• Title/Summary/Keyword: 실리콘 센서

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An On-Line Measurement of Ethanol Concentration by Membrane Gas Sensor (막가스센서에 의한 에탄올 농도의 온라인 측정)

  • 김형찬;박민선
    • KSBB Journal
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    • v.10 no.2
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    • pp.126-130
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    • 1995
  • A membrane gas sensor was developed for the measurement of ethanol concentration during acetic acid fermentation. The fermentation broth including ethanol was permeated through the silicone membrane by synthetic air as a carrier gas and was detected by a semiconductor gas sensor. The optimum conditions of membrane gas sensor were 20m1/min of flow rate and 0.5mm of membrane thickness. In acetic acid fermentation, an on-line measurement of ethanol concentration was conducted by the proposed membrane gas sensor and then the on-line sensor signal, was compared with the result of off-line analysis by gas chromatography. As a result, a correlated response over the range of $0∼70g/\ell$ was shown between membrane gas sensor and gas chromatography and this use of membrane gas sensor was experimentally ascertained for the monitoring and control of bioprocess like acetic acid fermentation.

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Sensitivity Control and Design of the Silicone Foot Sensor Using FEM (유한요소 해석을 통한 실리콘 족적 센서의 감도 조절 및 설계)

  • Seong, Byuck Kyung;Seo, Hyung Kyu;Lee, Jin Wook;Kwon, Ae-Ran;Kim, Dong Hwan
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.31 no.11
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    • pp.1041-1050
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    • 2014
  • A design and analysis for new foot sensor that measures pressure distribution while walking or running in daily life is introduced. In the process of the sensor design, the shape, mechanism composing of the sensor, and variables that dominate sensor's sensitivity are investigated. Through these variables analysis, an optimal shape and dimension were determined. The effects of variables on sensor's sensitivity and the relationship between each variable are proved by analyses and experiments.

Deposition of a-SiN:H by PECVD (PECVD에 의한 질화 실리콘 박막의 증착)

  • Hur, Chang-Wu
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.11 no.11
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    • pp.2095-2099
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    • 2007
  • In this paper, the optimum amorphous silicon nitride thin film is deposited using plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD). Amorphous silicon nitride is deposited using $SiH_4$ and $NH_3$ gas. At this time, electrical and optical characteristics of amorphous silicon nitride and deposition rate are changed under deposition condition such as $SiH_4$, $NH_3$ and $N_2$ gas flow rate, chamber pressure, rf power and substrate temperature. From the experimental results, we can estimate that the deposition condition makes a good electrical characteristic of amorphous silicon nitride thin film.

Fabrication of the pyramid-type silicon tunneling devices for displacement sensor applications (변위센서응용을 위한 피라미드형 실리콘 턴널링소자의 제조)

  • Ma, Tae-Young;Park, Ki-Cheol;Kim, Jeong-Gyoo
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.9 no.3
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    • pp.177-181
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    • 2000
  • The tunneling current is exponentially dependent on the separation gap between a pair of conductors. The detection of displacement can be, therefore, carried out by measurment of a variation in the tunneling current. In this experiment, we fabricated pyramid-type silicon tunneling devices in which a tunneling current flow between a micro-tip and $Si_3N_4$ thin film membrane. A MEMS process was used for the fabrication of the tunneling devices. The micro-tips were formed on Si wafers by undercutting a differently oriented square of $SiO_2$ with KOH. The stiffness of the $Si_3N_4$ films were observed and the model for the stiffness calculation, which is useful in predicting the stiffness even when the stiffness ranges beyond the scope of the normal experimental condition, was suggested.

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Effect on the surface passivation of i-a-Si:H thin films formed on multi-crystalline Si wafer (유도결합플라즈마 CVD법을 이용한 비정질 실리콘 박막증착을 통한 다결정 실리콘 기판의 표면 passivation 특성평가)

  • Jeong, Chaehwan;Ryu, Sang;Lee, Jong-Ho;Kim, Ho-Sung
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2010.06a
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    • pp.82.1-82.1
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    • 2010
  • 수소화된 비정질 실리콘 박막을 이용한 반도체는 현재 태양전지, 트랜지스터, 매트릭스 배열 및 이미지 센서 등의 분야에서 이용되고 있다. 자세히 이야기 하면, 여러 가지의 광전효과 물질에 대한 특성이 있으며, 가시광선영역에 대하여 > $10^5cm^{-1}$이상의 매우 높은 광흡수계수와 낮은 온도를 갖는 증착공정 등이 있다. 박막의 밴드갭은 약 1.6~1.8eV로서 태양전지의 흡수층과 passivation층으로 적절하다. 여러 가지 종류의 태양전지 중 비정질 실리콘 박막/결정질 실리콘 기판의 구조로 이루어진 이종접합 태양전지는 저온에서 공정이 가능한 대표적인 것으로서 HIT(Heterojunction with Intrinsic Thin layer)구조로 산요사에 의해 제안된 것이다. 이것은 결정질 실리콘 기판과 도핑된 비정질 실리콘 박막사이에 얇은 진성층 비정질실리콘 박막을 삽입함으로서, 캐리어 전송을 좋게하여 실리콘 기판 표면의 passivation효과를 증대시키는 결과를 가지고 온다. 실험실 규모에서는 약 20%이상의 효율을 보이고 있으며, 모듈에서는 19.5%의 높은 효율을 보이고 있어 실리콘 기판을 이용한 고효율 태양전지로서 각광을 받고 있다. 이러한 이종접합 태양전지의 대부분은 단결정 실리콘을 사용하고 있는데, 점차적으로 다결정 실리콘 기판으로 추세가 바뀌고 있어, 여기에 맞는 표면 passivation 공정 및 분석이 필요하다. 본 발표에서는 다결정 실리콘 기판위에 진성층 비정질 실리콘 박막을 유도결합 플라즈마 화학기상 증착법(ICP-CVD)을 이용하여 제조하여 passivation 효과를 분석한다. 일반적으로 ICP는 CCP(coupled charged plasma)에 비해 약 100배 이상 높은 플라즈마 밀도를 가지고 있으며, 이온 충돌같은 표면으로 작용하는 것들이 기존 방식에 비해서 작다라는 장점이 있다. 먼저, 유리기판을 사용하여 ICP-CVD 챔버내에 이송 한 후 플라즈마 파워, 온도 및 가스비(SiH4/H2)에 따른 진성층 비정질 실리콘 박막을 증착 한 후, 밴드갭, 전도도 및 결합구조 등에 대한 결과를 분석한 후, 최적의 값을 가지고 250um의 두께를 갖는 다결정 실리콘을 기판위에 증착을 한다. 두께(1~20nm)에 따라 표면의 passivation이 되는 정도를 QSSPCD(Quasi steady state Photoconductive Decay)법에 의하여 소수캐리어의 이동거리, 재결합율 및 수명 등에 대한 측정 및 분석을 통하여 다결정 실리콘 기판의 passivation effect를 확인한다. 제시된 데이터를 바탕으로 향후 다결정 HIT셀 제조를 통해 태양전지 효율에 대한 특성을 비교하고자 한다.

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Fabrication of the thermopile using SOI structure (SOI 구조를 이용한 열전쌍열(Thermopile) 제작)

  • Lee, Young-Tae;Takao, Hidekuni;Ishida, Makoto
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.11 no.1
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    • pp.1-8
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    • 2002
  • In this paper, a thermopile which is applied to wide uses of temperature measuring was fabricated and its characteristic was improved by appling SOI structure to the fabrication. We improved characteristic of the thermopile by using single crystal silicon strips that has high seebeck coefficient and dielectric isolating the silicon strips from substrate with silicon dioxide film which dramatically decrease thermal conductivity between hot and cold junction compared to a silicon strip which was fabricated by ion implantation. The thermopile consists of 17 p-type single crystal silicon strips and 17 n-types by serial connection. The result of electromotive force measuring showed very good characteristic as 130mV/K when temperature difference between the two ends of the thermopile occurs by applying light on the thermopile fabricated with silicon strips of $1600{\mu}m$ length, $40{\mu}m$ width, $1{\mu}m$ thickness.

Electrochemical methodologies for fabrication of urea-sensitive electrodes composed of porous silicon layer and urease-immobilized conductive polymer film (전기화학적 방법을 이용한 다공질 실리콘 구조 형성, 전도성 고분자코팅, 및 urease 고정화와 감도 특성)

  • Jin, Joon-Hyung;Kang, Moon-Sik;Song, Min-Jung;Min, Nam-Ki;Hong, Suk-In
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2003.07c
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    • pp.1938-1940
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    • 2003
  • 본 연구는 요소 센서 제작을 위한 과정으로서, 전기화학적 방법을 이용한 다공질 실리콘 구조 형성과, PDV(Physical Vapor Deposition) 법에 의한 백금 박막 코팅 및 전기화학적 전도성 고분자 코팅과 urease 고정화 단계를 고찰하고 감도 특성을 제시 하였다. 전극 기질로서 B을 도우핑한 p-type 실리콘웨이퍼를 사용하였고, HF:$C_2H_5OH:H_2O$=1:2:1의 부피비를 갖는 에칭 용액에서 5분간 -7 $mA/cm^2$의 일정 전류를 가하여 폭 2 ${\mu}m$, 깊이 10 ${\mu}m$의 다공질 실리콘(PS) 충을 형성하였다. 그 위에 200 ${\AA}$의 Ti 층을 underlayer로서 증착하고, 2000 ${\AA}$의 Pt를 중착하여 PS/Pt 박막 전극을 제작하고, 전도성 고분자로서 polypyrrole (PPy), 또는 poly(3-mehylthiophene) (P3MT)을 전기화학적으로 코팅한 후, urease(EC 3.5.1.5, type III, Jack Bean, Sigma)를 고정화 하였다. 고정화 시 전해질 수용액의 pH는 7.4로 하여 urease표면이 음전하를 갖도록 하고, 전극에 0.6 V (vs. SCE(Saturated Calomel Electrode))의 일정 전압을 가함으로써 urease가 전도성 고분자 표면에 전기적으로 흡착되도록 하였다. 이상의 방법으로 제작한 요소 센서의 감도는 PPy와 P3MT를 전자 전달 매질로 사용한 경우, 각각 8.44 ${\mu}A/mM{\cdot}cm^2$와 1.55 ${\mu}A/mM{\cdot}cm^2$의 감도를 보였다.

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Ultra-High Responsive Dissolved Oxygen Sensor for Bio/Environmental Sensor Applications (바이오/환경 센서 응용을 위한 응답특성이 향상된 초소형 용존산소 센서)

  • Lee, Yi-Jae;Kim, Jung-Doo;Park, Jae-Yeong
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.1541_1542
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    • 2009
  • 본 논문에서는 바이오/환경센서 응용을 위해 실리콘 기판위에 나노 동공구조 백금 전극을 작동전극으로 갖는 소형화된 용존산소센서를 설계 및 제작하고 그 특성을 분석하였다. 제작된 용존산소 센서는 15 mm $\times$ 8 mm $\times$ 0.6 mm의 소형화된 크기를 가졌으며, -0.9 V의 인가전위 시에 각각 산소 포화 상태와 무산소 상태에서 2.14 mA와 0.8 mA의 환원전류 특성을 보였다. 또한, 다양한 산소 농도상태에서 각기 다른 전류응답 차이를 보였다. 이를 통해서 다양한 산소농도에 대한 센싱특성을 검증하였다. 한편, 제작된 용존산소 센서는 전극제작에 사용된 나노 동공구조 백금 전극의 높은 촉매 특성에 기인하여 90% 전류응답시간이 7초 이내로 기발표된 다른 연구들에 비해 현저히 향상된 응답특성을 보였다.

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