• Title/Summary/Keyword: 습식방법

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The measurement of $NO_2$, $SO_2$ by Passive sampler in industrial complex (Passive sampler를 이용한 공단 지역의 $NO_2$, $SO_2$ 측정)

  • 김성근;손찬웅;김선태;인치경
    • Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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    • 2000.04a
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    • pp.125-126
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    • 2000
  • 현재 공단지역에서 발생하는 오염물질을 파악하기 위해서는 오염물질이 배출되는 곳에 TMS를 설치하거나 측정하고자 하는 지점에 습식법을 이용하여 오염물질을 측정하는 방법이 사용되고 있다. 하지만 이러한 TMS나 습식법을 이용하여 오염물질을 측정하기 위해서는 고가의 설치비나 인력 장비 문제로 인하여 동시에 여러 지역을 측정하기 어렵다는 단점을 가지고 있으며, 특히 공단 지역과 같은 특수한 지역의 오염물질의 경향을 파악하기 위해서는 더욱 그러하다. (중략)

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Analysis & Control of Electrolysis for Surface Finishing (습식 도금액 조성의 분석과 관리)

  • Kim, Yu-Sang;Jeong, Gwang-Mi
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2014.11a
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    • pp.125-126
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    • 2014
  • 습식도금에 사용되는 처리액의 성분농도는 다양한 요인 때문에 변화한다. 안정한 품질로서 처리하기 위하여 성분이나 반응생성물 농도를 분석하고 처리액 농도를 파악하여 유지 관리할 필요가 있다. 도금약품개발에 즈음하여 약품제조사는 가동범위가 넓고 불순물 혼입에 강한 조성개발을 시도했다. 본고에서는 표면처리에 사용되는 전처리용액, 도금액 분석에 사용되는 방법, 조성과 관리에 관하 여 기술하였다.

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The Wet Etching Rate of Metal Thin Film by Sputtering Deposition Condition (스퍼터링 증착 조건에 따른 금속 박막의 습식 식각율)

  • Hur, Chang-Wu
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.14 no.6
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    • pp.1465-1468
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    • 2010
  • The wet etching is a process using chemical solution and occurring chemical reaction on substrate surface. when we do wet etching process, we have to consider stoichiometry, etching time and temperature of etchant for good resolution. In this experiment, we used Cr, Al andIndium-tin-oxide (ITO) metal and we deposited them with DC sputtering machine. The Cr thin film metal thickness is about $1300{\AA}$, ITO films show a low electrical resistance and high transmittance in the visible range of an optical spectrum and Ai film is used for signal line. We measured and analysed wet etching properties on the metal thin films.

습식 및 건식 식각으로 표면 텍스처링된 다결정 실리콘 태양전지의 라미네이팅 공정에 대한 연구

  • Kim, Dong-Hae;Son, Chan-Hui;Yun, Myeong-Su;Gang, Jeong-Uk;Jo, Tae-Hun;Cha, Seong-Ho;Kim, Jeong-Sik;An, Jeong-Ho;Kim, Tae-Heon;Lee, Sang-Du;Gwon, Gi-Cheong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.400-400
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    • 2011
  • 습식 식각과 RIE (reactive ion etching) 텍스처링 된 다결정 실리콘 태양전지의 라미네이팅 공정 전 후에 양자 효율과 광학적 특성 및 전기적 특성의 변화를 관찰 하였다. 두 식각 방법을 이용해 라미네이팅 공정 전 습식 식각의 표면 텍스처 태양전지에 비해 RIE 표면 텍스처태양전지에서 높은 양자 효율이 관측 되었지만, 라미네이팅 공정 후에 두 셀을 비교해 보면 RIE 텍스처링 된 것의 양자 효율이 더 낮아지는 것을 확인 할 수 있었다. 300~1,100 nm의 파장 범위에서 10 nm의 간격으로 양자효율, 반사율, 투과율, 흡수율 및 변환 효율을 측정하였다. 또한, 공정 전 후의 셀의 dark current를 측정하였다. 위 연구 결과를 통해 라미네이팅 공정에 따른 다결정 실리콘 태양전지의 특성 변화를 분석 하였다.

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A Study on Wet Etching of Metal Thin Film Deposited by DC Magnetron Sputtering System (DC 마그네트론 스퍼터링 증착 금속 박막의 습식식각에 대한 연구)

  • Hur, Chang-Wu
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2010.05a
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    • pp.795-797
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    • 2010
  • 습식 식각은 식각용액으로서 화학용액을 사용하는 공정으로 반응물이 기판표면에서 화학반응을 일으켜 표면을 식각하는 과정이며, 표면결합의 제거를 위한 식각연마와 폴리싱을 위한 식각, 그리고 구조적 형상 패턴등이 있다. 여기서 화학용액은 산화제 또는 환원제 역할을 하는 혼합용액으로 구성된다. 습식 식각 시 수${\mu}m$의 해상도를 얻기 위해서는 그 부식액의 조성이나, 에칭시간, 부식액의 온도 등을 고려하여야 한다. 또한 습식 식각 후 포토 레지스트를 제거하는 과정에서 포토 레지스트를 깨끗이 제거해야 하며, 제거공정 자체가 a-Si:H 박막을 부식 하지 않을 조건으로 행하여야 한다. 포토레지스트 제거 후 잔류 포토 레지스트를 제거하기 위해서 본 실험에서는 RCA-I 세척 기법을 사용한 후 D.I 로 린스 하였다. 본 실험에서 사용한 금속은 Cr, Al, ITO 로 모두 DC sputter 방법을 사용해서 증착하여 사용하였다. Cr박막은 $1300\AA$ 정도의 두께를 사용하였고, ITO (Indium Tin Oxide) 박막은 가시광 영역에서 투명하고 (80% 이상의 transmittance), 저저항 (Sheet Resistance : $50{\Omega}/sq$ 이하) 인 박막을 사용하였으며, 신호선으로 주로 사용되는 Al등의 증착조건에 따른 wet etching 특성을 조사하였다.

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Flow Analysis of the Wet Flue Gas Desulfurization System for 800MW Power Plant (800MW 습식배연탈황설비 홉수탑 유동특성 해석)

  • 정석용;김중석;문길호;김성원;이호경
    • Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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    • 2003.11a
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    • pp.467-468
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    • 2003
  • 국내 최초 800MW급 석탄화력발전소로서 국제환경 규제 기준치를 능가하는 최첨단 환경 설비를 모두 갖춘 최신 발전소로 건설되고 있는 한국남동발전(주) 영흥화력 1,2호기가 2004년 7월과 12월에 완공을 목표로 보일러 및 습식배연탈항설비의 공사가 진행되고 있다. 이에 당사는 본 공사의 주계약자로서 국내 최대 규모의 최첨단 발전소 건설을 위해 최선의 노력을 경주하고 있다. 영흥화력 1,2호기 습식배연탈황설비는 800MW 2호기로 구성되어 있으며 용량 및 시스템 배열 면에 있어서 기존의 설비들과는 상이하므로 시스템 성능 예측 및 평가와 그에 파생되는 설계개선을 위한 새로운 접근방법이 필요하다. (중략)

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Fabrication of Depth Probe Type Semiconductor Microelectrode Arrays for Neural Recording Using Both Dry and wet Etching of Silicon (실리콘 건식식각과 습식식각을 이용한 신경 신호 기록용 탐침형 반도체 미세전극 어레이의 제작)

  • 신동용;윤태환;황은정;오승재;신형철;김성준
    • Journal of Biomedical Engineering Research
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    • v.22 no.2
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    • pp.145-150
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    • 2001
  • 대뇌 피질에 삽입하여 깊이에 따라 신경 신호를 기록하기 위한 탐침형 반도체 미세전극 어레이(depth-type silicon microelectrode array, 일명 SNU probe)를 제작하였다. 붕소를 확산시켜 생성된 고농도 p-type doping된 p+ 영역을 습식식각 정지점으로 사용하는 기존의 방법과 달리 실리콘 웨이퍼의 앞면을 건식식각하여 원하는 탐침 두께만큼의 깊이로 트렌치(trench)를 형성한 후 뒷면을 습식식각하는 방법으로 탐침 형태의 미세 구조를 만들었다. 제작된 반도체 미세전극 어레이의 탐침 두께는 30 $\mu\textrm{m}$이며 실리콘 건식식각을 위한 마스크로 6 $\mu\textrm{m}$ 두께의 LTO(low temperature oxide)를 사용하였다. 탐침의 두께는 개발된 본 공정을 이용해서 5~90 $\mu\textrm{m}$ 범위까지 쉽게 조절할 수 있었다. 탐침의 두께를 보다 쉽게 조절할 수 있게 됨에 따라 여러 신경조직에 필요한 다양한 구조의 반도체 미세전극 어레이를 개발할 수 있게 되었다. 본 공정을 이용해서 개발된 4채널 SUN probe를 사용하여 흰쥐의 제1차 체감각 피질에서 4채널 신경 신호를 동시에 기록하였으며, 전기적 특성검사에서 기존의 탐침형 반도체 미세전극, 텅스텐 전극과 대등하거나 우수한 신호대 잡음비(signal to noise ratio, SNR)특성을 가짐을 확인하였다.

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The Change of Physical Properties of Artificial aging Paper in the Cleaning Process for the Conservation Treatment of Historical Paper Documents - Focusing on Immersion Wet Cleaning - (고문헌 보존처리의 클리닝 방법에 따른 인공열화지 물성 변화 - 침적 습식클리닝을 중심으로 -)

  • Jeong, Seon Hwa;Cho, An Naa
    • Korean Journal of Heritage: History & Science
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    • v.46 no.1
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    • pp.228-237
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    • 2013
  • Paper relics are affected by a number of complex physical, chemical, biological and artificial damaging factors due to the vulnerability of organic materials. Wet cleaning is a conservation treatment method for removing pollutants from paper artefacts. This study was carried out in order to analyse the effect of wet cleaning on Hanji (Traditional Korean paper made from mulberry trees) which is the main material used in Korean paper relics (historical paper documents). For this study, the color change and folding endurance of artificially degraded paper was analysed before and after immersion wet cleaning. The result showed that washing each twice in 30 minutes is the most appropriate method for obtaining cleaning efficiency and material stability.

Physicochemical Properties of Rice Flour of Different Cultivars using Wet and Dry Milling Processes (제분방법에 따른 품종별 쌀가루의 이화학적 특성 및 소화율)

  • Park, Jiyoung;Lee, Seuk-Ki;Park, Hye-Young;Choi, Hye-Sun;Cho, Dong-Hwa;Lee, Kyung Ha;Han, Sang-Ik;Cho, Jun Hyeon;Oh, Sea-Kwan
    • KOREAN JOURNAL OF CROP SCIENCE
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    • v.62 no.3
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    • pp.184-192
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    • 2017
  • Rice flours from five rice (Oryza sativa L.) varieties with different amylose content were prepared by both wet and dry milling processes. The moisture content of wet-milled rice flours (WMR) was approximately three-times higher than that of dry-milled rice flours (DMR). Water absorption index (WAI), water solubility index (WSI), and swelling power (SP) increased in proportion to temperature. The WAI, WSI and SP values of DMR were higher than those of WMR. Baeokchal (BOC), which is a waxy rice cultivar, had a significantly high WSI value. Pasting properties of DMR, except for the BOC cultivar, resulted in an increase in peak, trough, final, and setback viscosities. The levels of resistant starch in four cultivars, except for Dodamssal (DDS), were under 1%, irrespective of the milling process, whereas the resistant starch contents of DMR and WMR in DDS were 9.18% and 6.27%, respectively. In vitro digestibility of WMR was higher than that of DMR, and the estimated glycemic index of the rice flour varieties ranged from 57.6 to 81.3. Damaged starch content of WMR was less than that of DMR; in addition, a negative correlation was observed between the amylose and damaged starch contents of WMR. These results suggest that the properties of rice flour vary depending on the milling method and flour variety, and could be a reference for selecting the appropriate processing method.