• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2006.11a
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• pp.269-270
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• 2006

이온빔 스퍼터를 사용하여 PC기판위에 $TiO_2$ 박막을 증착한 후 광학적 특성을 고찰하였다. 증착 전 어시스트 이온건을 사용하여 아르곤 플라즈마로 표면처리를 하였으며, Ti 박막을 $300{\AA}$정도로 증착한 다음, 그 위에 산소 반응스퍼터링 기법을 사용함으로써 $TiO_2$박막을 증착하였다. 표면처리에 의한 기판의 표면개질로 TI 버퍼층과의 막부착력을 높이고, 아르곤 산소의 분압비를 1로 고정하였을 때, $TiO_2$박막의 두께에 따라서 박막의 색상이 변화는 것을 관찰할 수 있었다. 또한, 아르곤과 산소의 분압 변화에 대한 의존성은 $TiO_2$박막의 색상과 투과율과 같은 광학적인 성질에 영향을 미치는 것을 알 수 있었다.

• Korean Journal of Food Science and Technology
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• v.53 no.5
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• pp.634-639
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• 2021

This study investigated the effects of cold plasma (CP) treatment on the properties of biopolymer films prepared with defatted mustard meal (DMM films). CP treatments using N₂, O₂, He, Ar, and dry air did not affect the tensile properties, water vapor permeability, color, and morphology of DMM films, whereas the treatments using He and Ar improved their printability. The tensile strength (TS) of O₂- or air-CP-treated DMM films and the elastic modulus (EM) of O₂-, He-, Ar-, or air-CP-treated films were lower than those of the untreated films. An increase in the power of Ar-CP treatment resulted in an increase in EM. The optimum treatment power and time for minimizing yellowness changes by Ar-CP treatment were 420 W and 40 min, respectively. The results demonstrated the potential application of CP treatment to improve the film properties of DMM films and possibly other agricultural by-product-based biopolymer films, making the films more applicable to food packaging.

• Polymer(Korea)
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• v.29 no.6
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• pp.581-587
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• 2005

Commercial polyurethane film (PU) was modified with Ar plasma ionized in dielectric barrier discharge (DBD) plate-type reactor under atmospheric pressure. We measured the change of the contact angle and the surface fee energy with respect to the plasma treatment conditions such as treatment time, RF-power, and Ar gas flow rate. We also optimized the plasma treatment conditions to maximize the surface peroxide concentration. At the plasma treatment time of 70 sec, the power of 120 W and the Ar gas flow rate of 5 liter per minute (LPM), the best wettability and the highest surface fee energy were obtained. The 1,1 diphenyl-2-picrylhydrazyl (DPPH) method confirmed that the surface peroxide concentration was about 2.1 nmol/$\cm^{2}$ at 80 W, 30 sec, 6 LPM.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.3 no.6
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• pp.575-584
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• 1993

The effects of atmosphere on the creep rupture properties of Ni-base superalloy Ren6 80 were investigated. Creep rupture tests were performed at $760^{\circ}C$, 657MPa and 982%, 157MPa under Ar gas atmospheres. Creep rupture mode and rupture properties (rupture life and elongation) were similar in two different atmospheres under the condition of $760^{\circ}C$, 657MPa. However, the results at $982^{\circ}C$, 157MPa showed different creep rupture mode and life between air and Ar gas atmospheres. In air, it was shown that creep cracks were initiated at surface-exposed grain boundaries and propagated along grain boundaries. In Ar gas atmosphere, the cracks were initiated at inner grain boundaries and coalesced to surface cracks which cause cup-and-cone type fracture. Due to protective oxide layer formation, air test showed longer rupture life than Ar test.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.6 no.4
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• pp.359-363
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• 1997

We have investigated the surface characteristics of n-GaAs (100) treated with Ar plasma (40 W, 5~120 sec) by photoreflectance (PR) measurement. With increasing Ar plasma treatment time, the intensity of $E_0$ peak observed to the minimum at 5 sec. The surface electric field ($E_0$), net carrier concentration ($N_P-N_A$), and surface state density ($Q_{SS}$ are $1.05{\times}10^5V/cm$ and $1.31{\tiems}10^{17}cm^{-3}$ and $1.64{\times}10^{-7}C/m^2$, respectively. These values were about 57.1, 81.4 and 56.9% smaller than those of bulk n-GaAs. On the other hand, the concentration of compensation centers ($N_A$) was maximum with value of $5.75{\times}10^{17}cm^{-3}$ at 5 sec. And penetration depth of defects generated after treated with Ar plasma was about 450 $\AA$ from surface.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.5 no.2
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• pp.266-271
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• 1994

The output power and the energy of Rh-6G dye laser were enhanced by the mixture of Rh-560 dye whose fluorescence spectrum was coincident with the absorption spectrum of Rh-6G. The argon filled coaxial flashlamp used for pulsed pumping and argon laser for CW pumping. The concentration of Rh-6G dye was optimized in each pumping method before Rh-560 dye was mixed in Rh-6G dye solution. In the coaxial flash lamp pumped Rh-6G laser the output energy was increased about 30% when Rh-560 was mixed at 1% of Rh-6G concentration. In the case of argon laser pumping with multiline, the output power was increased 18% at the concentration of 2.5%. In the single line laser pumping, the output power was enhanced more efficiently. The power enhancements were 72% and 88% when the pumping wavelengths were 488 nm and 514.5 nm respectively. ively.

• Clean Technology
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• v.24 no.4
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• pp.348-356
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• 2018

The adsorption equilibria of oxygen, nitrogen and argon on carbonaceous adsorbent with slit-shaped and randomly etched graphite (REG) pores were calculated by molecular simulation method. Reliable models of adsorbents and adsorbates for adsorption equilibria are important for the correct design of industrial adsorptive separation processes. At the smallest physical pore of $5.6{\AA}$, only oxygen molecules were accommodated at the center of the slit-shaped pore, and from $5.9{\AA}$ nitrogen and argon molecules could be accommodated in the pores. Slit pores showed higher adsorption capacity compared with REG pores with same averaged reenterance pore size due to dead volume and inaccessible volume in defected pores. And it was shown the adsorption capacities of oxygen and argon was same in larger pore size. From calculated adsorption isotherms at 298 K it showed that the adsorption capacity ratio of oxygen to nitrogen is increased as pressure is increased.

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.3 no.1
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• pp.11-24
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• 1996

부분압이 다른 여러 가지 반응성 가스분위기하에서 이른곤 이온을 이용하여 PC, PET PMMA 그리고 PTFE 폴리머 표면의 삼차 증류수에대한 진수성을 증대하였다. 폴리머 표면의 친수성의 변화는 여러 가지 반응성 가스 분위기하에서 아르곤 이온의 조사량을 1014 부터 1x1017cm2까지 변화하면서 조사하였다. 접촉감은 아르곤 이온이 조사되는 폴리머 표면 근처에 유입된 가스의 방응성(O2>N2>H2)에 따라 많이 감소하였다, 폴리머 표면에 형성된 친수성기는 XPS Cls, Ols, 그리고 Nls 스펙트럼을 분석하여 확인하였다. 표면 개질된 PC와 PTFE에 대한 Al 금속의 접착력 증대를 Scotch tape와 인장실험을 통하여 확인하였다. 접착 력 증가는 표면 에너지 중 polar force의 증가에 의한 것으로 입증되었다. 에너지를 가진 아 르곤 입자 폴리머 체인 그리고 반응성 가스 사이의 반응기구는 2단계 모델로 설명가능하였 는데 그 기구는 첫 번째 이온의 조사에 의한 불안정한 폴리머 체인의 형성과 두 번째 단계 로 이렇게 형성된 폴리머 체인과 반응성 가스들 사이의 화학반응으로 이루어진다. 질화아루 미늄의 표면을 산소분위기하에서 아르곤 빔을 조사하여 표면개질한후 AlON층이 새롭게 형 성된 것을 XPS를 이용하여 확인할수 있었다. 개질된 질화알루미늄과 구리금속 박막간의 접 착력을 scratch 실험을 통하여 조사하였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2016.02a
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• pp.208.1-208.1
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• 2016

히드라란 단세포 생물로써 강장동물에 속한다. 촉수가 많이 있으며, 그 촉수에는 독이 있다. 번식 방식으로는 출아법을 이용한다. 출아를 할 때에는 한 마리가 아닌 여러 마리의 히드라가 동시에 출아를 하기도 하며, 출아를 하고 있는 히드라는 촉수가 들어난 순간부터 먹이 섭취가 가능해진다. 이 출아법을 이용하여 번식을 하는 히드라가 DBD처리를 했을 시, 히드라 출아에 차이를 보인다면 다른 생물에게도 DBD 처리를 했을 시, 영향을 미친다고 생각하고 실험을 진행하였다. DBD(Dielectric Barrier Discharge)는 두 전극 사이에 유전체층이 있으며, 외부에서 교류 전압을 가해준다. 그러면 유전체 사이에서 방전이 발생되는데, 방전된 것을 플라즈마라고 한다. DBD라는 유전체 장벽 방전으로써 주위를 이온화 시켜 만드는 플라즈마에 유전체를 씌어 생물에게 최대한 해가 되지 않도록 만든 것이다. 유전체 장벽 방전에ROS(Reactive Oxygen Species)라는 산소와 결합된 기체들이 생성된다. DBD로 인해서 생성되는 ROS를 히드라에 처리했을 경우 히드라 출아수에 변화를 통해서 해를 끼치는 정도를 알아보고자 하였다. 그 결과 아르곤 기체에 의한 ROS로 처리한 히드라는 대조군 보다 히드라의 출아수의 변화가 있는 것으로 관찰되었고, 공기를 이용하여 방전한 DBD의 ROS로 처리한 히드라는 대조 군과 비교하여 큰 변화가 없어 보였다. 따라서 아르곤 대기압 DBD플라즈마를 이용하여 만든 ROS가 히드라에게 직접적인 영향을 준 것으로 보였다. 이 결과를 토대로 아르곤DBD를 이용한 ROS 처리는 생물에게 영향을 줄 수 있다는 것을 이 실험을 통해 간접적으로 확인해 볼 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.561-561
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• 2013

볼츠만 관계식을 아르곤과 산소 플라즈마에서 공간상의 전자 전류 측정과 전자에너지 분포함수의 측정을 통해 실험적으로 검증하였다. 전자의 에너지 분포가 볼츠만 관계식을 따를 때, 탐침의 전위를 고정시켜 각 위치마다 측정 할 경우 탐침과 플라즈마 간의 전위차의 감소와 플라즈마 밀도 감소가 서로 상쇄되는 효과로 인해 공간상에서 전자전류가 일정하게 측정이 된다. 또한 볼츠만 관계식을 전자역학적으로 해석할 때, 전자에너지 분포함수의 비국부적 특성을 의미하기 때문에 공간상에서 전자에너지 분포함수가 일정하게 측정된다. 낮은 압력에서 전자전류는 공간상에서 일정하였고, 전자에너지 분포함수 또한 전체 에너지 상에서 일치하는 것을 확인할 수 있었다. 이는 전자가 아르곤과 산소 플라즈마에서 각각의 경우에 볼츠만 관계식을 따르는 것으로 볼 수 있다. 하지만 압력이 높을 때, 산소 플라즈마인 경우 볼츠만 관계식 따르지 않았지만 아르곤 플라즈마에서는 여전히 볼츠만 관계식을 따르는 것을 확인할 수 있었다. 이러한 차이는 산소기체의 경우 분자기체에서 비탄성 충돌을 유발하는 반응들이 다양한 전자에너지 영역에 대해서 존재하여, 전자의 에너지 특성이 비국부적 영역에서 국부적 영역으로 전이가 되기 때문인 것으로 해석할 수 있다. 또한 챔버 벽면으로 빠져나가는 전자에 대해서도 볼츠만 관계식을 실험적으로 검증을 해 보았고, 플라즈마 내에서의 결과와 유사한 경향성을 관찰할 수 있었다.