Glass와 실리콘 웨이퍼(p-type(100), $ ho$=6~8$\Omega$-cm)를 기판으로 하여 NiFe/glass , NiFe/Si, NiFe/Al/Si, NiFe/Ti/Si 의 박막을 제작하였다. 하지층으로 사용한 알루미늄과 티타늄은 RF 스퍼터링으로 증착하였으며 퍼럼로이(NiFe) 필름은 60, 80, 90wt%Ni로 조성을 변화시켜 증착하였다. 박막의 포화자화(Ms), 보자력(Hc), 각형비(F)는 sweep time을 1.7분으로 하여 시료 토크마그네토 메터로 측정하였다. 보자력에 영향을 주는 표면조도는 전자주사현미경(SEM)과 표면조도 측정기로써 알아보았다. 실험결과 80wt% Ni 의 퍼멀로이에서 자장 중 열처리(35 Oe,$ 350^{\circ}C$) 후 약 1의 각형비를 나타내었으며 열처리 후 보자력이 떨어짐을 보였다. 자기이방성은 알루미늄을 하지층으로 한 퍼멀로이 박막에서 가장 좋은 값(Ku=-9.60 $\times$106 emu/㎤)을 나타내었다.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1999.11a
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pp.419-422
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1999
We prepared CoCr thin film for perpendicular magnetic recording media by facing targets sputtering system(FTS system) which can deposit a high quality thin films in plasma-free state and wide range of working pressure. In this study, we investigated that the effect of sputtering condition , that Argon gas pressure and substrate temperature, on magnetic and crystallographic characteristic of CoCr thin film as well as the variation perpendicular coercivity in changing of film's thickness. Crystallographic and magnetic characteristic of prepared thin films were evaluated by x-ray fractometry(XRD), vibrating sample magnetometer(VSM) and kerr hysteresis loop measurement.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.13
no.5
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pp.444-450
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2000
We prepared Co-Cr thin film for perpendicular magnetic recording media with facing targets sputtering system(FTS system) which can deposit a high quality thin film in plasma-free state and wide range of working pressure. The effect of sputtering conditions(argon gas pressure and substrate temperature) on the magnetic and the crystallographic characteristic of Co-Cr thin film was investigated. And the variation of perpendicular coercivity with the variation of film thickness was studied. As a result we obtained the high perpendicular coercivity of 1900Oe and the good dispersion angle of c-axis($\Delta$$\theta$$_{50}$) of 5$^{\circ}$on the film thickness of 100nm for the promising recording layer of perpendicular magnetic recording media.c recording media.a.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2000.02a
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pp.193-193
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2000
박막 내의 잔류 응력은 막의 기계적 전기적 물성을 변화시키는 등 박막에 많은 영향을 끼치는 것으로 알려져 있다. 이러한 응력은 박막의 증착 공정중 여러 가지 증착 조건에 의해서 변화하게 되는데, 특히 스퍼터링 시스템의 경우에는 증착 압력과 사용하는 가스, 인가되는 전력 등 기본적인 증착조건들에 상당한 영향을 받는다. 이러한 영향은 금속 박막의 경우 상당히 잘 알려져 있다. 또한 반도체 공정에서 금속화 과정중 금속 전극의 단락등을 막기 위해 많은 연구가 진행되어 왔다. 본 논문에서는 고주파 마그네트론 스퍼터링 시스템을 사용하여 산화 아연(ZnO)을 증착하고 여러 공정 변수들에 따른 응력의 변화를 관찰하였다. 실험에서 ZnO 타겟을 사용하였으며, 작동 가스로는 아르곤과 산소를 사용하였다. 증착한 박막들은 모두 압축 응력을 보였으며, 박막의 응력에 가장 큰 영향을 미치는 요소들은 압력, 산소와 아르곤의 비, 기판과 타겟과의 거리 등이었는데, 인가 전력에는 거의 영향을 받지 않았다. 일반적으로 스퍼터링 시스템에서의 압축응력은 atomic peening에 의해서 형성되는데, 박막을 두드리는 높은 에너지의 아르곤이나 산소의 유량과 에너지의 1/2승에 비례하는 것으로 알려져 있다. 그러나 본 시스템에서는 인가 전력을 높여도 응력이 증가하지 않았고, 타겟과의 거리를 줄이면 오히려 응력이 감소함을 보였다. 이는 박막의 응력이 peening 하는 입자의 에너지뿐만이 아니라 증착되는 물질의 증착 속도와도 밀접한 관련이 있음을 보여준다. 즉, 증착속도가 증가하면 peening하는 입자가 끼치는 응력의 효과가 반감되기 때문으로 수식을 통해 증명할 수 있었다.진탄화 처리시간을 변화시켰을 때 화합물층의 생성은 ${\gamma}$'상으로부터 시작되고 $\varepsilon$상은 즉시 ${\gamma}$'상을 소모하면서 생성되어 일정시간이 지난 후 $\varepsilon$상은 안정화되며 질소가스농도가 증가할수록 화합물 층내의 $\varepsilon$상분율은 역시 증가하였다. 한편 CH4 가스농도는 처리되는 강종에 따라 차이를 보이며 적정 CH4 가스농도를 초과시에는 $\varepsilon$상 생성은 억제되고 시멘타이트상이 생성되었다.e에서 발생된 질소 플라즈마를 구성하는 이온들의 종류와 그 구성비율을 연구하였다.여러 가지 응용으로의 가능성을 가지고 있다. 그 예로 plasma processing, plasma wave에 의한 입자 가속, 그리고 가스 레이저 활성 매질 발생 등이 있다. 특히 plasma processing의 경우 helicon plasma는 높은 밀도, 비교적 낮은 자기장, remote operation 등이 가능하다는 점에서 현재 연구가 활발히 진행되고 있다. 상업용으로도 PMT와 Lucas Signatone Corp.에 서 helicon source가 제작되었다. 또한 높은 해리율을 이용하여 저유전 물질인 SiOF의 증착에서 적용되고 있다. 이 외에도 다수의 연구결과들이 발표되었다. 잘 일치하였다.ecursor 분자들이 큰 에너지를 가지고 기판에 유입되어 치밀한 박막이 형성되었기 때문으로 사료된다.을수 있었다.보았다.다.다양한 기능을 가진 신소재 제조에 있다. 또한 경제적인
Co/Pd and Co/Pt multilayered thin films for perpendicular magnetic recording media were fabricated by sput¬tering method and the effects of the sputtering pressure during the formation of Pd or Pt underlayers on the magnetization behavior and coercivity of the multilayers were investigated. It was found that the coercivity of Co/Pd multilayers was strongly dependent on the sputtering pressure of underlayer and could be enhanced to a large extent merely by increasing the sputtering pressure of underlayer, while in case of Co/Pt films, the degree of coercivity enhancement by controlling the sputtering pressure of underlayer was almost negligible. Coercivity variation of Co/Pd and Co/Pt multilayers with the underlayer material and deposition pressure of underlayer could be well explained in terms of the interface roughness of multilayer films induced by underlayer topology, which could also be correlated to the change of perpendicular anisotropy energy and magnetic reversal feature with the sputtering pressure of underlayer. Kerr rotation angle was hardly affected by the preparation conditions of underlayers.
Park, Kwang-Jun;Choi, Jong-Gu;Lee, Sang-Suk;Lee, Bum-Ju
Journal of the Korean Magnetics Society
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v.21
no.1
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pp.32-36
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2011
We fabricated a sensor for measuring the water level and water temperature using GMR-SV (giant magnetoresistance-spin valve) device, simultaneously. It could be applied to the medical cooling system of the potassium titanylphosphate KTP) laser system for the therapy of a benign prostatic hyperplasia. The middle point of GMR-SV device was set to the near position of a high magnetic sensitivity with 2.8%/Oe. The sensitivity for the water level and water temperature of the fabricated sensor were $400\;m{\Omega}/mm$ and $100\;m{\Omega}/^{\circ}C$, respectively.
The out-of-plane and in-plane angular dependence of ferromagnetic resonance field was measured in NiFe thin films fabricated by magnetron sputtering. The effective magnetization was obtained from the out-of-plane angular dependence of ferromagnetic resonance field, which was well agreed with calculated one. The decrease of effective magnetization with NiFe thickness was due to the surface anisotropy constant of $K_s=-0.23\;erg/cm^2$. The in-plane uniaxial anisotropy fields were obtained from the in-plane angular dependence of ferromagnetic resonance field. The easy axis of in-plane uniaxial anisotropy field was rotated to the reverse direction of applied magnetic field during sample fabrication, which was explained by the antiferromagnetic NiFeO layer at sample surface.
The effects of $Ga^+$ ion irradiation on the magnetic properties of the $Co_{73}Pt_{27}-TiO_2$ perpendicular magnetic recording media were investigated. As $Ga^+$ ion dose increased from $1\times10^{15}ions/cm^2\;to\;30\times10^{15}ions/cm^2$, the perpendicular magnetic anisotropy was degraded and no longer observed above $20\times10^{15}ions/cm^2$ dose. The deterioration of the perpendicular magnetic anisotropy and ferromagnetic properties can be attributed to the concentration profile change due to Ga+ ion implantation. The magnetic islands of $70\times70nm^2\;and\;100\times100nm^2$ size were successfully fabricated with $Ga^+$ ion irradiation.
In order to measure fine rotation angles by magneto-optic effects of magneto-optical recording thin films, a polarization modulation method is used. In the experiment, the polarization of laser (He-Ne laser) beam is modulated by a Faraday rotator and the amplified modulated signals are selectively detected by phase sensitive detector. The magnetic Kerr rotation and Faraday rotation hysteresis loops are investigated by this method for thermally evaporated amorphous TbFeCo thin films and RF sputtered garnet thin films. Rotation angles about $0.25^{\circ}$ are measured easily from TaFeCo thin films. In the case of longitudinal Kerr rotation, very small rotation angle of $2.5\times10^{-3^\circ}$ is measured with good accuracy of the measurement (about $1\times10^{-3^\circ}$). And it is found that each thin films have the hysteresis curves of high coercivity and good squareness.
The microstructure and thermal properties of the Mn-IriNi-Fe exchange biased multi-layers with various buffer layers and stacking structures have been investigated. The H$_{e{\chi}}$ and the T$_{b}$ depend on the Mn-Ir grain size at the interface between the Mn-Ir layer and the Ni-Fe layer, The (111) preferred orientation of Mn-Ir/Ni-Fe on the Ta buffer layer may promote the values of J$_{k}$ and H$_{e{\chi}}$. The samples which produce the Hex have the epitaxial relationship at the interface between the Mn-Ir layer and the Ni-Fe layer due to the generation of misfit dislocation.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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