이다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.15 no.3
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• pp.231-240
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• 2006

The paper reviews the development of ion pumps, their operating principles and describes particular designs. The performance of ion pumps when used for various gases, their range of operation and fields of application are discussed.

• Journal of Welding and Joining
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• v.13 no.1
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• pp.73-77
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• 1995

이 글에서는 챔버의 용접에 대해서 기술하였다. 전자빔용접에 의하여 누설률이 1*$10^{-10}$ torr.1/sec 이하로 목표값을 만족하기 때문에 초고진공에 적합한 용접법이다. 챔버는 용접부에 trench 구조를 가져야 진공용접을 하는데 보다 효과적이다. 이것은 지금까지 전자빔 용접에서 시험되지 않은 것이기 때문에 향후 보다 많은 연구가 있으리라고 본다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.4 no.3
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• pp.231-237
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• 1995

알루미늄 합금 진공챔버를 제작할 때 따르는 기밀 기술을 용접과 플랜지 이음 측면에서 해설하였다. 알루미늄 합금 재료 특성의 유리한 점 때문에 진공챔버로서의 그 사용이 증가하고 있으나, 챔버나 부품들을 제작할 때에 용접과 플랜지 이음에 상대적인 어려움이 있다. 진공 용접은 주로 TIG용접이며, 용접시에 가상누설을 최소화 하고 균열 방지를 위한 용접설계와 시공조건을 고려하는 것이 중요하다. 플랜지 이음에서는 알루미늄 콘플랫형과 금속오링을 사용하는 플랜지에 대하여 소개하였다. 이러한 기술은 앞으로 핵융합장치, 플라즈마 실험장치, 반도체 제조장비, 일반 초고진공장치에 응용될 것이다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.08a
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• pp.122.1-122.1
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• 2013

이온펌프는 초고진공을 요구하는 거대진공 시설에 필수적인 장비이다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2016.02a
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• pp.81-81
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• 2016

극고진공 장치와 대형 초진공 시스템에서 원하는 진공도를 합리적으로 얻기 위해서는 진공 재료의 기체방출률을 줄이는 것이 가장 효과적이다. 이 때문에 기능성 피막 처리, 고온 탈기체 처리와 같은 방법이 적용되고 있다. 스테인리스강은 표면에 치밀한 크롬 산화막을 만들거나 재료의 기체 함유량을 줄이는 방법을 사용한다. 알루미늄합금 강은 특수처리로 표면에 알루미늄 산화막을 형성함으로써 기체방출률을 낮추고 있다. 이 발표에서는 스테인리스강을 비교적 낮은 온도에서 처리하여 매우 낮은 기체방출률을 얻는 노력에 대하여 보고한다. 알루미늄합금에 대해서는 특수압출과 내 표면 거울처리 하는 방법에 대하여 설명한다. 또한, 연강과 같은 금속재료의 기체방출률 측정 결과를 제작 공정으로 설명한다. 한편, 지정한 시간 내에 목표 진공도를 얻는 것과 최소 배기속도를 선택하고 적절히 배분하는 것도 매우 중요하다. 작고 가벼운 게터 펌프와 이온펌프의 조합으로 이를 해결하는 노력, 이온펌프의 최적화 연구에 대하여 보고하고자 한다.

• Vacuum Magazine
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• v.3 no.4
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• pp.14-18
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• 2016

In this article, we will summarize recent advances in ultrahigh vacuum (UHV) low-temperature scanning tunneling microscopy (STM) during the last decade. Leading STM groups have finished or are constructing UHV milli-Kelvin high magnetic field STM capable of a few tens of milli-Kelvin and ~ 10 tesla. Applications with UHV sub-Kelvin high magnetic STM have been increased since mid-2000's. Active research using UHV low temperature tuning fork atomic force microscopes and UHV photon low-temperature scanning tunneling microscopes will be introduced. Considering these advances of UHV low-temperature STM we will discuss next trend in STM in the near future.