• 제목/요약/키워드: 억셉터반응

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Leuconostoc mesenteroides M-12 덱스트란수크라제의 말토스 억셉터 반응으로 합성된 새로운 분지 올리고당의 구조 특성 (Structural Characteristics of Novel Branched Oligosaccharides Syntesized by a Maltose Acceptor Reaction with Dextransucrase from Leuconostoc mesenteroides M-12)

  • 서현창
    • 한국식품영양학회지
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    • 제10권1호
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    • pp.102-109
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    • 1997
  • 효소반응과 부분 산가수분해 결과를 해석하여 Leuconostoc mesenteriodes M-12 덱스트란수크라제 억셉터 반응 산물인 새로운 분지올리고당의 구조를 확인하였다. 분지올리고당 B4의 구조는 62-O-$\alpha$-D-kojibiosylmaltose인 것으로 확인되었으며, 분지올리고당 B5의 구조는 63-O-$\alpha$-D-kojibiosylpanose였다. 억셉터 반응산물을 덱스트라나제로 분해한 결과 새로운 올리고당인 D4를 확인할 수 있었다. 억셉터 반응산물을 억셉터로 이용한 두 번째 억셉터 반응의 생성물을 덱스트라나제 처리하여 D4를 얻었는데 덱스트라나제와 글\ulcorner아밀라제에 의해 분해되지 않았다. 그 구조는 62-O-$\alpha$-D-kojibiosylisomaltose로 확인되었다. 직선상 또는 분지 결합을 가진 d.p. 6 이하의 억셉터 반응산물의 생성 패턴도 확인하였다.

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VISAR를 이용한 격벽 착화 모듈 특성 연구 (Studies on Through-Bulkhead Initiation Module Using VISAR)

  • 장승교;백성현
    • 한국추진공학회:학술대회논문집
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    • 한국추진공학회 2010년도 제34회 춘계학술대회논문집
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    • pp.217-225
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    • 2010
  • 격벽 착화 모듈은 도우너 화약이 폭발하면서 발생한 충격파가 격벽을 통해 억셉터 화약에 전달되었을 때 동작한다. 격벽 착화 모듈의 가장 중요한 설계 요소인 격벽의 최소 두께를 결정하기 위하여 구조해석을 수행한 결과 격벽의 두께가 0.1 mm 이상인 경우 구조적으로 충분한 마진이 있음을 확인하였다. 격벽의 적정 두께를 결정하기 위하여 VISAR 간섭계를 이용하여 억셉터 화약 충전면에서 자유 표면 속도를 계측하였다. 이 속도를 이용하여 충격 압력으로 환산하고 그 결과를 억셉터 화약의 반응 민감도와 비교함으로서 격벽 두께에 따른 격벽 착화 모듈의 작동 신뢰도를 계산하였다.

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VISAR을 이용한 격벽 착화 모듈 특성 연구 (Studies on Through-Bulkhead Initiation Module using VISAR)

  • 장승교;백성현
    • 한국추진공학회지
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    • 제14권4호
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    • pp.16-24
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    • 2010
  • 격벽 착화 모듈은 도우너 화약이 폭발하면서 발생한 충격파가 격벽을 통해 억셉터 화약에 전달되었을 때 동작한다. 격벽 착화 모듈의 가장 중요한 설계 요소인 격벽의 최소 두께를 결정하기 위하여 구조해석을 수행한 결과 격벽의 두께가 0.1 mm 이상인 경우 구조적으로 충분한 마진이 있음을 확인하였다. 격벽의 적정 두께를 결정하기 위하여 VISAR 간섭계를 이용하여 억셉터 화약 충전면에서 자유 표면 속도를 계측하였다. 이 속도를 이용하여 충격 압력으로 환산하고 그 결과를 억셉터 화약의 반응 민감도와 비교함으로서 격벽 두께에 따른 격벽 착화 모듈의 작동 신뢰도를 계산하였다.

수직경사응고(VGF)법에 의한 Si 도핑 GaAs 단결정 성장시 $B_{2}O_{3}$ 첨가에 따른 캐리어 농도 변화 (Control of carrier concentrations by addition of $B_{2}O_{3}$ in Si-doped vertical gradient freeze (VGF) GaAs single crystal growth)

  • 배소익;한창운
    • 한국결정성장학회지
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    • 제19권2호
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    • pp.75-78
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    • 2009
  • PBN 도가니를 이용하여 Si이 도핑된 GaAs 단결정을 수직경사 응고법으로 성장시켰다. PBN 도가니에 산화막인 $B_{2}O_{3}$의 양을 $0{\sim}0.2wt%$ 범위에서 변화시키면서, 성장 후 캐리어 농도를 측정하였다. $B_{2}O_{3}$ 첨가량이 증가함에 따라, 초기 0.1 정도의 Si 도판트의 편석계수는 0.01 부근까지 급격히 감소하고, 동시에 캐리어 농도도 감소하는 것을 알 수 있었다. 이는 성장도중 도판트인 Si이 $B_{2}O_{3}$과 반응하며 도너인 Si 양을 감소시키며, 동시에 억셉터인 B 양을 증가시키기 때문으로 보인다. 한편 PBN 도가니 내면에 얇은 유리질의 $B_{2}O_{3}$층 형성이 용이한 고온 산화막 처리가 결함감소에 효과적임을 확인하였다.

고주파 유전체 $(Pb_{0.62}Ca_{0.38})ZrO_{3}$의 Mn 첨가에 따른 유전특성 변화 (Effect of Mn doping on the dielectric properties of $(Pb_{0.62}Ca_{0.38})ZrO_{3}$ at microwave frequency)

  • 권부연;김우경;여철현;최승철
    • 한국재료학회지
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    • 제5권1호
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    • pp.36-41
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    • 1995
  • $(Pb_{0.62}Ca_{0.38})ZrO_{3}$계에서의 조성 x=0.38의 $(Pb_{0.62}Ca_{0.38})ZrO_{3}$에 Mn 성분을 첨가하여 $1300^{\circ}C$에서 2시간 소결한 세라믹스의 소결성 및 고주파 유전특성을 연구하였다. Mn의 첨가로 소결온도가 낮아지며 치밀한 소결체를 얻을 수 있었다. 하소온도가 높아짐에 따라 하소과정에서 합성반응이 충분히 이루어져 소결체의 최종 소결과정에 영향을 미처 유전체의 유전상수와 품질계수 Q값이 증가하였다. Mn의 첨가량에 따른 물성변화는 Mn의 첨가량이 0.15wt%까지의 첨가범위에서는 $Mn^{4+}$$Mn^{3+}$ 또는 $Mn^{2+}$로 환원됨에 따라 산소공공이 생성되며, 억셉터로 작용하여 품질계수 Q값이 1300정도까지 증가하였고, 유전율은 90-100 정도로 변화가 없었다. 그러나 Mn 첨가량이 0.5 wt%이상일때 유전손실이 매우 증가되며 동시에 품질계수 Q값이 점차 감소하였다.

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정제 규조토로 합성한 탄화규소의 열전특성 (Thermoelectric properties of SiC prepared by refined diatomite)

  • 배철훈
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제21권4호
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    • pp.596-601
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    • 2020
  • SiC는 큰 밴드 갭 에너지를 갖고, 불순물 도핑에 의해 p형 및 n형 전도의 제어가 용이해서 고온용 전자부품소재로 활용이 가능한 재료이다. 따라서 국내 부존 규조토의 고부가가치 활용을 위해 정제 규조토로부터 합성한 β-SiC 분말의 열전물성에 대해 조사하였다. 정제한 규조토 중의 SiO2 성분을 카본블랙으로 환원 탄화 반응시켜 β-SiC 분말을 합성하고, 잔존하는 불순물(Fe, Ca 등)을 제거하기 위해서 산처리 공정을 행하였다. 분말의 성형체를 질소 분위기 2000℃에서 1~5시간 소결시켜 n형 SiC 반도체를 제작하였다. 소결시간이 길어짐에 따라 캐리어 농도의 증가 및 입자간의 연결성 향상에 의해 도전율이 향상되었다. 합성 및 산처리한 β-SiC 분말에 내재하는 억셉터형 불순물(Al 등)로 인한 캐리어 보상효과가 도전율 향상에 저해하는 요인으로 나타났다. 소결시간이 증가함에 따라 입자 및 결정 성장과 함께 적층 결함 밀도의 감소에 의해 Seebeck 계수의 절대값이 증가하였다. 본 연구에서의 열전 변환 효율을 반영하는 power factor는 상용 고순도 β-SiC 분말로 제작한 다공질 SiC 반도체에 비해 다소 작게 나타났지만, 산처리 공정을 정밀하게 제어하면 열전물성은 보다 향상될 것으로 판단된다.