스퍼터링을 이용한 실리콘 상의 세륨산화막 형성 과정에서의 기판가열 및 증착 두께 조건에 따른 특성 연구 (Study on Properties of Cerium Oxide Layer Deposited on Silicon by Sputtering with Different Annealing and Substrate Heating Condition)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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- pp.202-202
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- 2008