Modeling of plasma etch process using genetic algorithm optimization of neural network initial weights (유전자 알고리즘-응용 역전파 신경망 웨이트 최적화 기법을 이용한 플라즈마 식각 공정 모델링)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 2004.11a
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- pp.272-275
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- 2004