• Title/Summary/Keyword: 접촉 면적

Search Result 356, Processing Time 0.031 seconds

LFC 태양전지에서 접촉 면적 가변을 통한 전지 효율 변화 분석

  • Lee, Won-Baek;Lee, Yong-U;Jeong, Seong-Uk;Jang, Gyeong-Su;Park, Hyeong-Sik;Lee, Jun-Sin
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2010.02a
    • /
    • pp.300-300
    • /
    • 2010
  • 후면 패시베이션, back contact의 가변, 후면 접촉면적의 가변 등으로 Laser Fired Contact 태양전지의 효율을 증가 시킬 수 있다. 이 중 spacing의 가변으로 후면 접촉 면적을 가변 할 수 있으며, 이로 인하여 LFC 태양 전지의 효율을 높일 수 있을 것으로 전망된다. 본 연구에서는 후면 접촉 면적을 가변하였으며 이에 따른 효과를 확인하였다. series resistance가 작고, open circuit voltage 가 높은 최적의 조건을 찾는 것에 그 목적을 두었다. 실험 순서는 texturing 후, 후면에 SiNx를 10nm 증착하였으며, drive-in 방법으로 $POCl_3$을 도핑하였다. ARC후, spacing 조건 가변으로 접촉 면적을 가변시키면서 소자의 특성 변화를 비교하였다. 접촉 면적 및 spacing 조건은 5개의 set에 대하여 reference, 50%의 접촉 면적을 가지는 $150{\mu}m$ line, 10%의 접촉 면적을 가지는 $700{\mu}m$ line, 1%의 접촉 면적을 가지는 $700{\mu}m$ dot, 그리고 0.2%의 접촉 면적을 가지는 $1500{\mu}m$ dot으로 하였다. 각각의 경우에 대한 short circuit current density, fill factor, seris resistance, sheet resistance, open circuit voltage를 측정하였으며, 특히 series resistance는 각각의 경우에 대하여 $6.1m{\Omega}$, $5.1m{\Omega}$, $7.8m{\Omega}$, $10.1m{\Omega}$, 그리고 $15.7m{\Omega}$으로 측정되었다. wafer의 외각 테두리를 접촉 면적이 증가함에 따라서 sheet resistance가 증가하는 것을 확인 할 수 있었다.

  • PDF

Temperature Measurement of the Contact Surface by Using the Hot Spot (Hotspa을 이용한 접촉표면의 온도측정)

  • 정동윤
    • Proceedings of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers Conference
    • /
    • 1992.11a
    • /
    • pp.50-56
    • /
    • 1992
  • 공업재료의 표면은 수많은 돌기들로 구성되어 있으며 이러한 돌기들의 접촉으로 진실접촉이 이루어진다. 그러므로 마찰은 겉보기 접촉면적과는 무관하며 진실접촉면에서 일어난다. 표면의 한 돌기가 접촉면과 상대운동을 함으로 인하여 마찰열이 발생된다. 이러한 마찰에너지 발산의 결과로서 진실접촉면적 주위의 국부적인 표면 온도가 상승되며 따라서 표면의 평균온도가 상승된다. 이러한 표면온도를 결정하기 위한 이론적 및 실험적인 방법이 많이 제시되어왔다. 정적상태에서의 표면온도는 Block(1937)과 Jaeger(1942)에 의해 이론적으로 소개하였다. Jaeger는 열원의 위치와 상대적인 접촉운동 그리고 크기 및 경계조건 등의 특정한 조건 하에서 진실접촉점의 온도를 계산하였다. 이에 Bany와 Baber(1984)는 그들의 경계조건이 잘목 정의되었음을 지적하고 더욱 세분화된 경계조건으로 온도분포를 유도한 바 있다. Ling(1969)은 접촉점에서의 온도가 주변의 겉보기 접촉면적의 온도보다 훨씬 높다는 것을 수치해석으로 밝혀냈다. 본 연구는 고속정밀촬영기를 이용하여 진실접촉점에서 발생하는 Hot spot의 온도분포를 실험을 통하여 규명하고 그 결과를 Geoim과 Winer의 이론식에 적용하므로 식의 유용성을 검증하는데 그 목적이 있다.

  • PDF

Relation of head posture and occlusal contact area using photo occlusion analysis (광조사교합분석법을 이용한 머리 위치와 교합접촉면적의 관계)

  • Kim, Chang-Hwan;Ko, Kyung-Ho;Huh, Yoon-Hyuk;Cho, Lee-Ra;Park, Chan-Jin
    • Journal of Dental Rehabilitation and Applied Science
    • /
    • v.35 no.2
    • /
    • pp.90-97
    • /
    • 2019
  • Purpose: Previous studies related with occlusal contact area were limited that interocclusal thickness level or the method of measurement has not been accurate in measuring. The purpose of this study was to investigate the relation between head posture and occlusal contact area using photo occlusion analysis. Materials and Methods: 54 subjects with complete dentition (44 men, 10 women / 23 to 33 years of age) were included. To identify the relationship between head posture and occlusal contact area, subjects took interocclusal record in maximal intercuspal position with three different positions(supine position ($0^{\circ}$) / inclined position ($45^{\circ}$) / upright position ($90^{\circ}$)) on the dental unit chair. Occlusal contact area was analyzed using photo occlusion analysis. Statistical analyses were performed with SPSS ver.25.0 at 95% confidence interval. Results: Head posture has no significant effect on the changes of occlusal contact area (P > 0.05). Conclusion: When interocclusal relation is stable, head posture does not change a interocclusal record because head posture has no significant effect on occlusal contact area. Analysis of occlusal contact area using photo occlsion analysis device is useful due to its material property and simplicity.

Analysis of Occlusal Contacts Using Add-picture Method (Add-picture 방법을 이용한 교합접촉점 분석)

  • Park, Ko-Woon;Cho, Lee-Ra;Kim, Dae-Gon;Park, Chan-Jin
    • Journal of Dental Rehabilitation and Applied Science
    • /
    • v.29 no.1
    • /
    • pp.45-58
    • /
    • 2013
  • The purpose of this study was to analyze the area of occlusal contact points using visual method. One subject was selected who had Angle Class I, normal dentition, without dental caries, periodontal disease and temporomandibular disorders. Forty times PVS impressions were taken and 10 pairs casts were fabricated using dental super hard stone. After mounting the casts with customized loading apparatus, 78.9kg/f force was loaded as a maximum biting force. In T-Scan method, occlusal contact points measurement was repeated twice. Then, using Photoshop program (Adobe photoshop CS3, Adobe. San Jose, USA), the pixels which indicated occlusal contact points by color was recognized, and the distribution of recognized pixels were calculated to area. In Add picture method, polyether bite material applied to the occlusal surface of the casts. Then, the image of the translucent areas was recorded and classified $0{\sim}10{\mu}m$, $0{\sim}30{\mu}m$, $0{\sim}60{\mu}m$ area by the amount of transmitted light. To acquire occlusal surface, the numbers of pixels from the photograph of the contact area indicated cast converted to $mm^2$. The mean occlusal contact area by two methods was statistically analyzed (paired t-test). Part of the red and pink area in T-Scan image were almost equivalent to the $0{\sim}10{\mu}m$, $0{\sim}30{\mu}m$, $0{\sim}60{\mu}m$ area in Add picture image. The distribution of occlusal contact points were similar, but the average area of occlusal contact points was wider in T-scan image (P<.05). Pink and red area in T-scan image was wider than $0{\sim}10{\mu}m$, $0{\sim}30{\mu}m$ area in Add picture image (P<.05), but similar to $0{\sim}60{\mu}m$area in Add picture image (P>.05). Occlusal contact points in T-scan image did not indicate real occlusal contact points. Occlusal contact areas in T-scan method were enlarged results comparing with those in Add picture method.

Three Dimensional Visualization of Contact Region for a Protein Complex (단백질 복합체를 위한 접촉 영역의 3차원 가시화)

  • Kang, Beom Sik;Kim, Ku-Jin;Kim, Yukyeong
    • KIPS Transactions on Software and Data Engineering
    • /
    • v.2 no.12
    • /
    • pp.899-902
    • /
    • 2013
  • In this paper, we present a method to visualize the contact region between two molecules in a protein complex in a threedimensional space. The contact region of two molecules shows compatibility in geometric aspects. Usually, the computation of the area of contact region has been used to show the strength of compatibility. The numerical value and simple drawing of contact region would be useful for comparing the relative strength of different contacts, but it is not appropriate for analysing the geometric characteristics of the contact region. In this paper, we present a method to show the compatibility between two molecules by visualizing the distance information between them.

Thermal Contact Resistance of Two Bodies in Contact (접촉하는 두 물체 사이의 접촉 열저항)

  • Kwak Hong Sup;Jeong Jae Tack
    • Journal of computational fluids engineering
    • /
    • v.9 no.3
    • /
    • pp.66-72
    • /
    • 2004
  • 전도 열전달 분야에서 두 물체가 접해 있는 경우, 접촉 열저항은 고려해야 할 중요한 요소이다. 특히 최근에는 전자부품의 과열방지를 위한 열 소산과 관련하여 접촉 열저항 문제는 중요하게 대두되고 있으며 이에 관련한 많은 이론적 연구와 응용연구가 수행되고 있다. 접촉 열저항은 주로 거친 두 물체표면의 불완전접촉에 기인한다. 본 연구에서는, 접촉하는 두 물체사이의 접촉면을 이상화시킨 비교적 간단한 문제를 이론적으로 해석함으로써 접촉면의 틈새 형상 및 비접촉면적비(비접촉면적/외관접촉면적)의 크기에 따른 접촉 열저항의 크기를 구하였다.

AgxO/Ag를 이용한 ZnO 쇼트키 접촉 특성 연구

  • Lee, Cho-Eun;Lee, Yeong-Min;Lee, Jin-Yong;Jeong, Ui-Wan;Sim, Eun-Hui;Gang, Myeong-Gi;Heo, Seong-Eun;No, Ga-Hyeon;Hong, Seung-Su;Kim, Du-Su;Kim, Deuk-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2012.02a
    • /
    • pp.393-393
    • /
    • 2012
  • 본 연구에서는 고결정성을 갖는 ZnO 박막을 제작 후, 큰 일함수를 갖는 AgxO/Ag접촉을 통하여 ZnO 쇼트키 접촉 특성을 분석하였다. ZnO 박막은 사파이어 기판 위에 r.f. 마그네트론 스퍼터링법으로 $400{\sim}600^{\circ}C$의 온도구간에서 Ar과 $O_2$가스의 분압비를 달리하여 성장하였다. 이 때 성장온도 $600^{\circ}C$, 가스 분압비는 Ar : $O_2$ = 15 sccm : 30 sccm 에서 성장된 박막에서 양질의 고결정성 ZnO 박막을 확인하였다. 이 후 성장된 박막에 접촉 면적을 달리하여 dc 마그네트론 스퍼터링법과 lift-off photolithography법으로 AgxO/Ag접촉을 제작하고 쇼트키 접촉특성을 확인하였다. 전류-전압 특성을 확인한 결과 모든 시료에서 정류 특성을 확인하였으며, 접촉면적의 변화에도 쇼트키 장벽의 높이는 일정한 반면 이상지수는 향상되는 경향을 나타내었다. 따라서 본 연구에서는 AgxO/Ag를 이용한 ZnO 쇼트키 접촉면적에 따른 정류특성 및 장벽높이와 이상지수의 상관관계에 대하여 보고한다.

  • PDF

Silicone/Pu 처리한 폴리에스테르/면 교직물 표면특성의 측정기법 비교

  • 이선영;홍경희;박연규;강대임
    • Proceedings of the Korean Society for Emotion and Sensibility Conference
    • /
    • 1999.03a
    • /
    • pp.49-55
    • /
    • 1999
  • 본 연구에서는 표면처리를 달리한 폴리에스테르/면 교직물에 대한 표면특성의 측정기법을 비교·검토하였다. 시료로는 미처리 직물과 silicone 처리 직물, pu 코팅직물, silicone/pu 처리 직물을 이용하였다. 측정 기법은 비접촉식 방법으로 위치에 따른 직물 표면잔털의 grey scale을 FFT하여 그 대수값의 관계식의 기울기값을 결정하였다. 또한, 레이저 변위센서를 이용한 촉각 측정 장치에 의해 표면 거칠기와 표면마찰 계수를 측정하였다. 접촉식 방법으로는 평판과 직물을 접촉시켜 영상처리에 의해 접촉면적을 정량하고 fractal 차원을 도출하였다. KES-FB system에 의해 표면특성을 측정하였다. 주관적 접촉감각 평가는 표준환경에서 20명의 여성을 대상으로 실시하였고 분석에 ANOVA와 상관분석을 이용하였다. 측정기법에 따른 표면특성치와 주관적 감각평가치의 상관분석 결과, 접촉식 방법인 KES-FB에 의한 방법보다 다른 접촉식 방법인 영상처리에 의한 접촉면적, fractal 차원과 비접촉식 방법인 FFT 분석에 의한 기울기 및 레이저 변위센서에 의한 표면거칠기 결과가 주관적 접촉감각과 더욱 밀접한 관련이 있는 것으로 나타나 접촉 감각을 객관화하는데 보다 타당한 것으로 나타났다.

  • PDF

Effects of Specific Surface Area of RuO2 on the Electrical Properties of Thick Film Resistors (RuO2의 비표면적 변화가 후막저항체의 전기적 성질에 미치는 영향)

  • 이영규
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
    • /
    • v.1 no.1
    • /
    • pp.41-50
    • /
    • 1994
  • RuO2 분말의 비표면적이 후막저항체의 전기적 특성에 미치는 영향을 규명하기 위하 여 비표면적이 서로다른 RuO2 분말을 이용하여 RuO2 함량을 다양하게 후막저항을 형성하 고 그들의 전기적 특성을 저항체 막의 미세조직과 관련하여 고찰하였다. 그 결과 후막저항 체의 전기적 특성은 소성과정에서 RuO2 의 비표면적과 함량에 따라 도전통로를 통하여 발 달하여 소결접촉과 비소결접촉의 수와 그 비에 크게 의존함을 확인하였다.

A Non-contact Precision Measurement of Radiometric Aperture Area by Gaussian Beam Superposition (가우스 광속의 중첩을 이용한 복사계용 구멍 면적의 비접촉 정밀측정)

  • 강창호;박승남;김석원
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
    • /
    • 2003.02a
    • /
    • pp.284-285
    • /
    • 2003
  • 극저온복사계로부터 출발하여 광도의 기본 단위인 칸델라(Candela) 눈금은 물론 복사조도(irradiance), 조명도(illuminance)와 같은 유도 단위를 실현하기 위해서는 검출기의 시야를 한정하는 구멍의 면적을 측정하는 기술이 매우 중요하다. 구멍의 면적을 측정하는 한가지 방법은 탐촉자를 물리적으로 접촉시켜서 구멍의 가장자리를 결정하고, 구멍의 기하학적 모양을 가정하여 면적을 계산하는 것이다. (중략)

  • PDF