Polycrystalline silicon thin film fabricated on plastic substrates by excimer laser annealing |
조세현
(한국항공대학교 항공재료공학과)
이인규 (한국항공대학교 항공재료공학과) 김영훈 (전자부품연구원 디스플레이센터) 문대규 (전자부품연구원 디스플레이센터) 한정인 (전자부품연구원 디스플레이센터) |
1 | T. Sameshima and S. Ushi, Appl. Phys. Lett. 59, 2724 (1991) DOI |
2 | J. S. Im and H. J. Kim, Appl. Phys. Lett. 64, 2302 (1994) |
3 | H. Watanabe, H. Miki, S. Sugai, K. Kawasaki, and T. Kioka, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 4491 (1994) DOI |
4 | D. K. Fork, G. B. Anderson, J. B. Boyce, R. J. Hohnson, and P. Mei, Appl. Phys. Lett. 68, 2138 (1996) DOI |
5 | A. Okamoto and T. Serikawa, J. Electrochem. Soc. 134, 1479 (1987) DOI ScienceOn |
6 | M. Cao, S. Talwar, K. L. Kramer, T. W. Sigmon, and K. C. Saraswat, IEEE Trans. Electron Devices 43, 56 (1990) |
7 | P. G. Carey, P. M. Smith, S. D. Theiss, and P. Wickboldt, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 4 (1999) |
8 | D. P. Gosain and S. Usui, The Electronchem Soc. Symp. Proc. 98-22, 174. (1998) |