레이저와 플라스마 광, 할로겐 광 중합기를 이용하여 각 개인의 우식 활성토를 측정할 수 있는지를 규명하기 위해 7-8세 아동 45명을 대상으로 치아의 순면과 협면에 각 광원을 조사하고 특수 필터를 사용하여 초기 치아우식증으로 판별된 치아의 개수를 측정하여 기존의 우식활성도 측정방법인 dDfFtT rate와 mutans streptococci 측정법, Lactobacilli 측정법과 비교, 평가하고 그 특이도, 민감도, 예측력을 평가하였다. 1. 아르곤 레이저, 플라스마 광, 할로겐 광 조사시 육안검사시 보다 유의하게 많은 초기우식 병소가 관찰되었다(p<0.05). 2. 아르곤 레이저, 플라스마 광, 할로겐 광을 이용한 우식활성도 측정법은 dDfFtT rate와 양의 상관관계 (${\gamma}=0.42,\;0.41,\;0.39$)를 보였다(p<0.01). 3. 기존의 우식활성도 측정방법을 기준으로 하여 평가한 결과 특이도와 민감도, 예측력은 모두 레이저가 가장 높았으며 플라스마 광, 할로겐 광 순으로 나타났다. 이상의 결과를 종합하여 볼 때 아르곤 레이저와 플라스마 광, 할로겐 광을 이용한 형광법은 모두 양호한 진단학적 지표를 보여줌으로써 향후 광학적 우식활성검사법으로 활용 가능성이 높을 것으로 사료된다.
The application of laser direct etching has been discussed, and believed that the process is a very powerful method for micro machining. This study is focused on the micro patterning technology using laser direct etching process with no chemical damage of the material surface. A new introduced concept of energy synergy effect for surface micro machining is the combination of chemically ion reaction and laser thermal process. The etchant can't etch the material in room temperature, and used Ar laser has not power enough to machine. But, the machining is occurred in local area of the material by the combined energy. Using this process, the material is especially prevented from chemical damage for electric property. We have tested this new concept, and achieved a line with $1{mu}m$ width. The Ar laser with 488nm wavelength was used. The material was Si(100) wafer, and etchant is KOH solution. The application and flexibility of this process is in great hopes for MEMS structures and fabrication of the micro electric device parts.
아르곤 레이저에 의해 광펌핑 되는 티타늄 사파이어 레이저를 제작하고 이를 자체 모드록킹 시켰다. 모드록킹은 볼 슬라이더 위에 장착된 공진기 거울의 이동에 의해 시작되었으며 티타늄 사파이어 결정내의 자체 집속 효과와 공진기내에 설치된 조리개에 의해 모드록킹이 유지 되었다. 공진기내의 군속도를 보상하기 위하여 프리즘쌍을 사용하였으며, 모드록킹된 펄스의 대역폭은 11nm, 펄스폭은 $1000\pm20fs$였다.
플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 공정을 간단히 하기 위하여 포토레지스트, ITO, 격벽재료를 Ar+ laser(λ-514 nm, CW)와 Nd:YAG laser(λ=532, 266nm, pulse)로 직접 패터닝 하였다. 레이저에 의한 포토레지스트의 패턴결과, 아르곤 이온 레이저의 포토레지스트 가공의 반응 메카니즘은 레이저 빔의 열에 의한 시료 표면의 국부적인 온도상승에 의한 용융작용이며, 그 결과 식각 후 형성된 패턴의 단면 모양도 레이저빔의 profile과 같은 가우시안 형태를 나타낸다. Nd:YAG 레이저의 4고조파(532nm)를 이용한 경우 200$\mu\textrm{m}$/sce의 주사속도에서 포토레지스트를 패턴하기 위한 임계에너지(threshold energy fluence) 값은 25J/cm2이며, 약 40J/cm2의 에너지 밀도에서 하부기판의 손상이 발생하기 시작하였다. 글미 1은 Nd:YAG 레이저 4고조파를 이용하여 포토레지스트를 식각한 경우 SEM 표면사진(위)과 단차특정기에 의한 단면형상(아래)이다. ITO 막의 레이저에 의한 직접 패턴 결과, ITO 막은 레이저 펄스에 의한 급속 가열 및 증발에 의한 메커니즘으로 식각이 이루어지며, 레이저 파장에 따른 광흡수 정도의 차이에 의해 2고조파 (532nm)에서 ITO 막의 가공 품질이 4고조파(266nm)에 비해 우수하며 패턴의 폭도 출력에 따라 제어가 용이하였다. 그림 2는 Nd:YAG 레이저 2고조파를 이용하여 ITO를 식각한 경우 SEM표면 사진(위)과 단차측정기에 의한 단면형상(아래)이다. 격벽 재료의 레이저에 의한 직접 패턴 결과, Ar+ 레이저(514nm)는 출력 밀도 32NW/cm2에서 격벽을 유리 기판의 경계면까지 식각하였다. Nd:YAG 레이저(532nm)는 laser fluence가 6.5mJ/cm2에서 격벽을 식각하기 시작하였으며, 19.5J/cm2에서 유리기판의 rudraus(격벽 두께 130$\mu\textrm{m}$)까지 식각하였다.
레이저 형광법을 이용하여 각 개인의 우식의 활성도를 측정할 수 있는지를 규명하기 위해 $7\sim9$세의 아동 50명을 대상으로 치아의 순면과 협면에 아르곤 레이저를 조사하고 특수 필터를 사용하여 초기 치아우식증이 관찰되는 치아의 수를 측정하고, 이와 같은 초기 치아우식증의 수를 측정하는 우식활성법과 기존의 우식 활성도 측정 방법인 dDfFtT rate, Streptococcus mutans colony count와 상관성을 비교, 평가하고, 레이저 형광법을 이용한 우식활성검사의 특이도, 민감도, 진단력을 평가한 결과, 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 아르곤 레이저 형광법을 이용한 우식활성도 측정법은 기존의 Streptococcus mutans colony count 검사법과 비교적 높은 상관관계를 보였다($\gamma=0.48$, P<0.01). 2. 아르곤 레이저 형광법을 이용한 우식활성도 측정법은 dDfFtT rate 검사와 상관관계가 있었다($\gamma=0.39$, P<0.01). 3. Streptococcus mutans colony count와 dDfFtT rate와는 낮은 상관관계가 있었다($\gamma=0.27$, P<0.05). 4. dDfFtT rate를 기준검사 방법으로 하였을 때, 레이저 형광법을 이용한 우식활성 검사법은 특이도 44.4%, 민감도 85.7%, 진단력이 87.8%였다. 5. dDfFtT rate를 기준검사방법으로 하였을 때, Streptococcus mutans colony count는 특이도 77.8%, 민감도 92.9%, 진단력이 84.8%였다. 6. Streptococcus mutans colony count 검사법을 기준검사 방법으로 하였을 때 레이저 형광법을 이용한 우식활성 검사법은 특이도 40.0%, 민감도 84.8%, 진단력이 95.1%였다. 이를 종합해 볼 때 레이저 형광법을 이용하여 관찰한 우식활성 검사법은 기존의 우식활성검사 및 구강환경 검사와 비교적 높은 상관관계, 우수한 진단학적 지표를 보여 주므로써 향후 임상적으로 신뢰도와 타당성이 높은 우식활성 검사법으로서 그 활용 가능성이 높을 것으로 사료된다.
본 논문에서는 RF 마그네트론 스퍼터링법으로 비정질 실리콘을 증착하여 진공분위기에서 엑시머 레이저 어닐링을 이용하여 플라스틱 기판위에 극저온 다결정 실리콘 박막(<$150^{\circ}C$)을 형성하였다. 비정질 실리콘 박막은 $120^{\circ}C$에서 Ar/He 혼합가스로 증착하였으며, Rutherford Backscattering Spectrometry로 측정한 박막내 아르곤 함량은 2% 이하였다. 에너지 밀도 320mJ/$\textrm{cm}^2$일 때 다결정 실리콘의 결정화도는 62%, Root-Mean-Square roughness는 267$\AA$를 나타내었다. 엑시머 레이저 결정화 후 결정립의 크기는 50nm에서 100nm 정도를 나타내었다.
4% 물의 MgO가 도핑된 광굴절 $LiNbO_3$ 결정에 기록된 광굴절 격자의 회절 효율과 응답시간을 측정하였다. 이 실험에는 고출력 펄스 Nd:YAG 레이저(Q-switch mode,$\lambda$=532nm)와 연속 발진 아르곤 이온 레이저($\lambda$=514.5nm)가 사용되었다. 두 종류의 레이저 광속에 대한 실험에서 광학계의 배열을 동일하게 하고 2광파 혼합 조건에서 레이저 광속의 세기를 1.6~100W/$\textrm{cm}^2$까지 변화시켜가며 최대 회절 효율과 기록 및 소거시의 응답시간을 측정하였다. 두 실험에서 얻은 결과를 비교하고 분석 하였다.
초기 우식병소와 건전한 치질은 광학적 특성이 다르다는 사실에 근거하여 치과 치료용으로 개발된 가시광선 영역의 레이저의 형광현상과 광활성재를 이용하여 우식 치질과 건전한 치질간의 광학적 특성의 차이를 색조의 차이로 유도 전환함으로써 초기 우식 병소를 조기에 시각적으로 탐지하여 진단하는 방법을 개발하는데 본 연구의 목적이 있다. 소의 치아를 이용하여 여러 단계 깊이의 인공우식병소를 유발하고 우식병소의 표면에서 아르곤 레이저를 조사하여 건전 치질과 우식 치질 사이의 반사된 형광강도의 차이를 컴퓨터 영상분석프로그램을 통해 측정하였다. 또한 광활성재를 병소의 표면에 도포하여 형광현상의 색조대비 증진효과를 평가하였다. 실제 조직학적 병소와 레이저 형광법 사이의 상관관계 분석 및 회귀 분석을 통하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 레이저 형광법에 의한 우식 치질은 건전 치질보다 어둡게, 그리고 광활성재를 도포한후 레이저 형광법으로 관찰한 우식 병소는 건전 치질 보다 밝게 관찰 되었으며 광활성재를 이용한 레이저 형광법이 탈회의 초기단계에서는 레이저 형광법에 비해 진단학적 민감도가 컸다.
한국광학회 1991년도 제6회 파동 및 레이저 학술발표회 Prodeedings of 6th Conference on Waves and Lasers
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pp.69-73
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1991
모드 동기된 아르곤 이온 레이저를 여기광원으로 사용한 시간상관 단일 광자 계수장치를 이용하여 에탄올 용액 내에서 Rhodamine 6G에서 Rhodamine B로의 에너지 전달에 관하여 연구하였다. 측정된 형광 소멸 곡선은 본 실험실에서 개발한 full-fit program으로 deconvolution 하여 reduced concentration 과 critical transfer distance를 구했다. donor 의 농도가 acceptor의 농도보다 작을 경우에는 Foster 모델이 클 경우에는 Huber 모델이 잘 맞음을 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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