• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.104-104
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• 2000

MOS소자의 크기가 작아짐에 따라 gate 유전막의 두께 또한 얇아져야 한다. 두께가 얇아짐에 따라 gate 유전막으로써 기존의 SiO2는 direct tunneling으로 인해 높은 누설전류를 수반한다. 그래서 높은 유전상술르 가지는 물질들에 대한 연구의 필요성이 대두되고 있다. 그중 CVD-Ta2O5는 차세대 MOSFET소자기술에 있어서 높은 유전상수($\varepsilon$r+25)와 우수한 step coverage 때문에 각광을 받고 있는 물질중에 하나이다. 본 연구에서는 Ta2O5를 gate를 유전막으로 사용하고 RTN처리와 wet oxidation을 접목시켜 이들의 전기적인 특성을 향상시킬 수 있었다. p-형 wafer 위에 D2와 O2를 사용하여 SiO2(100 )를, NH3를 이용하여 Nitridation(10 )을 전처리로써 각각 실시하였고 그 위에 MOCVD방법으로 Ta2O5를 80 성장시켰다. 첫 번째 시편은 45$0^{\circ}C$ 10min동안 wet oxidation을 시켰고, 두 번째 시편은 $700^{\circ}C$ 60sec동안 NH3 분위기에서 RTN 처리를 하였다. 세 번째 시편은 동일조건으로 RTN 처리후 wet oxidation을 하였다. 그 후 각각의 시편을 capacitor를 제작하고 그 전기적 특성을 관찰하였다. Wet oxidation만을 시킨 시편은 as-deposited Ta2O5 시편에 비해서 -1.5V에서 누설전류는 약 2~3 order정도 감소되었고 accumulation 영역에서의 capacitance 값은 oxide층의 성장(5 )을 무시하면 거의 변화하지 않았다. RTN처리만 된 시편의 경우는 -1.5V에서 누설전류는 2~3order 정도 증가되었지만, accumulation 영역에서 capacitance 값은 거의 2qwork 증가하였다. 이 두가지 공정을 접목시킨 즉 RTN 처리후 wet oxidation 처리된 시편의 경우는 as-deposited Ta2O5 시편에 비해서 -1.5V에서 누설전류는 1 order 정도 감소하였고, accumulation 지역에서의 capacitance 값은 약 2배 증가하였다. 즉 as deposited Ta2O5 시편의 accumulation 지역의 capacitance 값은 12.8 fF/um2으로써 그 유효두께는 27.0 이었지만, RTN 처리후에 wet oxidation 시킨 시편의 accumulation 지역의 capacitance값은 21.2fF/um2으로써 그 유효두께는 16.3 이 되었다. 결론적으로 as deposited Ta2O5 시편에 RTN 처리후 wet oxidation을 실시한 결과 capacitance 값이 약 2배정도 증가하였고 누설전류는 약 1 order 정도 감소됨을 확인하였다.

• Applied Microscopy
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• v.34 no.2
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• pp.95-102
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• 2004

The TEM samples prepared by ion milling have the advantage that thin area can be obtained from almost any materials. However, it has the disadvantage that the amount of thin area can often be quite limited. For the cross-sectioned samples and grossly heterogeneous materials, the thickness of less than $0.1{\mu}m$ can be achieved by mechanical grinding and polishing (tripod polisher) and then the TEM samples may be ion-milled for final thinning or cleaning. These approaches were described in this paper. Examples of TEM observations were taken from cross-section samples of thin films on silicon and sapphire, from diffusion layers between $Mo_5Si_3\;and\;Mo_2B$, and from rapidly solidified 304 stainless steel powders embedded in electroplated copper.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.172-172
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• 2011

현대 반도체 금속배선 연구에서는 기존에 쓰이던 Al (Aluminium) 금속배선 대신에 Cu(Copper) 금속배선 연구가 진행 되고 있다. Cu는 Al 보다 비저항이 낮고, 녹는점도 Al보다 높다는 장점이 있지만 저온에서 기판인 Si (Silicon) 과 반응하고 접착력이 우수하지 못 하다는 단점이 있다. 이런 문제를 해결하기 위하여 확산방지막을 기판과 금속배선 사이에 삽입하는 방법이 제시 되었다. 확산방지막으로는 기존에 쓰이던 Ti (Titanium) 계열의 확산방지막과 W (Tungsten) 계열의 확산방지막이 있다. 이번 연구에서는 W 계열의 확산방지막에 불순물 C (Carbon), N(Nitrogen)을 첨가한 W-C-N 확산방지막 시편을 제조하였고, N2의 비율을 변화시키며 $600^{\circ}C$ 열처리를 하였다. 실험 결과 질소의 포함 농도에 따라 확산방지막의 안정도가 변화한다는 결과를 얻었으며, 질소 첨가량에 따라 시편의 표면 보다는 시편의 중간층의 물성 변화율이 큰데 이는 시편 표면의 질소는 열처리 중 확산에 의한 시편과의 분리 현상이 일어나지만 시편의 중간층은 trap현상에 의하여 시편에 남아있어 질소의 영향을 받아 시편의 중간층이 더욱 질소 유량에 따른 영향이 큰 것을 확인하였다. 이 결과로부터 W-C-N 박막은 첨가된 질소의 유량에 따라 박막의 안정도가 결정된 다는 것을 알았다. 본 연구에서 시편은 rf magnetron sputtering 방법으로 제작하였고 연속압입 실험은 Hysitron사의 Triboindenter를 이용하였다. Indenting에 사용된 압입팁은 Berkovich tip을 사용하였다.

• Journal of the Korean Society for Nondestructive Testing
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• v.32 no.1
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• pp.12-19
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• 2012

This study conducted infrared (IR) thermography tests using pipe and plate specimens with artificial wall-thinning defects to find an optimal condition for IR thermography test on the wall-thinned nuclear piping components. In the experiment halogen lamp was used to heat the specimens. The distance between the specimen and the lamp and the intensity of halogen lamp were regarded as experimental parameter. When the distance was set to 1~2 m and the lamp intensity was above 60 % of full power, a single scanning of IR thermography detected all artificial wall-thinning defects, whose minimum dimension was $2{\Theta}=90^{\circ}$, d/t=0.5, and $L/D_o=0.25$, within the pipe of 500 mm in length. Regardless of the distance between the specimen and the lamp, the image of wall-thinning defect in IR thermography became distinctive as the intensity of halogen lamp increased. The detectability of IR thermography was similar for both plate and pipe specimens, but the optimal test condition for IR thermography depended on the type of specimen.

• Journal of the Korean Society of Propulsion Engineers
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• v.17 no.2
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• pp.31-38
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• 2013

This research analyzed the acoustic emission signals collected from the pin loading tests and investigated the effect of hygrothermal exposure on the fracture behavior of the pin-jointed carbon fiber/epoxy composites. The composite specimens include: the Base specimen that has not been exposed to any environments, the RT specimen that has been immersed in room temperature water, and the HT specimen that has been immersed in high temperature water. According to the pin loading test, the RT and the HT specimens showed 2.2% and 13% decreases in the bearing strength compared to the Base specimen, respectively. The analysis of the acoustic emission signals showed different fracture acceleration points for three types of the specimens. Furthermore, for the RT and the HT specimens, the event from the matrix crack signals in the composites decreased. This shows the effect of the hygrothermal conditions on the acoustic emission signals. Additionally, upon investigating the fracture behaviors of the pin-jointed composites, the exposing specimens to hygrothermal environments decreases the interfacial characteristics of the composites.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.08a
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• pp.284-284
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• 2013

중 에너지 이온 산란 분석법(Medium Energy Ion Scattering Spectrometer, MEIS)은 50~500 keV로 이온을 가속 후 시료에 입사시켜 시료의 원자와 핵간 충돌로 산란되는 일차이온의 에너지를 측정하여 시료를 분석하는 기법으로, 원자층의 깊이 분해능으로 초박막의 표면 계면의 조성과 구조를 분석 할수 있는 유용한 미세 분석기술이다. 본 실험에서 에너지 70~100 keV의 He+ 이온을 사용하여 Pulse Width 1 ns의 Pulsed ion beam을 만들어 Start 신호로 사용하고 Delay-line-detector에 검출된 신호를 End 신호를 이용한 TOF-MEIS System을 개발하였다. 활용 가능한 분석시편으로 Ultra thin film 시편으로 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 4 nm의 HfO2, 1.8, 4nm의 SiO2 시편을 분석 하였으며 Ultra Shallow Junction 시편으로 As Doped Si, Cs Doped Si 시편 및 Composition, Core/shell 구조의 Q-dot 시편으로 CdSe, CdSe/ZnS등 다양한 분석 실험을 진행 하였다. Composition, Core/shell 구조의 Q-dot 시편은 Diamond Like Carbon(DLC)의 Substrate에 Mono-layer로 형성하여 분석하였다.

• Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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• 2012.05a
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• pp.408-410
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• 2012

In this study, High temperature properties of carbon fiber reinforced composites is performed using strand specimens and resin specimens. As for the tensile test at the different temperature, the tensile modulus of resin specimens decreases slightly until the temperature reaches the glass transition temperature. but the tensile modulus of strand specimens maintains tensile modulus at the room temperature. The tensile strength of resin and strand specimens decreases rapidly until the temperature reaches the glass transition temperature.

• Proceedings of the Korean Environmental Sciences Society Conference
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• 2001.11a
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• pp.151-152
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• 2001

본 연구는 하수슬러지 소각재를 이용하여 건축재료로서의 응용 가능성을 조사하였다. 소각재를 주성분으로 하여 $950^{\circ}C$에서 소성한 시편과 보통 포틀랜드 시멘트 (OPC)를 첨가하여 습윤양생을 한 시편을 제작하여 압축 강도를 비교하였다. 소성 시편에서는 전반적으로 압축강도가 150 kgㆍf/$\textrm{cm}^2$ 이상의 높은 강도를 얻을 수 있었으나 변형율이 증가하는 것이 단점으로 나타났다. 또한, 습윤양생한 시편의 경우 소량의 OPC 첨가 만으로도 일정한 압축강도를 유지할수 있었으며, 시편의 변형 또한 줄일 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Nuclear Society Conference
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• 1995.05a
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• pp.718-722
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• 1995

공기중에서 천이점 이후까지 산화된 지르칼로이 시편에 LiF, NaF, KF, NnCl, 그리고 LiOH 등을 흡착시켜 산화실험을 수행하였다. NaF, KF, NaCl을 흡착시킨 시편의 산화가 두드러지게 많이 됨을 확인할 수 있었다. LiF, LiOH를 흡착한 시편은 흡착하지 않은 시편과 큰 차이를 보이지 않고 산화가 진행되었다. 이는 Li의 전분이 초기에 산화막을 형성한 fresh 시편과는 달리 충분히 산화가 진행되어서 초기산화막의 존재가 없는 상태에서 흡착되었기 때문에 흡착의 효과가 거의 없는 것으로 나타났다고 사료된다. 이러한 결과를 이용하여 사용 후 핵연료의 보관시 안전성의 문제, 그리고 DUPIC 핵연료의 제작시에 이용될 수 있는 반복적 산화 환원의 방식에 적용될 수 있다.

• Elastomers and Composites
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• v.36 no.4
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• pp.255-261
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• 2001

This study was related with the effect of elevated temperature on the tensile strength of edge-cut samples. There was a different tensile strength behavior of uncut samples and pre-cut samples under different test temperatures. Tensile strength of uncut sample decreases with increasing test temperature. When pro-cut size(C) is larger than critical cut size($C_{cr}$), tensile strength or pre-cut specimen at $80^{\circ}C$ is higher than that of pre-cut specimen at room temperature (RT). Test specimens under $80^{\circ}C$ condition exhibited more secondary cracks at the crack tip region compared to room temperature conditions. However, secondary cracks of pre-cut specimens are not clearly developed at $110^{\circ}C$. Differences in tensile strength induced by different test temperature seem to be responsible for the strain-induced crystallization and micro-cracking patterns.