• 한국대기환경학회:학술대회논문집
• /
• 한국대기환경학회 2000년도 추계학술대회 논문집
• /
• pp.91-92
• /
• 2000

입자상 대기오염물질은 기후변화 및 시정감소의 원인이 될 뿐만 아니라 인체의 건강에 유해한 영향을 미친다. 특히 입자크기가 작은 미세입자는 폐의 깊은 곳에 침착되어 인체의 호흡기 건강에 매우 유해하다. 1995년 우리나라에서 PM10을 대기환경기준에 포함시킨 것도 이러한 미세입자의 인체에의 악영향을 고려한 것이라 할 수 있다. 최근에는 더 미세한 입자로서 폐에 큰 침착률을 보이고 실질적으로 호흡기 건강에 악영향을 미치는 입자인 PM/sub 2.5/에 눈을 돌려 규제의 움직임을 보이고 있다. (중략)

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
• /
• 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.2
• /
• pp.1292-1295
• /
• 2004

본 연구는 Cu CMP공정 중 알루미나 연마입자의 wafer 표면에서의 점착과 오염을 AFM (Atomic Force Microscopy)을 사용하여 슬러리내에서 점착력 측정과 실제 연마 후 wafer 표면의 오염을 실험적으로 비교 평가하였다. 연마입자의 adhesionn force 측정에 있어서도 역시 wafer들의 zetapotential 결과와 잘 일치하였으며, 모든 wafer 종류에 관계없이, 산성 영역에서 염기성영역의 슬러리가 적용됨에 따라 adhesion force가 작아짐을 확인할 수 있었다. 특히 FSG wafer의 zetapotential 결과는 비록 산성 분위기에서는 양성 전하값을 나타내었으나, 염기성 분위기의 pH에서는 급격하게 음성 전하값을 나타내었고, 이는 adhesionn force결과와 FESEM 결과와 잘 일치하였다.

• 기계저널
• /
• 제52권5호
• /
• pp.46-50
• /
• 2012

현대 사회에서 웰빙에 관심이 높아짐에 따라 실내 공기질에 대한 관심도 커졌으며 그 시장 또한 커지고 있다. 쾌적한 실내 공기질 확보를 위해서 오염 물질을 기계적으로 측정하고, 저감할 수 있는 연구가 중요하다.

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
• /
• 한국대기환경학회 2000년도 춘계학술대회 논문집
• /
• pp.191-192
• /
• 2000

최근 동아시아 지역의 산업의 발전과 함께 대기오염물질이 발생하여 인접국가간에 상호영향을 미치므로, 이들 오염물질들의 이동에 관한 정량적 파악과 영향에 대한 규명이 필요하다. 대기중의 입자상 이온물질중 질산염과 황산염의 경우 대부분이 인간활동의 결과로 유입된 NOx와 대기중의 SO$_2$가 대기 중에서 화학적 반응에 의해 형성된 2차 오염물질이다. 자동차, 공장의 가동 등으로 인하여 발생되는 이들 오염물질들은 국지적으로 기상조건에 따라 이동되고 있는 것으로 알려져 있고, 각 지역에서 측정을 비롯한 많은 연구가 이루어지고 있다. (중략)

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
• /
• 한국대기환경학회 2002년도 추계학술대회 논문집
• /
• pp.326-327
• /
• 2002

제주도 고산은 지역자체내의 대기오염물질이 거의 없는 우리나라의 대표적인 배경농도지역이며, 지리적 특성상 동북아시아에서 대기오염물질의 장거리이동 특성을 규명하는데 적합한 지역으로 알려져 있다. 고산에 대한 활발한 연구를 통해 장기간 TSP 측정자료가 모아졌으나, 아직까지 그 해석에 대한 통계적인 분석과 이동특성에 관한 해석을 위한 역궤적 분석은 미흡하다. 이에 본 발표에서는 1992년 3월부터 2002년 2월까지 고산에서 측정한 입자상 무기이온 성분의 농도를 장기간의 역궤적 분석결과와 함께 통계적인 방법으로 해석하고자 하였다. (중략)

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
• /
• 한국대기환경학회 2002년도 춘계학술대회 논문집
• /
• pp.83-84
• /
• 2002

우리 사회가 중국으로부터 오염물질 이동을 주목하기 시작한 것은 국지 오염 중심의 아황산가스, 먼지 등 1차 오염이 어느 정도 해결된 1990년대 초반 이후이다. 1992년 환경부 선도기술개발사업으로 산성비 감시 및 예측기술개발이 시작되고 1995년부터 국립환경연구원 주도로 배경농도 지역에서 미세입자 측정이 진행되면서 국내의 장거리 이동대기오염물질 연구는 점차 자리를 잡게 되었다. (중략)

• 한국진공학회지
• /
• 제20권2호
• /
• pp.86-92
• /
• 2011

본 연구에서는 새롭게 개발된 센서인 in-situ particle monitor (ISPM)와 기존센서의 기능을 업그레이드 한 센서인 self-plasma optical emission spectroscopy (SPOES)를 이용해 화학기상증착 진공공정을 진단하였다. 본 연구에서 사용된 증착공정 장비는 silane 가스를 이용한 silicon plasma enhanced chemical vapor deposition과 borophosphosilicate glass 증착장비이다. 두 장비의 증착 또는 클리닝 조건에서의 배출되는 오염입자와 배기가스를 개발된 센서를 이용해 공정상태를 실시간으로 진단하는 것과 개발된 센서의 센싱 능력을 검증하고자 하는 목적으로 연구가 진행되었다. 개발된 센서는 장비 배기구 설치되었으며, 공정압력, 유량, 플라즈마 파워 등의 공정변수 변화에 따른 오염입자 크기 및 분포와 배기 부산물의 변화를 측정하고, 측정 결과의 상호 연관성을 분석하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2009년도 제36회 동계학술대회 초록집
• /
• pp.210.2-210.2
• /
• 2009

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2002년도 제22회 학술발표회 초록집
• /
• pp.202-202
• /
• 2002

• 멤브레인
• /
• 제21권2호
• /
• pp.163-170
• /
• 2011

수처리 분리막 공정에서 막 오염 제어 기술은 현장 적용 기술 및 경제성 확보에 있어 매우 중요하다. 본 연구에서는 형광 나노 입자 및 형광 분광 분석법을 도입함으로써 수처리 분리막 공정에서 막 오염 정도를 실시간으로 측정 모니터링 할 수 있는 센싱 기술을 개발하고자 하였다. 막 오염 정도를 모니터링 할 수 있는 분리막 제조를 위해 세 종류의 형광물질 OB, FP, KCB를 담지한 다공성 polysulfone (PSf) 비대칭 막을 제조하였다. 형광 분광 분석 시스템을 이용하여 분리막 표면에서의 오염 정도를 실시간으로 측정한 결과, 형광 물질을 첨가한 막은 막 오염이 진행됨에 따라 형광 신호가 크게 감소함을 보여 막 표면 오염층의 모니터링 분석이 가능함을 확인하였다.