• 한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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• 한국방사성폐기물학회 2016년도 추계학술논문요약집
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• pp.145-146
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• 2016

• 한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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• 한국방사성폐기물학회 2016년도 추계학술논문요약집
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• pp.149-150
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• 2016

• 한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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• 한국방사성폐기물학회 2016년도 춘계학술논문요약집
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• pp.99-100
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• 2016

• 한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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• 한국방사성폐기물학회 2016년도 춘계학술논문요약집
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• pp.135-136
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• 2016

• 한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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• 한국방사성폐기물학회 2015년도 추계학술논문요약집
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• pp.71-72
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• 2015

• 청정기술
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• 제7권3호
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• pp.203-214
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• 2001

플라즈마를 발생시키는 반응기체의 종류에 따라 실리콘 산화막 세정에 어떠한 영향을 미치는지에 대해 연구하였다. 압력 (100 mTorr), 전력 (300 W, 500 W), 전극간 거리 (5, 8, 11.5 cm), 세정시간 (90초, 180초), 가스유량 (50sccm) 등의 변수들을 고정시키고 $CHF_3$, $CF_4$, 아르곤, 산소 등의 세정가스를 변화시키며 세정성능을 비교하였다. 세정결과 아르곤 플라즈마는 단지 물리적인 스퍼터링 효과만으로 세정속도가 느렸다. 산소 플라즈마는 5cm 전극거리, 300W, 180초 세정시 좋은 세정효과를 내었으나, 표면거칠기가 증가하였다. $CF_4$ 플라즈마의 경우 가장 좋은 세정효과를 얻었다. $CHF_3$ 플라즈마는 CFx/F의 비율을 낮출 수 있는 첨가기체가 필요함을 알 수 있었다. $CHF_3$에 아르곤을 첨가하였을 경우에는 원활한 세정효과를 얻을 수 없었으나, 산소를 첨가하였을 경우 좋은 세정효과를 얻을 수 있었다.

• 대한소아치과학회지
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• 제27권1호
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• pp.161-168
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• 2000

본 연구는 치아우식을 유발할 수 있는 모든 요인이 종합적으로 작용하여 이루어진 치면의 최초의 변화 즉, 법랑질 초기우식증의 정도를 아르곤 레이저를 이용한 형광법으로 조기에 탐지하고 이와 같은 방법이 향후 개인에서의 우식이 유발될 수 있는 가능성을 예측할 수 있는 우식 활성검사법으로서의 이용 가능성 이 있는지의 여부를 규명하고자 하는데 목적이 있다. 조선대학교 부속치과병원 소아치과에 내원한 아동중 유구치의 탈락이 없는 $7\sim10$세 사이의 어린이 30명을 대상으로 하여 치아의 순면과 협면에 레이저 조사하고 특수 필터를 사용하여 우식치아의 개수를 측정하여 기존의 우식활성도 측정방법인 $Cariescreen^{(R)}$ test, 구강환경검사인 우식경험치아의 수(dDfFtT) 등 각종 검사법들과 상관관계를 비교, 평가한 바 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 레이저 형광법에 의한 관찰이 육안에 의한 관찰에 비해 초기우식병소를 더 많이 관찰하였다. 2. 아르곤 레이저 형광법을 이용한 우식활성도 측정법은 기존의 $Cariescreen^{(R)}$ test, 그리고 dDfFtT 검사 등과 높은 상관 관계를 나타냈다.

• 센서학회지
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• 제9권3호
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• pp.153-162
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• 2000

평형수소 삼중점 (13.8033 K)부터 물의 삼중점 (273.16 K) 온도영역에서 표준온도계로 사용되는 캡슐형 백금저항온도계를 일차 교정하려면 고순도 물질의 삼중점이 사용된다. 국제온도눈금-1990 (ITS-90)을 확립하기 위해 평형수소, 네온, 산소, 아르곤, 수은 및 물의 삼중점 중에서 평형수소의 삼중점을 제외한 5 개의 삼중점을 실현하였다. 각각의 삼중점에서 국제비교용으로 채택된 캡슐형 백금저항온도계 2대의 저항을 2회 반복하여 측정하였다. 측정된 삼중점에서의 합성표준불확도는 A형 불확도와 B형 불확도 평가방법을 고려하여 산출하였다. 한국표준과학연구원에서 ITS-90에 정의된 네온, 산소, 아르곤, 수은 및 물의 삼중점에서의 합성표준불확도 추정결과는 각각 0.18 mK, 0.14 mK, 0.14 mK, 0.24 mK 및 0.11 mK 이었다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제39권4호
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• pp.35-40
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• 2002

일함수가 낮은 바나듐과 몰리브덴을 장벽금속으로 사용하여 초절전형 SBR을 제조하였다. 일함수가 낮은 장벽금속을 사용함으로서 나타나는 역방향 누설전류를 감소시키기 위해 n-Si층에 아르곤 이온을 1×10/sup 14/ ion/㎠, 40 keV로 주입하였다. 제조된 소자의 전기적 특성은 60 A/㎠의 동일한 전류밀도에서 Mo-SBR의 V/sub F/는 0.39 V이고 V-SBR은 0.25 V로서 매우 낮은 V/sub F/를 나타내었다. 이에 따라 아르곤 이온주입에 의해 제조된 Y-SBR의 역방향 누설전류는 일반적인 V-SBR과 비교하여 20㎂ 이상 감소됨을 확인할 수 있었다. 또한, 아르곤 이온주입으로 인한 소자의 특성저하는 나타나지 않았다.

• 공업화학
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• 제19권6호
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• pp.640-644
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• 2008

저온 플라스마 공정을 이용하여 알루미늄 표면에 묻은 윤활유를 세정하였다. 아르곤이 혼합된 산소 플라스마를 사용하였으며, 아르곤의 혼합비, 방전전력, negative DC potential 등의 공정변수를 변화시키면서 실험을 수행하였다. 저온 플라스마 세정 후 케이스의 표면을 FTIR과 EDX를 사용하여 분석한 결과 순수 윤활유의 경우 대부분이 20 min 안에 제거되었다. 제거효율은 저온 플라스마 공정조건에 따라 크게 달라졌으며, 산소에 아르곤이 약 30% 혼합된 기체를 사용하여 케이스에 -500 V 이상의 negative DC potential을 걸어주고 300 W로 처리할 때 가장 높은 효율을 보였다. 하지만, 무기물이 함유된 윤활유의 경우에는 어떤 조건에서도 60% 이상의 제거효율을 얻을 수 없었다.