• 제목/요약/키워드: 전압 정재비

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On-Chip Design-for-Testability Circuit for RF System-On-Chip Applications (고주파 시스템 온 칩 응용을 위한 온 칩 검사 대응 설계 회로)

  • Ryu, Jee-Youl;Noh, Seok-Ho
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • 제15권3호
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    • pp.632-638
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    • 2011
  • This paper presents on-chip Design-for-Testability (DFT) circuit for radio frequency System-on-Chip (SoC) applications. The proposed circuit measures functional specifications of RF integrated circuits such as input impedance, gain, noise figure, input voltage standing wave ratio (VSWRin) and output signal-to-noise ratio (SNRout) without any expensive external equipment. The RF DFT scheme is based on developed theoretical expressions that produce the actual RF device specifications by output DC voltages from the DFT chip. The proposed DFT showed deviation of less than 2% as compared to expensive external equipment measurement. It is expected that this circuit can save marginally failing chips in the production testing as well as in the RF system; hence, saving tremendous amount of revenue for unnecessary device replacements.

Evaluation of Errors of Electronic Voltage Transformer using Two Standard Voltage Transformers (표준전압변성기 두 대를 이용한 전자식 전압변성기의 오차 평가)

  • Han, Sang-Gil;Kim, Yoon-Hyoung;Jung, Jae-Kap;Kang, Jeon-Hong;Lee, Sang-Hwa;Han, Sang-Ok
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 대한전기학회 2008년도 추계학술대회 논문집 전기설비전문위원
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    • pp.64-66
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    • 2008
  • 현재 전압변성기는 기존의 철심형 전압변성기에서 전자식전압변성기로 변화하고 있으며, 전자식 전압변성기의 비오차와 위상각 오차를 정확하게 평가하는 것은 전자식 전압변성기의 보급에 중요하다. 표준전압변성기 두 대와 전압변성기 비교기를 이용하여 22 kV급 전자식 전압변성기의 비오차와 위상각 오차를 평가할 수 있는 시스템을 구축하였으며, 시스템의 불확도를 분석하였다.

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대출력 엑사이머 레이저의 개발

  • 최부연;정재근;이주희
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 한국광학회 1988년도 광학 및 양자전자학 워크샵
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    • pp.17-25
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    • 1988
  • 방전여기 엑사이머 레이저의 방전특성을 해석하기 위하여 레이저 발진 장치를 개발, 실험을 하였다. 실험결과 가스혼합비 Kr/F2/He=4/0.2/05.8%, 총기압 2기압, 가압전압 30kV에서 최대출력 80mj, 가압 전압 20kV에서 최대효율 0.5%를 얻었다. 또한 대출력, 고효율화를 위하여 실험조건과 동일하게 방전특성을 해석한 결과 레이저 방전관 부의 저항값과 인덕턴스가 적을수록 레이저 방전관에 입력하는 에너지가 커지므로 이들의 값을 적게 히여야만 대축력 꾀할 수 있음을 알 수 있었다.

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The development of Stack voltage monitor controller for FCEV (연료전지차량용 스택 전압 측정 제어기 모듈 개발)

  • Jung, Jaewook;Park, Hyunseok;Jeon, Ywunseok
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2010년도 추계학술대회 초록집
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    • pp.79.2-79.2
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    • 2010
  • FCEV(Fuel Cell Electric Vehicle)는 연료전지스택의 각 셀에서 반응하는 화학에너지를 전기에너지로 변환하여 차량을 구동하는 시스템이다. 이러한 연료전지 셀이 정상적인 발전이 되지 않을 경우 비정상적인 전압이 발전되고 이것을 방치한다면 연료전지 스택의 영구적인 고장을 야기할 수 있다. 이를 방지하기 위해 SVM(Stack Voltage monitor) 제어기는 각 셀의 전압을 측정하고 그 정보를 상위 제어기인 FCU(Fuel cell Control Unit)에 전달한다. 이에 FCU는 연료전지스택의 고장을 운전자에게 알리고 연료전지스택의 발전을 멈추게 한다. 기존에 SVM 제어기는 각 셀마다 분압저항을 통하여 측정하며 이 전압의 차를 이용하여 셀 전압을 계산하는 방식이었다. 이는 상위 셀로 갈수록 오차가 커지는 문제가 있고 다수의 CPU 및 DC/DC 컨버터가 적용이 필요하여 복잡한 구성과 가격이 높은 문제가 있었다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 cell monitoring IC를 적용하였고 좀 더 정밀한 측정과 간단한 인터페이스를 구성할 수 있었다. 본 연구에서는 기존 SVM 제어기보다 안정되고 정밀한 SVM 제어기의 개발에 대해 기술하였다.

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Characteristics Analysis of 2-stage Power Converter for LED Drive with the Variation of Filter Capacitor and Transformer Turn Ratio (LED 구동용 2단 전력변환장치의 필터커패시터와 변압기 권선비 변화에 따른 특성 분석)

  • Hong, J.P.;Park, H.Y.;Jung, J.H.;Nho, E.C.;Kim, I.D.;Kim, H.G.;Chun, T.W.
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 전력전자학회 2012년도 전력전자학술대회 논문집
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    • pp.429-430
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    • 2012
  • 본 논문에서는 LED 구동용 전원장치의 필터커패시터와 변압기 권선비에 따른 MOSFET의 전압 정격 및 스위칭 손실 특성 등을 다루었다. 스위칭 손실을 최소화 하려면 변압기 권선비를 최적화할 필요가 있다. 또한 필터커패시터 값이 MOSFET의 전압정격에 영향을 미치므로 이를 고려한 설계가 필요함을 확인하였다.

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Effect of Substrate Bias Voltage on DLC Films Prepared by ECR-PECVD (ECR-PECVD 방법으로 제작된 DLC 박막의 기판 Bias 전압 효과)

  • 손영호;정우철;정재인;박노길;김인수;김기홍;배인호
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • 제9권4호
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    • pp.328-334
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    • 2000
  • DLC (Diamond-Like Carbon) films were deposited by ECR-PECVD (electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition) method with the variation of substrate bias voltage under the others are constant except it. We have investigated the ion bombardment effect induced by the substrate bias voltage on films during the deposition of film. The characteristics of the film were analyzed using the Dektak surface profiler, SEM, FTIR spectroscopy, Raman spectroscopy and Nano Indentation tester. FTIR spectroscopy analysis shows that the amount of dehydrogenation in films was increased with the increase of substrate bias voltage and films thickness was decreased. Raman scattering analysis shows that integrated intensity ratio $(I_D /I_G)$ of the D and G peak was increased as the substrate bias voltage increased, and films hardness was increased. From these results, it can be concluded that films deposited at this experimental have the enhanced characteristics of DLC because of the ion bombardment effect on films during the deposition of film.

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무 수은 면광원에서의 가스 조성 변화에 따른 전기 광학 특성에 관한 연구

  • O, Byeong-Ju;Jeong, Jae-Cheol;Seo, In-U;Hwang, Gi-Ung
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.431-431
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    • 2010
  • 본 논문은 기존의 수은 형광 램프와 LED를 대체할 수 있는 무 수은 면광원의 방전 가스 조성 변화(He, Ne, Ar, Xe)에 따른 전기 광학 특성에 관한 연구이다.[1]~[4] 무 수은 면광원의 기본 구조는 그림 1과 같이 방전 공간 내에 유전체에 의해 방전 공간과 분리된 한 쌍의 평행한 전극으로 이루어져 있다. 그리고 방전 공간 내면에는 일정한 두께와 형상을 가지는 형광체가 도포되어 있고 주 전극의 반대 평판유리 외벽에 보조전극을 형성하였다. 방전을 발생시키기 위한 기본적인 구동 방법은 5~25kHz의 주파수와 $0.7{\sim}1.5{\mu}s$의 폭을 가지는 사각 펄스를 사용한다.[4] 그림 2는 Ne-Xe 가스를 기본으로 하여 He 첨가에 따른 전기 광학 특성을 보여준다. He 첨가량이 증가할수록 동작 전압이 높아지면서 방전 개시와 동시에 수축 방전으로 전이되는 형태를 보이며, 효율 또한 감소함을 보였다. 이것은 무 수은 면광원에서는 높은 He의 이차전자 방출 계수보다 He의 높은 이온화 에너지가 더 크게 작용하기 때문이라 생각된다. 그림 3은 Ne-Xe 가스를 기본으로 하여 Ar 첨가에 따른 특성을 보여준다. He과는 다르게 Ar 첨가량이 증가할수록 동작 전압 마진이 넓어진다. 그러나 동작 전압이 상승하고, 효율 역시 감소하는 단점이 있다. 이것은 Ar은 Ne에 비해 이온화 에너지가 낮지만 Ar-Xe 조합은 Penning 효과를 얻을 수 있는 혼합 가스가 아니며, Ar의 2차전자 방출 계수 역시 Ne에 비해 낮기 때문에 결과적으로 방전 전압은 상승하고 효율이 감소하는 결과를 보여준다. 그러므로 무 수은 면광원에서 낮은 구동 전압과 높은 휘도 효율을 얻기 위해서는 Ne-Xe 가스조건이 가장 적합한 가스 조건이다. 효율 개선을 위해서는 Ne-Xe 가스 조건에서 압력을 높이거나 높은 Xe 함량의 가스 조성비를 사용하여 자외선 발광원인 Xe 가스량을 높이는 방법이 가장 유리하다. 그림 4는 Ne-Xe 가스 조건에서 Xe 가스량을 높이면 효율이 증가하는 경향성을 보여준다. 가스 최적화 연구와 더불어 형광체 최적화 연구[5]를 통해서 Ne-Xe25% 100Torr 가스 조건에서 그림 5와 같은 19,000nit의 높은 휘도와 75lm/W의 고 효율 특성을 얻을 수 있었다.

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무기물을 포함한 유기물 나노복합체를 사용하여 제작한 비휘발성 메모리 소자의 전기적 성질에 대한 실험치와 이론치의 비교

  • Go, Seong-Hun;Yu, Chan-Ho;Yun, Dong-Yeol;Jeong, Jae-Hun;Kim, Tae-Hwan
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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    • pp.290-290
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    • 2010
  • 무기물을 포함한 유기물 나노 복합체는 저전력으로 동작하는 차세대 전자 소자와 광전 소자의 응용에 대단히 유용한 소재이다. 간단하고 저렴한 제조 공정과 물질 특성의 장점을 이용한 유기물/무기물 나노 복합재료를 사용한 비휘발성 메모리 소자의 제작과 전기적 특성은 연구되었으나 실험치와 이론치의 비교에 대한 연구는 소자의 효율과 신뢰성을 증진하기 위하여 대단히 필요하다. 다양한 종류의 비휘발성 메모리 중에서 무기물을 포함한 유기물 나노복합체를 사용하여 만들어진 유기 쌍안정성 소자는 간단하게 고집적화가 가능하며 광소자와 결합할 수 있기 때문에 차세대 비휘발성 메모리 소자로서 각광을 받고 있다. 본 연구에서는 ZnO 나노입자를 포함한 PMMA 박막 구조를 기억층으로 사용하여 메모리 특성을 향상시킨 유기 쌍안정성 소자를 제작하고 그에 대한 전기적 특성을 측정과 전하 전송 메커니즘을 규명하여 이론적으로 고찰하였다. 유기 쌍안정성 소자 제작을 위해 Indium-tin-oxide가 증착된 유리 기판위에 ZnO 나노입자와 PMMA를 용매에 혼합하여 스핀코팅 방법으로 ZnO 나노 입자가 분산되어 있는 PMMA 나노 복합체를 형성하였다. 나노 복합체 박막위에 Al 전극을 열증착으로 형성하여 유기 쌍안정성 소자를 제작하여 전류-전압 측정을 하였다. 제작한 유기 쌍안정성 소자의 전하 전송 메커니즘 규명을 위해 space charge limited current 메커니즘을 이용하여 소자에 대한 시뮬레이션을 수행하였고 이를 제작한 소자에서 측정한 전류-전압 특성과 비교하였다. 이 결과는 유기 쌍안정성 소자를 제작할 때 소자의 성능 최적화에 이론적인 기초지식을 제공할 것이다.

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Optimized Design of Wideband Microstrip Slot Antenna with Reverse L-shaped Feedline (역 L-형 급전구조를 갖는 광대역 마이크로 스트립 슬롯 안테나의 최적화 설계)

  • 장용응;신호섭
    • Proceedings of the Korea Electromagnetic Engineering Society Conference
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    • 한국전자파학회 2000년도 종합학술발표회 논문집 Vol.10 No.1
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    • pp.354-358
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    • 2000
  • T-모양의 급전구조를 갖는 마이크로스트립 슬롯 안테나는 정합을 쉽게 이룰 수 있고, 대역 폭이 기존의 슬롯을 가로지르는 급전구조에 비하여 넓었다. 본 논문에서는 역 L-형 마이크로스트립 급전구조를 제안하여 FDTD(Finite Difference Time Domain)법으로 해석하여 안테나를 최적화 설계하였다. 슬롯 폭이 16 mm일 때, 전압 정재파비가 2.0 이하인 조건에서 대역폭은 2.3 GHz를 중심으로 약 48 % 정도의 광대역 특성을 얻었다. 제안된 급전구조는 기존의 슬롯 가로지르는 급전구조의 복사 저항보다 매우 낮았다. 또한 역 L-형 급전구조의 대역폭 특성을 기존의 급전구조의 슬롯릇 안테나들과 비교하였다.

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Evaluation for Ratio Error of Voltage Transformer Comparator using Standard Resistors (표준저항기를 이용한 전압변성기 비교기의 비오차 평가)

  • Han, Sang-Gil;Kim, Yoon-Hyoung;Jung, Jae-Kap;Han, Sang-Ok
    • The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers P
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    • 제57권4호
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    • pp.412-416
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    • 2008
  • We have developed the calibration technique of the VT comparator using nonreactive standard resistors, which evaluates both accuracy and linearity of the VT comparator by comparing experimental values with theoretical values. The correction values of VT comparator obtained by using both our method and wide ratio error VT are consistent within the expanded uncertainty. Furthermore the specification for ratio error of VT comparator have been revaluated.